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1. 发明专利

TWI235902B 由具備流量控制裝置的氣體供給設備對腔室的氣體分流供給裝置及氣體分流供給方法有权
简体标题：由具备流量控制设备的气体供给设备对腔室的气体分流供给设备及气体分流供给方法
公开(公告)号：TWI235902B
公开(公告)日：2005-07-11
申请号：TW093114510
申请日：2004-05-21
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：杉山一彥 SUGIYAMA, KAZUHIKO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 NISHINO, KOJI , 土肥亮介 DOHI, RYOSUKE , 上野山豊己
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/00 , G05D7/0623 , G05D7/0652 , G05D7/0658 , G05D7/0664 , G05D11/132 , Y10T137/0379 , Y10T137/0396 , Y10T137/2521 , Y10T137/2529 , Y10T137/2562 , Y10T137/263 , Y10T137/2663 , Y10T137/7761 , Y10T137/8175
摘要：本發明的課題是使由具備流量控制裝置的氣體供給設備，能把預定流量Q的處理氣體，正確又迅速地以所期望的流量比Q1/Q2分流供應到腔室內。
其解決手段：由具備流量控制裝置QCS的氣體供給設備1，把預定流量Q的氣體G，透過在於複數個分支供給管線GL1、GL2上分別裝設開閉閥OV1、OV2，採用位於OV1的下游側而從GL1分支的旁通管線BL1、及位於 OV2的下游側而從GL2分支的旁通管線BL2、及連接到 BL1和BL2之壓力式分流量控制器FV、及測定GL1內的壓力之壓力感測器PS1、及測定GL2內的壓力之壓力感測器 PS2，透過固定在分支供給管線GL1、GL2的末端之噴灑板3、4，以所期望的分流流量Q1、Q2，來將總量Q=Q1+ Q2的氣體分流供應到腔室C內。
简体摘要：本发明的课题是使由具备流量控制设备的气体供给设备，能把预定流量Q的处理气体，正确又迅速地以所期望的流量比Q1/Q2分流供应到腔室内。其解决手段：由具备流量控制设备QCS的气体供给设备1，把预定流量Q的气体G，透过在于复数个分支供给管线GL1、GL2上分别装设开闭阀OV1、OV2，采用位于OV1的下游侧而从GL1分支的旁通管线BL1、及位于 OV2的下游侧而从GL2分支的旁通管线BL2、及连接到 BL1和BL2之压力式分流量控制器FV、及测定GL1内的压力之压力传感器PS1、及测定GL2内的压力之压力传感器 PS2，透过固定在分支供给管线GL1、GL2的末端之喷洒板3、4，以所期望的分流流量Q1、Q2，来将总量Q=Q1+ Q2的气体分流供应到腔室C内。

2. 发明专利

TW200833988A 凸輪式閥审中-公开
简体标题：凸轮式阀
公开(公告)号：TW200833988A
公开(公告)日：2008-08-16
申请号：TW096123095
申请日：2007-06-26
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：土肥亮介 BOHI RYOSUKE , 西野功二 NISHINO, KOJI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 澤田洋平 SAWADA, YOHEI
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K31/04 , F16K7/16 , F16K31/52491
摘要： [發明課題]朝上下方向微調整由步進馬達及凸輪機構形成的致動器就能夠簡單並且容易進行閥的零位調整。[解決手段]針對構成在具有流入通道2a、流出通道2b、閥室2c及閥座2d的閥體2內配設有昇降自如的桿7,由配設在該桿上方位置的步進馬達9及可將步進馬達9的旋轉運動轉換成直線運動傳達至該桿7的凸輪機構10所構成的致動器降下上述桿7,使配設在閥室2c內的隔膜3或設置桿7下端部的閥盤30即席於閥座2d之步進馬達驅動型凸輪式閥1,於上述閥體2的閥室2c覆蓋用的閥帽5設有可將致動器支撐成昇降自如的昇降支撐機構11,於該昇降支撐機構11設有可微調整相對於桿7之致動器高度位置的高度微調整機構12。
简体摘要： [发明课题]朝上下方向微调整由步进马达及凸轮机构形成的致动器就能够简单并且容易进行阀的零位调整。[解决手段]针对构成在具有流入信道2a、流出信道2b、阀室2c及阀座2d的阀体2内配设有升降自如的杆7,由配设在该杆上方位置的步进马达9及可将步进马达9的旋转运动转换成直线运动传达至该杆7的凸轮机构10所构成的致动器降下上述杆7,使配设在阀室2c内的隔膜3或设置杆7下端部的阀盘30即席于阀座2d之步进马达驱动型凸轮式阀1,于上述阀体2的阀室2c覆盖用的阀帽5设有可将致动器支撑成升降自如的升降支撑机构11,于该升降支撑机构11设有可微调整相对于杆7之致动器高度位置的高度微调整机构12。

3. 发明专利

TW200532413A 處理室的內壓控制裝置及內壓被控制式處理室审中-公开
简体标题：处理室的内压控制设备及内压被控制式处理室
公开(公告)号：TW200532413A
公开(公告)日：2005-10-01
申请号：TW093126544
申请日：2004-09-02
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 TERAMOTO, AKINOBU , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 土肥亮介 DOHI, RYOSUKE , 西野功二 NISHINO, KOJI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D16/208 , Y10T137/7761 , Y10T137/8741 , Y10T137/87507
摘要：本發明的課題是針對於防止流量的控制精確在小流量域大幅度地降低，藉由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，調整供給至處理室的氣體流量而在廣範圍全面以高精度控制處理室內壓。本發明用以解決手段是，並列狀地連接的複數台壓力式流量控制裝置，及控制複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置所形成，在將所期望的氣體流量控制至藉由真空泵所排氣的處理室下對於供給的處理室的氣體供給裝置中，將一座壓力式流量控制裝置作為控制供給至處理室的最大流量的最多10％的氣體流量域的裝置，並將剩餘的壓力式流量控制裝置作為控制殘餘的氣體流量域的裝置，藉由調整對於壓力式流量控制裝置的控制信號而控制對於處理室的氣體供給量，俾控制裝置室內壓。
简体摘要：本发明的课题是针对于防止流量的控制精确在小流量域大幅度地降低，借由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，调整供给至处理室的气体流量而在广范围全面以高精度控制处理室内压。本发明用以解决手段是，并列状地连接的复数台压力式流量控制设备，及控制复数台压力式流量控制设备的开动的控制设备所形成，在将所期望的气体流量控制至借由真空泵所排气的处理室下对于供给的处理室的气体供给设备中，将一座压力式流量控制设备作为控制供给至处理室的最大流量的最多10％的气体流量域的设备，并将剩余的压力式流量控制设备作为控制残余的气体流量域的设备，借由调整对于压力式流量控制设备的控制信号而控制对于处理室的气体供给量，俾控制设备室内压。

4. 发明专利

TWI252389B 處理室的內壓控制裝置及內壓被控制式處理室有权
简体标题：处理室的内压控制设备及内压被控制式处理室
公开(公告)号：TWI252389B
公开(公告)日：2006-04-01
申请号：TW093126544
申请日：2004-09-02
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 TERAMOTO, AKINOBU , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 土肥亮介 DOHI, RYOSUKE , 西野功二 NISHINO, KOJI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D16/208 , Y10T137/7761 , Y10T137/8741 , Y10T137/87507
摘要：本發明的課題是針對於防止流量的控制精確在小流量域大幅度地降低，藉由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，調整供給至處理室的氣體流量而在廣範圍全面以高精度控制處理室內壓。
本發明用以解決手段是，並列狀地連接的複數台壓力式流量控制裝置，及控制複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置所形成，在將所期望的氣體流量控制至藉由真空泵所排氣的處理室下對於供給的處理室的氣體供給裝置中，將一座壓力式流量控制裝置作為控制供給至處理室的最大流量的最多10%的氣體流量域的裝置，並將剩餘的壓力式流量控制裝置作為控制殘餘的氣體流量域的裝置，藉由調整對於壓力式流量控制裝置的控制信號而控制對於處理室的氣體供給量，俾控制裝置室內壓。
简体摘要：本发明的课题是针对于防止流量的控制精确在小流量域大幅度地降低，借由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，调整供给至处理室的气体流量而在广范围全面以高精度控制处理室内压。本发明用以解决手段是，并列状地连接的复数台压力式流量控制设备，及控制复数台压力式流量控制设备的开动的控制设备所形成，在将所期望的气体流量控制至借由真空泵所排气的处理室下对于供给的处理室的气体供给设备中，将一座压力式流量控制设备作为控制供给至处理室的最大流量的最多10%的气体流量域的设备，并将剩余的压力式流量控制设备作为控制残余的气体流量域的设备，借由调整对于压力式流量控制设备的控制信号而控制对于处理室的气体供给量，俾控制设备室内压。

5. 发明专利

TW200506326A 差壓式流量計以及差壓式流量控制裝置审中-公开
简体标题：差压式流量计以及差压式流量控制设备
公开(公告)号：TW200506326A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：TW093118669
申请日：2004-06-25
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 杉山一彥 KAZUHIKO SUGIYAMA , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 NISHINO, KOJI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： G01F
CPC分类号： G01F1/50 , G01F1/42 , G05D7/0635
摘要：〔課題〕為求簡化差壓式流量計的構造並降低製造成本，並以即時且排成一列的狀態，在100％～1％的大流量範圍內，進行誤差E為(1％SP)以下的高精度流量量測。〔解決手段〕關於由孔口、孔口上游側的壓力P1的檢測器、孔口下游側的流體壓力P2的檢測器、孔口上游側的流體溫度T的檢測器、以及使用由前述各檢測器得到的檢測壓力P1、P2與檢測溫度T，而運算流過孔口的流體流量Q之控制運算電路所構成的差壓式流量計，乃利用093118669-p01.bmp(但C1為比例常數、m及n為常數)運算前述流體流量Q。
简体摘要：〔课题〕为求简化差压式流量计的构造并降低制造成本，并以实时且排成一列的状态，在100％～1％的大流量范围内，进行误差E为(1％SP)以下的高精度流量量测。〔解决手段〕关于由孔口、孔口上游侧的压力P1的检测器、孔口下游侧的流体压力P2的检测器、孔口上游侧的流体温度T的检测器、以及使用由前述各检测器得到的检测压力P1、P2与检测温度T，而运算流过孔口的流体流量Q之控制运算电路所构成的差压式流量计，乃利用093118669-p01.bmp(但C1为比例常数、m及n为常数)运算前述流体流量Q。

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