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1. 发明专利

TW200506569A 由具備流量控制裝置的氣體供給設備對腔室的氣體分流供給裝置及氣體分流供給方法审中-公开
简体标题：由具备流量控制设备的气体供给设备对腔室的气体分流供给设备及气体分流供给方法
公开(公告)号：TW200506569A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：TW093114510
申请日：2004-05-21
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：杉山一彥 KAZUHIKO SUGIYAMA , 池田信一 NOBUKAZU IKEDA , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 上野山豊己
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/00 , G05D7/0623 , G05D7/0652 , G05D7/0658 , G05D7/0664 , G05D11/132 , Y10T137/0379 , Y10T137/0396 , Y10T137/2521 , Y10T137/2529 , Y10T137/2562 , Y10T137/263 , Y10T137/2663 , Y10T137/7761 , Y10T137/8175
摘要：本發明的課題是使由具備流量控制裝置的氣體供給設備，能把預定流量Q的處理氣體，正確又迅速地以所期望的流量比Q1／Q2分流供應到腔室內。其解決手段：由具備流量控制裝置QCS的氣體供給設備1，把預定流量Q的氣體G，透過在於複數個分支供給管線 GL1、GL2上分別裝設開閉閥OV1、OV2，採用位於OV1的下游側而從GL1分支的旁通管線BL1、及位於OV2的下游側而從GL2分支的旁通管線BL2、及連接到BL1和BL2之壓力式分流量控制器FV、及測定GL1內的壓力之壓力感測器PS1、及測定GL2內的壓力之壓力感測器PS2，透過固定在分支供給管線GL1、GL2的未端之噴灑板3、4，以所期望的分流流量 Q1、Q2，來將總量Q＝Q1＋Q2的氣體分流供應到腔室C內。
简体摘要：本发明的课题是使由具备流量控制设备的气体供给设备，能把预定流量Q的处理气体，正确又迅速地以所期望的流量比Q1／Q2分流供应到腔室内。其解决手段：由具备流量控制设备QCS的气体供给设备1，把预定流量Q的气体G，透过在于复数个分支供给管线 GL1、GL2上分别装设开闭阀OV1、OV2，采用位于OV1的下游侧而从GL1分支的旁通管线BL1、及位于OV2的下游侧而从GL2分支的旁通管线BL2、及连接到BL1和BL2之压力式分流量控制器FV、及测定GL1内的压力之压力传感器PS1、及测定GL2内的压力之压力传感器PS2，透过固定在分支供给管线GL1、GL2的未端之喷洒板3、4，以所期望的分流流量 Q1、Q2，来将总量Q＝Q1＋Q2的气体分流供应到腔室C内。

2. 发明专利

TW200413874A 簇團化流體的流量控制方法及使用於此方法的簇團化流體用的流量控制裝置审中-公开
简体标题：簇团化流体的流量控制方法及使用于此方法的簇团化流体用的流量控制设备
公开(公告)号：TW200413874A
公开(公告)日：2004-08-01
申请号：TW093101251
申请日：2004-01-16
申请人：富士金股份有限公司 FIJIKIN INCORPORATED , 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 杉山一彥 SUGIYAMA, KAZUHIKO , 水澤兼悦 MIZUSAWA, KENETU , 高橋榮治 TAKAHASHI, EIJI , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI
IPC分类号： G05D , G01F
CPC分类号： H01L21/67023 , G05D7/0635 , Y10T137/6416 , Y10T137/6606 , Y10T137/7761
摘要：本發明是使用壓力式流量控制裝置，於3～300SCCM程度的流量範圍，以高精度地流量控制供給至真空室等的HF氣體等之簇團化流體。具體而言，針對在將孔隙上游側的壓力P1與孔隙下游側的壓力P2之比P2／P1保持於氣體的臨界壓力以下的狀態，將通過孔隙的氣體的流量Q作為Q＝KP1(其中K為定數)來進行運算之使用流量控制裝置的簇團化流體的流量控制方法，藉由將前述壓力式流量控制裝置加溫至40℃以上的溫度、或在簇團化流體加上稀釋氣體作成分壓以下，來使分子的締結解離，然後使作成單分子狀態的簇團化流體通過前述孔隙來加以流通。
简体摘要：本发明是使用压力式流量控制设备，于3～300SCCM程度的流量范围，以高精度地流量控制供给至真空室等的HF气体等之簇团化流体。具体而言，针对在将孔隙上游侧的压力P1与孔隙下游侧的压力P2之比P2／P1保持于气体的临界压力以下的状态，将通过孔隙的气体的流量Q作为Q＝KP1(其中K为定数)来进行运算之使用流量控制设备的簇团化流体的流量控制方法，借由将前述压力式流量控制设备加温至40℃以上的温度、或在簇团化流体加上稀释气体作成分压以下，来使分子的缔结解离，然后使作成单分子状态的簇团化流体通过前述孔隙来加以流通。

3. 发明专利

TW200815703A 原料之氣化供給裝置及其使用之自動壓力調整裝置审中-公开
简体标题：原料之气化供给设备及其使用之自动压力调整设备
公开(公告)号：TW200815703A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096120792
申请日：2007-06-08
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 HIRATA, KAORU , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 HIDAKA, ATSUSHI , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F17D , C23C , H01L
CPC分类号： C23C16/4481 , C23C16/52 , G05D16/2013 , Y10T137/7737
摘要： [發明課題]實現 MOCVD 法半導體製造所使用的原料氣化供給裝置構造的簡化和小型化的同時,藉由高精度控制原料供給至處理室的供給量,以實現半導體品質的穩定化和提昇品質。[解決手段]原料之氣化供給裝置,其特徵為,其是由:已儲放有原料的原料槽;可從運載氣體供給源對一定流量的運載氣體加以流量控制並供給至上述原料槽的原料中的流量控制裝置;滯留在原料槽上部空間的原料蒸氣 G4 和運載氣體G1之混合氣體 G0 導出用的 1 次配管路;根據上述 1 次配管路的混合氣體 G0 之壓力及溫度的檢測値對設置在 1 次配管路末端的控制閥開度進行調整,藉由對混合氣體 G0 流通的通道剖面積進行調整使原料槽內的混合氣體 G0 壓力保持成一定値的自動壓力調整裝置;及可使上述原料槽及自動壓力調整裝置的運算控制部除外部份加熱成設定溫度的恆溫加熱部所構成,構成可將原料槽內的內壓控制成預期壓力的同時將混合氣體 G0 供給至處理室。
简体摘要： [发明课题]实现 MOCVD 法半导体制造所使用的原料气化供给设备构造的简化和小型化的同时,借由高精度控制原料供给至处理室的供给量,以实现半导体品质的稳定化和提升品质。[解决手段]原料之气化供给设备,其特征为,其是由:已储放有原料的原料槽;可从运载气体供给源对一定流量的运载气体加以流量控制并供给至上述原料槽的原料中的流量控制设备;滞留在原料槽上部空间的原料蒸气 G4 和运载气体G1之混合气体 G0 导出用的 1 次配管路;根据上述 1 次配管路的混合气体 G0 之压力及温度的检测値对设置在 1 次配管路末端的控制阀开度进行调整,借由对混合气体 G0 流通的信道剖面积进行调整使原料槽内的混合气体 G0 压力保持成一定値的自动压力调整设备;及可使上述原料槽及自动压力调整设备的运算控制部除外部份加热成设置温度的恒温加热部所构成,构成可将原料槽内的内压控制成预期压力的同时将混合气体 G0 供给至处理室。

4. 发明专利

TW200807209A 流量比可變式流體供給裝置审中-公开
简体标题：流量比可变式流体供给设备
公开(公告)号：TW200807209A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096121378
申请日：2007-06-13
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 HIRATA, KAORU , 澤田洋平 SAWADA, YOHEI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0664 , Y10T137/85938 , Y10T137/87314 , Y10T137/87539
摘要：本發明的課題是除了使對於半導體製造裝置用處理室的流量比可變式流體供給裝置大幅地予以小型化及低成本化的同時,可以簡單且高精度進行流量比的調整。其解決手段為以預定的流量Q1、Q2將從流量控制裝置6所供給流量Q的氣體分流到第1分流管路1及第2分流管路2,自兩分流管路1、2對於處理室內供給流量Q的氣體的流量化可變式流體供給裝置中,上述第1分流管路1間設有開口面積S1的第1流口3,並將上述第2分流管路2形成並排式直接連結複數分支管路2a-2n的管路,在上述各分支管路2a-2n分別間設開口面積S2a-S2n的流口,4a-4n,同時在上述分支管路的全部或者一部份間設開關閥Vb-Vn,藉著該等開關閥Vb-Vn的開或關,調整第2分流管路2可流通的流口的總計開口面積S2o,藉此以相等於上述第1分流迴路1的第1流口3與上述第2分流路2可流通的流口的總計開口面積S2o的比的流量比Q1/Q2,使流量Q的氣體流分流到各分流管路1、2。
简体摘要：本发明的课题是除了使对于半导体制造设备用处理室的流量比可变式流体供给设备大幅地予以小型化及低成本化的同时,可以简单且高精度进行流量比的调整。其解决手段为以预定的流量Q1、Q2将从流量控制设备6所供给流量Q的气体分流到第1分流管路1及第2分流管路2,自两分流管路1、2对于处理室内供给流量Q的气体的流量化可变式流体供给设备中,上述第1分流管路1间设有开口面积S1的第1流口3,并将上述第2分流管路2形成并排式直接链接复数分支管路2a-2n的管路,在上述各分支管路2a-2n分别间设开口面积S2a-S2n的流口,4a-4n,同时在上述分支管路的全部或者一部份间设开关阀Vb-Vn,借着该等开关阀Vb-Vn的开或关,调整第2分流管路2可流通的流口的总计开口面积S2o,借此以相等于上述第1分流回路1的第1流口3与上述第2分流路2可流通的流口的总计开口面积S2o的比的流量比Q1/Q2,使流量Q的气体流分流到各分流管路1、2。

5. 发明专利

TW200914756A 小型流量控制閥审中-公开
简体标题：小型流量控制阀
公开(公告)号：TW200914756A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW096136295
申请日：2007-09-28
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K27/02 , F16K1/12 , F16K31/52
摘要：本發明的課題為︰為半導體製造設備或化學品製造設備等的壓力式流量控制裝置所適用的小型流量控制閥,能減少成本,簡化構造,而能作得緊緻化,這樣就能進行高精度的作動。本發明的解決手段為︰其構造是由:左右分離形成有流入通路(7)與流出通路(8),且在流入通路(7)側或流出通路(8)側具備有閥座(9)的閥箱(2)、設置在閥箱(2)而可朝左右方向移動的可動體(3)、設置在可動體(3)而可安置/離開於閥座(9)的閥體(4)、設置在閥箱(2)與可動體(3)之間,而允許可動體(3)朝左右方向移動,並且可將流入通路(7)與流出通路(8)連通的可伸縮的伸縮筒體(5)、以及設置在閥箱(2)而用來使可動體(3)移動的致動器(6)所構成。
简体摘要：本发明的课题为︰为半导体制造设备或化学品制造设备等的压力式流量控制设备所适用的小型流量控制阀,能减少成本,简化构造,而能作得紧致化,这样就能进行高精度的作动。本发明的解决手段为︰其构造是由:左右分离形成有流入通路(7)与流出通路(8),且在流入通路(7)侧或流出通路(8)侧具备有阀座(9)的阀箱(2)、设置在阀箱(2)而可朝左右方向移动的可动体(3)、设置在可动体(3)而可安置/离开于阀座(9)的阀体(4)、设置在阀箱(2)与可动体(3)之间,而允许可动体(3)朝左右方向移动,并且可将流入通路(7)与流出通路(8)连通的可伸缩的伸缩筒体(5)、以及设置在阀箱(2)而用来使可动体(3)移动的致动器(6)所构成。

6. 发明专利

TW200907205A 壓電元件驅動式控制閥审中-公开
简体标题：压电组件驱动式控制阀
公开(公告)号：TW200907205A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097111041
申请日：2008-03-27
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：澤田洋平 SAWADA, YOHEI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K31/007 , F16K7/14
摘要：本發明的課題為壓電致動器(16)退縮時緩和施加在壓電元件的拉張力,即使在高溫環境下仍可進行穩定的流量控制。其解決手段是在具有閥座的主體(8);坐落在閥座(8d)的金屬隔膜(9);自由升降地支撐在主體(8)側的致動器箱(13);固定在主體(8)側的分割底座(11);將致動器箱(13)朝向下方推壓作用使得金屬隔膜(9)坐落在閥座(8d)的盤簧(15);及收容在致動器箱(13)內,藉著電壓的外加朝著上方伸長使致動器箱(13)抵抗盤簧(15)的彈力而上推的壓電致動器(16)所構成的壓電元件驅動式控制閥(1)中,分割底座(11)與壓電致動器(16)之間,隔設著對於壓電致動器(16)的壓電元件經常施以壓縮力的預壓機構(20)。
简体摘要：本发明的课题为压电致动器(16)退缩时缓和施加在压电组件的拉张力,即使在高温环境下仍可进行稳定的流量控制。其解决手段是在具有阀座的主体(8);坐落在阀座(8d)的金属隔膜(9);自由升降地支撑在主体(8)侧的致动器箱(13);固定在主体(8)侧的分割底座(11);将致动器箱(13)朝向下方推压作用使得金属隔膜(9)坐落在阀座(8d)的盘簧(15);及收容在致动器箱(13)内,借着电压的外加朝着上方伸长使致动器箱(13)抵抗盘簧(15)的弹力而上推的压电致动器(16)所构成的压电组件驱动式控制阀(1)中,分割底座(11)与压电致动器(16)之间,隔设着对于压电致动器(16)的压电组件经常施以压缩力的预压机构(20)。

7. 发明专利

TW200506326A 差壓式流量計以及差壓式流量控制裝置审中-公开
简体标题：差压式流量计以及差压式流量控制设备
公开(公告)号：TW200506326A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：TW093118669
申请日：2004-06-25
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 杉山一彥 KAZUHIKO SUGIYAMA , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 NISHINO, KOJI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： G01F
CPC分类号： G01F1/50 , G01F1/42 , G05D7/0635
摘要：〔課題〕為求簡化差壓式流量計的構造並降低製造成本，並以即時且排成一列的狀態，在100％～1％的大流量範圍內，進行誤差E為(1％SP)以下的高精度流量量測。〔解決手段〕關於由孔口、孔口上游側的壓力P1的檢測器、孔口下游側的流體壓力P2的檢測器、孔口上游側的流體溫度T的檢測器、以及使用由前述各檢測器得到的檢測壓力P1、P2與檢測溫度T，而運算流過孔口的流體流量Q之控制運算電路所構成的差壓式流量計，乃利用093118669-p01.bmp(但C1為比例常數、m及n為常數)運算前述流體流量Q。
简体摘要：〔课题〕为求简化差压式流量计的构造并降低制造成本，并以实时且排成一列的状态，在100％～1％的大流量范围内，进行误差E为(1％SP)以下的高精度流量量测。〔解决手段〕关于由孔口、孔口上游侧的压力P1的检测器、孔口下游侧的流体压力P2的检测器、孔口上游侧的流体温度T的检测器、以及使用由前述各检测器得到的检测压力P1、P2与检测温度T，而运算流过孔口的流体流量Q之控制运算电路所构成的差压式流量计，乃利用093118669-p01.bmp(但C1为比例常数、m及n为常数)运算前述流体流量Q。

8. 发明专利

TW200806910A 壓力式流量控制裝置之節流機構下流側閥的動作異常檢測方法审中-公开
简体标题：压力式流量控制设备之节流机构下流侧阀的动作异常检测方法
公开(公告)号：TW200806910A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096123108
申请日：2007-06-26
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 SUGITA, KATSUYUKI , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： F16K
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/36 , G01F15/005 , G01F15/022
摘要： [課題]在先前的壓力式流量控制裝置中,於其機構上,係有無法以流量輸出訊號之存在而判定節流機構下流側閥之開動作的問題。因此,希望成為能從壓力式流量控制裝置之動作時的流量輸出訊號的變動狀態來簡單的判定節流機構下流側閥之開放。[用以解決課題之手段]在壓力式流量控制裝置中,於開放其節流機構下流側閥的同時,使輸入至壓力式流量控制裝置的流量設定値Qe變動,並檢測出該流量設定値Qe之變動中的從壓力式控制裝置而來的流量輸出訊號Qo之變動的大小��V,在該流量輸出訊號Qo之變動的大小��V為規定値以上的情況時,判斷節流機構下流側閥之開放動作係為正常,又,當前述變動之大小��V係為規定値以下的情況時,則判斷在開動作中係有異常。
简体摘要： [课题]在先前的压力式流量控制设备中,于其机构上,系有无法以流量输出信号之存在而判定节流机构下流侧阀之开动作的问题。因此,希望成为能从压力式流量控制设备之动作时的流量输出信号的变动状态来简单的判定节流机构下流侧阀之开放。[用以解决课题之手段]在压力式流量控制设备中,于开放其节流机构下流侧阀的同时,使输入至压力式流量控制设备的流量设置値Qe变动,并检测出该流量设置値Qe之变动中的从压力式控制设备而来的流量输出信号Qo之变动的大小��V,在该流量输出信号Qo之变动的大小��V为规定値以上的情况时,判断节流机构下流侧阀之开放动作系为正常,又,当前述变动之大小��V系为规定値以下的情况时,则判断在开动作中系有异常。

9. 发明专利

TWI270624B 流體通路的無水錘開放方法及使用無水錘開放方法的藥液供給方法,以及無水錘開放裝置有权
简体标题：流体通路的无水锤开放方法及使用无水锤开放方法的药液供给方法,以及无水锤开放设备
公开(公告)号：TWI270624B
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：TW093139175
申请日：2004-12-16
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西村龍太郎
IPC分类号： F16L , F16K
CPC分类号： F16K47/02 , Y10T137/0324 , Y10T137/0396 , Y10T137/7761 , Y10T137/7762 , Y10T137/7842 , Y10T137/86389 , Y10T137/86397 , Y10T137/86461
摘要：本發明係關於一種流體通路的無水錘開放方法及使用無水錘開放方法的藥液供應方法，以及無水錘開放裝置；也就是說，本發明係可以藉由極為簡單之裝置或操作，而不產生水錘，並且，能夠在短時間內，急速開放流體通路。
構成由以下所組成之無水錘開放裝置：致動器作動式閥，係介設於流體通路；電動氣動轉換裝置，供應二階段狀的致動器作動壓Pa至致動器作動式閥；振動感測器，係可自由裝卸地固接於前述致動器作動式閥之上游側管路；以及，調諧箱，輸入藉由振動感測器所檢測之振動檢測訊號Pr，同時，輸出控制前述二階段狀的致動器作動壓Pa之階段作動壓Ps’的大小之控制訊號Sc至電動氣動轉換裝置，藉由該控制訊號Sc之調整，而由電動氣動轉換裝置，輸出振動檢測訊號Pr幾乎成為零之階段作動壓Ps’之二階段狀的致動器作動壓Pa。
简体摘要：本发明系关于一种流体通路的无水锤开放方法及使用无水锤开放方法的药液供应方法，以及无水锤开放设备；也就是说，本发明系可以借由极为简单之设备或操作，而不产生水锤，并且，能够在短时间内，急速开放流体通路。构成由以下所组成之无水锤开放设备：致动器作动式阀，系介设于流体通路；电动气动转换设备，供应二阶段状的致动器作动压Pa至致动器作动式阀；振动传感器，系可自由装卸地固接于前述致动器作动式阀之上游侧管路；以及，调谐箱，输入借由振动传感器所检测之振动检测信号Pr，同时，输出控制前述二阶段状的致动器作动压Pa之阶段作动压Ps’的大小之控制信号Sc至电动气动转换设备，借由该控制信号Sc之调整，而由电动气动转换设备，输出振动检测信号Pr几乎成为零之阶段作动压Ps’之二阶段状的致动器作动压Pa。

10. 发明专利

TWI257475B 使用耐蝕金屬製熱式質量流量感測器的流體供給機器有权
简体标题：使用耐蚀金属制热式质量流量传感器的流体供给机器
公开(公告)号：TWI257475B
公开(公告)日：2006-07-01
申请号：TW093102956
申请日：2004-02-09
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 平田薰 , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE
IPC分类号： G01F , G05D
CPC分类号： G01F1/6845
摘要： [課題]
本發明目的在於提供一種提高熱式質量流量感測器之耐蝕性的同時，應答性提昇，且無塵粒以及能防止製品品質不均勻等的使用耐蝕金屬製熱式質量流量感測器的流體供給機器。[解決手段]
由：對著耐蝕性金屬材料W的背面側施行電解蝕刻並形成薄板之耐蝕性金屬基板2以及由設置在該耐蝕性金屬基板2的背面側的溫度感測器3與形成加熱用加熱器4之薄膜F所形成的感測部1、和將往安裝溝13a內嵌合的前述感測部1的耐蝕性金屬基板2的外周緣利用雷射銲接加以氣密狀固定的感測器基底13所構成。
简体摘要： [课题] 本发明目的在于提供一种提高热式质量流量传感器之耐蚀性的同时，应答性提升，且无尘粒以及能防止制品品质不均匀等的使用耐蚀金属制热式质量流量传感器的流体供给机器。[解决手段] 由：对着耐蚀性金属材料W的背面侧施行电解蚀刻并形成薄板之耐蚀性金属基板2以及由设置在该耐蚀性金属基板2的背面侧的温度传感器3与形成加热用加热器4之薄膜F所形成的传感部1、和将往安装沟13a内嵌合的前述传感部1的耐蚀性金属基板2的外周缘利用激光焊接加以气密状固定的传感器基底13所构成。

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