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1. 发明专利

TWI437401B 混合氣體供應裝置有权
简体标题：混合气体供应设备
公开(公告)号：TWI437401B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW099139990
申请日：2010-11-19
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/00 , H01L21/3065
CPC分类号： B01J4/02 , G05D11/132 , H01L21/67017 , Y10T137/87249

2. 发明专利

TW201321079A 氣化器审中-公开
简体标题：气化器
公开(公告)号：TW201321079A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： [課題]提供一種可使氣化器內的壓力的行動安定的氣化器。[解決手段]本發明之氣化器係具備有：具備流入口及流出口的腔室；將該腔室內加熱的加熱裝置；被設在該腔室內，將該腔室內的液體材料區分成複數劃區的間隔壁構造體(13)；及被設在間隔壁構造體(13)的下部，容許以間隔壁構造體(13)所被區分的各劃區間的液體流通的液體流通部(20)，前述間隔壁構造體係具有格子狀、蜂巢狀、網孔狀、或管狀的間隔壁。
简体摘要： [课题]提供一种可使气化器内的压力的行动安定的气化器。[解决手段]本发明之气化器系具备有：具备流入口及流出口的腔室；将该腔室内加热的加热设备；被设在该腔室内，将该腔室内的液体材料区分成复数划区的间隔壁构造体(13)；及被设在间隔壁构造体(13)的下部，容许以间隔壁构造体(13)所被区分的各划区间的液体流通的液体流通部(20)，前述间隔壁构造体系具有格子状、蜂嵌套、网孔状、或管状的间隔壁。

3. 发明专利

TW201321547A 原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201321547A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101123716
申请日：2012-07-02
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485
摘要： [課題]可一面使用壓力式流量控制裝置，來對將固體原料或液體原料加熱所生成的原料蒸氣進行流量控制，一面安定供給至製程腔室，藉此達成原料的氣化供給裝置的小型化、及半導體製品的品質提升，並且可輕易進行原料的殘量管理。[課題解決手段]由：貯留原料的來源槽；將原料蒸氣由來源槽的內部空間部供給至製程腔室的原料蒸氣供給路；被介設在該原料蒸氣供給路，且控制供給至製程腔室的原料蒸氣流量的壓力式流量控制裝置；及將前述來源槽、供給路、及壓力式流量控制裝置加熱至設定溫度的恆溫加熱部所構成，將在來源槽的內部空間部所生成的原料蒸氣，一面藉由壓力式流量控制裝置進行流量控制，一面供給至製程腔室。
简体摘要： [课题]可一面使用压力式流量控制设备，来对将固体原料或液体原料加热所生成的原料蒸气进行流量控制，一面安定供给至制程腔室，借此达成原料的气化供给设备的小型化、及半导体制品的品质提升，并且可轻易进行原料的残量管理。[课题解决手段]由：贮留原料的来源槽；将原料蒸气由来源槽的内部空间部供给至制程腔室的原料蒸气供给路；被介设在该原料蒸气供给路，且控制供给至制程腔室的原料蒸气流量的压力式流量控制设备；及将前述来源槽、供给路、及压力式流量控制设备加热至设置温度的恒温加热部所构成，将在来源槽的内部空间部所生成的原料蒸气，一面借由压力式流量控制设备进行流量控制，一面供给至制程腔室。

4. 发明专利

TW201319305A 具備原料濃度檢測機構之原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：具备原料浓度检测机构之原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201319305A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101127436
申请日：2012-07-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/448
CPC分类号： F17D3/00 , C23C16/4482 , C23C16/45561 , G05D11/135 , Y10T137/8158
摘要： [課題]構成為：能夠對於載體氣體和原料氣體之混合氣體內的原料濃度作正確的調整，並能夠在高精確度之流量控制下而對於製程腔作安定的供給，並且，不需使用高價之濃度計等，便能夠將混合氣體內之原料氣體蒸氣濃度簡單地以高精確度而檢測出來並作即時顯示。[解決手段]在通過質量流控制器(3)而將載體氣體(GK)供給至原料槽(5)內，並從原料槽(5)內而放出載體氣體(GK)，並且將藉由以恆溫部來將原料槽(5)保持在一定溫度所產生的原料(4)之飽和蒸氣(G)以及前述載體氣體(GK)之混合氣體(GS)供給至製程腔處的原料氣化供給裝置中，構成為：在從前述原料槽(5)而來之混合氣體(GS)的流出通路處，設置自動壓力調整裝置(8)，並且在其之下游側處設置質量流計(9)，並藉由對於前述自動壓力調整機構(8)之控制閥(8a)作開閉控制，來將原料槽(5)之內部壓力(PO)控制為特定值，再將由前述質量流控制器(3)所致之載體氣體(GK)的流量(Q1)和前述槽內壓(PO)以及前述質量流計(9)之混合氣體(GS)的流量(QS)之各檢測值，輸入至原料濃度演算部(10)中，在該原料濃度演算部(10)中，將原料流量(Q2)藉由Q2=QS×PMO/PO而進行演算，再使用該原料流量(Q2)，而將供給至前述製程腔之混合氣體(GS)的原料氣體蒸氣濃度(K)，作為K=Q2/QS而演算出來並作顯示，其中，前述(PMO)，係為原料槽內之在溫度t℃時的原料氣體(G)之飽和蒸氣壓。
简体摘要： [课题]构成为：能够对于载体气体和原料气体之混合气体内的原料浓度作正确的调整，并能够在高精确度之流量控制下而对于制程腔作安定的供给，并且，不需使用高价之浓度计等，便能够将混合气体内之原料气体蒸气浓度简单地以高精确度而检测出来并作实时显示。[解决手段]在通过质量流控制器(3)而将载体气体(GK)供给至原料槽(5)内，并从原料槽(5)内而放出载体气体(GK)，并且将借由以恒温部来将原料槽(5)保持在一定温度所产生的原料(4)之饱和蒸气(G)以及前述载体气体(GK)之混合气体(GS)供给至制程腔处的原料气化供给设备中，构成为：在从前述原料槽(5)而来之混合气体(GS)的流出通路处，设置自动压力调整设备(8)，并且在其之下游侧处设置质量流计(9)，并借由对于前述自动压力调整机构(8)之控制阀(8a)作开闭控制，来将原料槽(5)之内部压力(PO)控制为特定值，再将由前述质量流控制器(3)所致之载体气体(GK)的流量(Q1)和前述槽内压(PO)以及前述质量流计(9)之混合气体(GS)的流量(QS)之各检测值，输入至原料浓度演算部(10)中，在该原料浓度演算部(10)中，将原料流量(Q2)借由Q2=QS×PMO/PO而进行演算，再使用该原料流量(Q2)，而将供给至前述制程腔之混合气体(GS)的原料气体蒸气浓度(K)，作为K=Q2/QS而演算出来并作显示，其中，前述(PMO)，系为原料槽内之在温度t℃时的原料气体(G)之饱和蒸气压。

6. 发明专利

TWI482876B 具備原料濃度檢測機構之原料氣化供給裝置有权
简体标题：具备原料浓度检测机构之原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI482876B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW101127436
申请日：2012-07-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/448
CPC分类号： F17D3/00 , C23C16/4482 , C23C16/45561 , G05D11/135 , Y10T137/8158

7. 发明专利

TWI444800B 氣體供給裝置用流量控制器之校正方法及流量計測方法有权
简体标题：气体供给设备用流量控制器之校正方法及流量计测方法
公开(公告)号：TWI444800B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100125639
申请日：2011-07-20
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 平井暢 , HIRAI, TOORU , 森崎和之 , MORISAKI, KAZUYUKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE
IPC分类号： G05D7/06 , G01F3/38 , G01F25/00
CPC分类号： G01F7/005 , G01F1/34 , G01F15/002 , G01F15/005 , G01F25/0053 , G05D7/0652 , Y10T137/0324

8. 发明专利

TWI437402B 壓力式流量控制裝置有权
简体标题：压力式流量控制设备
公开(公告)号：TWI437402B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW099128268
申请日：2010-08-24
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI
IPC分类号： G05D7/03 , G05D7/00
CPC分类号： G01F1/363 , G01F15/024 , G05D7/0635 , Y10T137/7737 , Y10T137/776 , Y10T137/7761

9. 发明专利

TWI422765B 壓電驅動式閥及壓電驅動式流量控制裝置有权
简体标题：压电驱动式阀及压电驱动式流量控制设备
公开(公告)号：TWI422765B
公开(公告)日：2014-01-11
申请号：TW099139989
申请日：2010-11-19
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI
IPC分类号： F16K49/00 , F16K31/02 , G05D7/06
CPC分类号： F16K31/007 , F16K7/14 , F16K25/005 , G05D7/0629 , Y10T137/6416 , Y10T137/7759 , Y10T137/776 , Y10T137/7761

10. 发明专利

TWI391589B 壓力式流量控制裝置之節流機構下流側閥的動作異常檢測方法有权
简体标题：压力式流量控制设备之节流机构下流侧阀的动作异常检测方法
公开(公告)号：TWI391589B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW096123108
申请日：2007-06-26
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 松本篤諮 , MATSUMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： F16K17/00
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/36 , G01F15/005 , G01F15/022

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