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1. 发明专利

TWI252389B 處理室的內壓控制裝置及內壓被控制式處理室有权
简体标题：处理室的内压控制设备及内压被控制式处理室
公开(公告)号：TWI252389B
公开(公告)日：2006-04-01
申请号：TW093126544
申请日：2004-09-02
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 TERAMOTO, AKINOBU , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 土肥亮介 DOHI, RYOSUKE , 西野功二 NISHINO, KOJI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D16/208 , Y10T137/7761 , Y10T137/8741 , Y10T137/87507
摘要：本發明的課題是針對於防止流量的控制精確在小流量域大幅度地降低，藉由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，調整供給至處理室的氣體流量而在廣範圍全面以高精度控制處理室內壓。
本發明用以解決手段是，並列狀地連接的複數台壓力式流量控制裝置，及控制複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置所形成，在將所期望的氣體流量控制至藉由真空泵所排氣的處理室下對於供給的處理室的氣體供給裝置中，將一座壓力式流量控制裝置作為控制供給至處理室的最大流量的最多10%的氣體流量域的裝置，並將剩餘的壓力式流量控制裝置作為控制殘餘的氣體流量域的裝置，藉由調整對於壓力式流量控制裝置的控制信號而控制對於處理室的氣體供給量，俾控制裝置室內壓。
简体摘要：本发明的课题是针对于防止流量的控制精确在小流量域大幅度地降低，借由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，调整供给至处理室的气体流量而在广范围全面以高精度控制处理室内压。本发明用以解决手段是，并列状地连接的复数台压力式流量控制设备，及控制复数台压力式流量控制设备的开动的控制设备所形成，在将所期望的气体流量控制至借由真空泵所排气的处理室下对于供给的处理室的气体供给设备中，将一座压力式流量控制设备作为控制供给至处理室的最大流量的最多10%的气体流量域的设备，并将剩余的压力式流量控制设备作为控制残余的气体流量域的设备，借由调整对于压力式流量控制设备的控制信号而控制对于处理室的气体供给量，俾控制设备室内压。

2. 发明专利

TW200815703A 原料之氣化供給裝置及其使用之自動壓力調整裝置审中-公开
简体标题：原料之气化供给设备及其使用之自动压力调整设备
公开(公告)号：TW200815703A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096120792
申请日：2007-06-08
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 HIRATA, KAORU , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 HIDAKA, ATSUSHI , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F17D , C23C , H01L
CPC分类号： C23C16/4481 , C23C16/52 , G05D16/2013 , Y10T137/7737
摘要： [發明課題]實現 MOCVD 法半導體製造所使用的原料氣化供給裝置構造的簡化和小型化的同時,藉由高精度控制原料供給至處理室的供給量,以實現半導體品質的穩定化和提昇品質。[解決手段]原料之氣化供給裝置,其特徵為,其是由:已儲放有原料的原料槽;可從運載氣體供給源對一定流量的運載氣體加以流量控制並供給至上述原料槽的原料中的流量控制裝置;滯留在原料槽上部空間的原料蒸氣 G4 和運載氣體G1之混合氣體 G0 導出用的 1 次配管路;根據上述 1 次配管路的混合氣體 G0 之壓力及溫度的檢測値對設置在 1 次配管路末端的控制閥開度進行調整,藉由對混合氣體 G0 流通的通道剖面積進行調整使原料槽內的混合氣體 G0 壓力保持成一定値的自動壓力調整裝置;及可使上述原料槽及自動壓力調整裝置的運算控制部除外部份加熱成設定溫度的恆溫加熱部所構成,構成可將原料槽內的內壓控制成預期壓力的同時將混合氣體 G0 供給至處理室。
简体摘要： [发明课题]实现 MOCVD 法半导体制造所使用的原料气化供给设备构造的简化和小型化的同时,借由高精度控制原料供给至处理室的供给量,以实现半导体品质的稳定化和提升品质。[解决手段]原料之气化供给设备,其特征为,其是由:已储放有原料的原料槽;可从运载气体供给源对一定流量的运载气体加以流量控制并供给至上述原料槽的原料中的流量控制设备;滞留在原料槽上部空间的原料蒸气 G4 和运载气体G1之混合气体 G0 导出用的 1 次配管路;根据上述 1 次配管路的混合气体 G0 之压力及温度的检测値对设置在 1 次配管路末端的控制阀开度进行调整,借由对混合气体 G0 流通的信道剖面积进行调整使原料槽内的混合气体 G0 压力保持成一定値的自动压力调整设备;及可使上述原料槽及自动压力调整设备的运算控制部除外部份加热成设置温度的恒温加热部所构成,构成可将原料槽内的内压控制成预期压力的同时将混合气体 G0 供给至处理室。

3. 发明专利

TW200532413A 處理室的內壓控制裝置及內壓被控制式處理室审中-公开
简体标题：处理室的内压控制设备及内压被控制式处理室
公开(公告)号：TW200532413A
公开(公告)日：2005-10-01
申请号：TW093126544
申请日：2004-09-02
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 TERAMOTO, AKINOBU , 宇野富雄 UNO, TOMIO , 土肥亮介 DOHI, RYOSUKE , 西野功二 NISHINO, KOJI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D16/208 , Y10T137/7761 , Y10T137/8741 , Y10T137/87507
摘要：本發明的課題是針對於防止流量的控制精確在小流量域大幅度地降低，藉由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，調整供給至處理室的氣體流量而在廣範圍全面以高精度控制處理室內壓。本發明用以解決手段是，並列狀地連接的複數台壓力式流量控制裝置，及控制複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置所形成，在將所期望的氣體流量控制至藉由真空泵所排氣的處理室下對於供給的處理室的氣體供給裝置中，將一座壓力式流量控制裝置作為控制供給至處理室的最大流量的最多10％的氣體流量域的裝置，並將剩餘的壓力式流量控制裝置作為控制殘餘的氣體流量域的裝置，藉由調整對於壓力式流量控制裝置的控制信號而控制對於處理室的氣體供給量，俾控制裝置室內壓。
简体摘要：本发明的课题是针对于防止流量的控制精确在小流量域大幅度地降低，借由在全流量控制域全面可作成高精度的流量控制，调整供给至处理室的气体流量而在广范围全面以高精度控制处理室内压。本发明用以解决手段是，并列状地连接的复数台压力式流量控制设备，及控制复数台压力式流量控制设备的开动的控制设备所形成，在将所期望的气体流量控制至借由真空泵所排气的处理室下对于供给的处理室的气体供给设备中，将一座压力式流量控制设备作为控制供给至处理室的最大流量的最多10％的气体流量域的设备，并将剩余的压力式流量控制设备作为控制残余的气体流量域的设备，借由调整对于压力式流量控制设备的控制信号而控制对于处理室的气体供给量，俾控制设备室内压。

4. 发明专利

TW200806910A 壓力式流量控制裝置之節流機構下流側閥的動作異常檢測方法审中-公开
简体标题：压力式流量控制设备之节流机构下流侧阀的动作异常检测方法
公开(公告)号：TW200806910A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096123108
申请日：2007-06-26
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 SUGITA, KATSUYUKI , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： F16K
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/36 , G01F15/005 , G01F15/022
摘要： [課題]在先前的壓力式流量控制裝置中,於其機構上,係有無法以流量輸出訊號之存在而判定節流機構下流側閥之開動作的問題。因此,希望成為能從壓力式流量控制裝置之動作時的流量輸出訊號的變動狀態來簡單的判定節流機構下流側閥之開放。[用以解決課題之手段]在壓力式流量控制裝置中,於開放其節流機構下流側閥的同時,使輸入至壓力式流量控制裝置的流量設定値Qe變動,並檢測出該流量設定値Qe之變動中的從壓力式控制裝置而來的流量輸出訊號Qo之變動的大小��V,在該流量輸出訊號Qo之變動的大小��V為規定値以上的情況時,判斷節流機構下流側閥之開放動作係為正常,又,當前述變動之大小��V係為規定値以下的情況時,則判斷在開動作中係有異常。
简体摘要： [课题]在先前的压力式流量控制设备中,于其机构上,系有无法以流量输出信号之存在而判定节流机构下流侧阀之开动作的问题。因此,希望成为能从压力式流量控制设备之动作时的流量输出信号的变动状态来简单的判定节流机构下流侧阀之开放。[用以解决课题之手段]在压力式流量控制设备中,于开放其节流机构下流侧阀的同时,使输入至压力式流量控制设备的流量设置値Qe变动,并检测出该流量设置値Qe之变动中的从压力式控制设备而来的流量输出信号Qo之变动的大小��V,在该流量输出信号Qo之变动的大小��V为规定値以上的情况时,判断节流机构下流侧阀之开放动作系为正常,又,当前述变动之大小��V系为规定値以下的情况时,则判断在开动作中系有异常。

5. 发明专利

TW200710623A 墊片型流孔組件及使用該墊片型流孔組件的壓力式流量控制裝置审中-公开
简体标题：垫片型流孔组件及使用该垫片型流孔组件的压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW200710623A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：TW095118127
申请日：2006-05-22
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 TOHOKU UNIVERSITY
发明人：大見忠弘 HOMI TADAHIRO , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , 池田信一 , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 SUGITA, KATSUYUKI , 篠原努 SHINOHARA, TSUTOMU , 廣瀨隆 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D , F16K
CPC分类号： F16K27/003 , F16L55/02718 , G01F1/36 , G01F15/001 , G01F15/005 , G05D7/0635
摘要：本發明的目的在於:在不必分解、組裝壓力式流量控制裝置的狀況下,藉由簡單地更換其流孔組件,而可輕易地執行控制流量的切換。為達成上述目的,本發明是在具備流體供給用配管之連接部的入口側安裝用塊體(39)、與具備流體取出用配管之連接部的出口側安裝用塊體(43)之間,配設壓力式流量控制裝置(A)之控制閥(2)的閥體(23),藉由可各自分解地將該閥體(23)的流體入口側、與上述入口側安裝用塊體(39)的流體出口側;及上述閥體(23)的流體出口側、與上述出口側安裝用塊體(43)的流體入口側連結成氣密狀,而形成可供通過上述控制閥(2)之氣體流通的流路,並可自由裝卸地將壓力式流量控制裝置(A)的墊片型流孔組件(38)插入固定於設在上述閥體(23)之出口側的墊片型流孔組件插入孔(42c)、與設在出口側安裝用塊體(43)之流體入口側的墊片型流孔組件插入孔(43b)之間的構造。
简体摘要：本发明的目的在于:在不必分解、组装压力式流量控制设备的状况下,借由简单地更换其流孔组件,而可轻易地运行控制流量的切换。为达成上述目的,本发明是在具备流体供给用配管之连接部的入口侧安装用块体(39)、与具备流体取出用配管之连接部的出口侧安装用块体(43)之间,配设压力式流量控制设备(A)之控制阀(2)的阀体(23),借由可各自分解地将该阀体(23)的流体入口侧、与上述入口侧安装用块体(39)的流体出口侧;及上述阀体(23)的流体出口侧、与上述出口侧安装用块体(43)的流体入口侧链接成气密状,而形成可供通过上述控制阀(2)之气体流通的流路,并可自由装卸地将压力式流量控制设备(A)的垫片型流孔组件(38)插入固定于设在上述阀体(23)之出口侧的垫片型流孔组件插入孔(42c)、与设在出口侧安装用块体(43)之流体入口侧的垫片型流孔组件插入孔(43b)之间的构造。

6. 发明专利

TWI270624B 流體通路的無水錘開放方法及使用無水錘開放方法的藥液供給方法,以及無水錘開放裝置有权
简体标题：流体通路的无水锤开放方法及使用无水锤开放方法的药液供给方法,以及无水锤开放设备
公开(公告)号：TWI270624B
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：TW093139175
申请日：2004-12-16
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西村龍太郎
IPC分类号： F16L , F16K
CPC分类号： F16K47/02 , Y10T137/0324 , Y10T137/0396 , Y10T137/7761 , Y10T137/7762 , Y10T137/7842 , Y10T137/86389 , Y10T137/86397 , Y10T137/86461
摘要：本發明係關於一種流體通路的無水錘開放方法及使用無水錘開放方法的藥液供應方法，以及無水錘開放裝置；也就是說，本發明係可以藉由極為簡單之裝置或操作，而不產生水錘，並且，能夠在短時間內，急速開放流體通路。
構成由以下所組成之無水錘開放裝置：致動器作動式閥，係介設於流體通路；電動氣動轉換裝置，供應二階段狀的致動器作動壓Pa至致動器作動式閥；振動感測器，係可自由裝卸地固接於前述致動器作動式閥之上游側管路；以及，調諧箱，輸入藉由振動感測器所檢測之振動檢測訊號Pr，同時，輸出控制前述二階段狀的致動器作動壓Pa之階段作動壓Ps’的大小之控制訊號Sc至電動氣動轉換裝置，藉由該控制訊號Sc之調整，而由電動氣動轉換裝置，輸出振動檢測訊號Pr幾乎成為零之階段作動壓Ps’之二階段狀的致動器作動壓Pa。
简体摘要：本发明系关于一种流体通路的无水锤开放方法及使用无水锤开放方法的药液供应方法，以及无水锤开放设备；也就是说，本发明系可以借由极为简单之设备或操作，而不产生水锤，并且，能够在短时间内，急速开放流体通路。构成由以下所组成之无水锤开放设备：致动器作动式阀，系介设于流体通路；电动气动转换设备，供应二阶段状的致动器作动压Pa至致动器作动式阀；振动传感器，系可自由装卸地固接于前述致动器作动式阀之上游侧管路；以及，调谐箱，输入借由振动传感器所检测之振动检测信号Pr，同时，输出控制前述二阶段状的致动器作动压Pa之阶段作动压Ps’的大小之控制信号Sc至电动气动转换设备，借由该控制信号Sc之调整，而由电动气动转换设备，输出振动检测信号Pr几乎成为零之阶段作动压Ps’之二阶段状的致动器作动压Pa。

7. 发明专利

TW200933704A 半導體製造設備用之氣體供給裝置审中-公开
简体标题：半导体制造设备用之气体供给设备
公开(公告)号：TW200933704A
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW097130660
申请日：2008-08-12
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：西野功二 NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 SUGITA, KATSUYUKI , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/52
摘要：【【課題】】在藉由MOCVD法之半導體製造設備之氣體供給裝置中,於原料氣體之供給切換時迅速使在主氣體供給管線和排氣氣體供給管線間產生之壓力差成為零,依此可以防止半導體之品質下降。【【課題解決之手段】】在具備有對反應爐供給原料氣體之主氣體供給管線和執行上述原料之排氣的排氣氣體供給管線,並在兩氣體管線之中間部配設多數氣體供給機構而所構成之藉由有機金屬氣相生長法的半導體製造設備用之氣體供給裝置中,其構成係在上述主氣體供給管線之入口側設置壓力式流量控制裝置,一邊藉由該壓力式流量控制裝置執行流量控制,一邊將特定流量之載體氣體供給至主氣體供給管線,並且在上述排氣氣體供給管線之入口側設置壓力控制裝置,一邊藉由該壓力控制裝置執行壓力調整,一邊將特定壓力之載體氣體供給至排氣氣體供給管線,使在上述壓力式流量控制裝置之流出口下游側所檢測出之主氣體供給管線之氣體壓力P10和排氣氣體供給管線之氣體壓力P2呈對比,並以使兩者之差成為零之方式,藉由壓力控制裝置調整排氣氣體供給管線之氣體壓力P2。
简体摘要：【【课题】】在借由MOCVD法之半导体制造设备之气体供给设备中,于原料气体之供给切换时迅速使在主气体供给管线和排气气体供给管线间产生之压力差成为零,依此可以防止半导体之品质下降。【【课题解决之手段】】在具备有对反应炉供给原料气体之主气体供给管线和运行上述原料之排气的排气气体供给管线,并在两气体管线之中间部配设多数气体供给机构而所构成之借由有机金属气相生长法的半导体制造设备用之气体供给设备中,其构成系在上述主气体供给管线之入口侧设置压力式流量控制设备,一边借由该压力式流量控制设备运行流量控制,一边将特定流量之载体气体供给至主气体供给管线,并且在上述排气气体供给管线之入口侧设置压力控制设备,一边借由该压力控制设备运行压力调整,一边将特定压力之载体气体供给至排气气体供给管线,使在上述压力式流量控制设备之流出口下游侧所检测出之主气体供给管线之气体压力P10和排气气体供给管线之气体压力P2呈对比,并以使两者之差成为零之方式,借由压力控制设备调整排气气体供给管线之气体压力P2。

8. 发明专利

TW200717212A 使用具有壓力感測器的流量控制裝置之流體供給系的異常檢測方法审中-公开
简体标题：使用具有压力传感器的流量控制设备之流体供给系的异常检测方法
公开(公告)号：TW200717212A
公开(公告)日：2007-05-01
申请号：TW095132465
申请日：2006-09-01
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 NISHINO, KOUJI , 平田薰 HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 SUGITA, KATSUYUKI , 松本篤諮 MATSUMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： G05D , G01F
摘要：可不必從流體供給系的配管路取下閥,利用具有壓力感測器的流量控制裝置的機能來簡單且迅速、正確地檢查使用流量控制裝置的流體供給系中所被裝入之複數個閥的動作不良或閥座洩漏等的異常。具體而言,在具備流量控制裝置的流體供給系中,該流量控制裝置擁有具備流量的設定機構、流量及壓力的顯示機構及或流量自己診斷機構的壓力感測器,利用上述流量控制裝置之上述壓力的顯示値及或流量自己診斷機構的診斷値來檢測出上述流量控制裝置以及設置於其上流側或下流側之控制閥的異常。
简体摘要：可不必从流体供给系的配管路取下阀,利用具有压力传感器的流量控制设备的机能来简单且迅速、正确地检查使用流量控制设备的流体供给系中所被装入之复数个阀的动作不良或阀座泄漏等的异常。具体而言,在具备流量控制设备的流体供给系中,该流量控制设备拥有具备流量的设置机构、流量及压力的显示机构及或流量自己诊断机构的压力传感器,利用上述流量控制设备之上述压力的显示値及或流量自己诊断机构的诊断値来检测出上述流量控制设备以及设置于其上流侧或下流侧之控制阀的异常。

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