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1. 发明专利

JP6799617B2 非水二次電池用電解液、非水二次電池及び金属錯体有权
公开(公告)号：JP6799617B2
公开(公告)日：2020-12-16
申请号：JP2018563298
申请日：2018-01-12
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：片岡祥平
IPC分类号： H01M10/0569 , H01M10/052 , H01M10/0567

2. 发明专利

JP6539271B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス有权
公开(公告)号：JP6539271B2
公开(公告)日：2019-07-03
申请号：JP2016532498
申请日：2015-06-01
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：杉山真一 , 丹呉直紘 , 片岡祥平
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/039

3. 发明专利

JPWO2018016519A1 非水二次電池用電解液および非水二次電池审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018016519A1
公开(公告)日：2019-04-04
申请号：JP2017026072
申请日：2017-07-19
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：片岡祥平 , 畠山直也
IPC分类号： H01M10/0569 , H01M10/0567
摘要：電解質と、有機溶媒と、下記一般式(I)〜(III)のいずれかで表される化合物とを含有する、非水二次電池用電解液、とそれを用いた非水二次電池。式中、Mは遷移金属を示す。 R 1 、R 2 およびR 3 は、特定の置換基を示す。aは0〜5の整数を示す。bは0以上の整数を示す。cは0〜5の整数を示す。 Ar 1 は芳香族環を示す。一般式(II)において、複数のAr 1 は互いに連結していてもよい。 Ar 2 は含窒素芳香族複素環を表す。

5. 发明专利

JP6455988B2 カーボンナノチューブの製造装置および製造方法有权
公开(公告)号：JP6455988B2
公开(公告)日：2019-01-23
申请号：JP2016034442
申请日：2016-02-25
申请人：学校法人早稲田大学 , 富士フイルム株式会社
发明人：野田優 , 岡田翔平 , 大沢利男 , 五十嵐達也 , 片岡祥平
IPC分类号： B01J31/22 , C01B32/158

6. 发明专利

JP2016201308A 非水電解液および非水二次電池有权
标题翻译：非水电解质和非水二次电池
公开(公告)号：JP2016201308A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2015081790
申请日：2015-04-13
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：片岡祥平
IPC分类号： H01M10/0569 , H01M10/052 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/58 , H01M10/0567
CPC分类号： Y02T10/7011
摘要：【課題】高電位で駆動する電池において、特定の含フッ素金属化合物が電解液への十分な溶解性を示し、かつ、抵抗上昇の抑制および保存性が向上された非水電解液、および非水二次電池の提供。【解決手段】下記式(I)で表される含フッ素金属化合物と非水溶媒を含有する非水電解液および非水二次電池。 (R 1 は1価の有機基;R f はフッ素原子を有する1価の有機基;Mは遷移金属元素;nはMの価数;pは1以上の整数;qは0又は1以上の整数;p+q=n;R 1 及びR f が複数存在する場合、各々独立に、R 1 同士、R f 同士、R 1 とR f はそれぞれ結合して環を形成していてもよい) 【選択図】なし
摘要翻译：公开了一种用于在高电位驱动的电池，一个特定含氟金属化合物在电解质中的足够的溶解度，和非水电解液抑制和电阻上升的存储得到改善，以及非水提供一种二次电池的。一种非水电解质和含有含氟金属化合物和由下式（I）表示的非水溶剂的非水二次电池。（R 1为单价有机基团; Rf为具有氟原子的一价有机基团; M是过渡金属元素; N M的价数，p为1或更大的整数; q是0或1或更大的整数; p + q = N;如果R1和Rf有多个，独立地，R 1一起中，Rf一起，R1和R f也可以彼此键合而形成环）系统技术领域

7. 发明专利

JP5848869B2 パターン形成方法有权
公开(公告)号：JP5848869B2
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：JP2010188639
申请日：2010-08-25
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：加藤啓太 , 上村聡 , 榎本雄一郎 , 岩戸薫 , 片岡祥平 , 齊藤翔一
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , H01L21/027 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/40 , G03F7/2041

8. 发明专利

JP5802785B2 パターン形成方法及びレジスト組成物有权
公开(公告)号：JP5802785B2
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：JP2014060928
申请日：2014-03-24
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：上村聡 , 樽谷晋司 , 岩戸薫 , 片岡祥平 , 水谷一良 , 土橋徹 , 榎本雄一郎 , 藤井佳奈 , 加藤啓太
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/038

9. 发明专利

JP5740287B2 パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP5740287B2
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：JP2011245737
申请日：2011-11-09
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：山口修平 , 高橋秀知 , 白川三千紘 , 片岡祥平 , 齊藤翔一 , 吉野文博
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/325

10. 发明专利

JP2015079261A パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜有权
标题翻译：图案形成方法，丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物和耐腐蚀膜
公开(公告)号：JP2015079261A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：JP2014239105
申请日：2014-11-26
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：片岡祥平 , 高橋秀知 , 山口修平 , 齊藤翔一 , 白川三千紘 , 吉野文博
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/038
摘要：【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。【解決手段】(ア)酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して65モル%以上有し、かつ一般式(I)又は(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在线宽度韧性和曝光宽容度等粗糙性能优异的图案形成方法，以及用于该方法的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（1）通过使用包含树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜，所述树脂具有包含通过酸的作用分解的基团的重复单元，以产生在树脂的整个重复单元中为65摩尔％以上，并且还具有由通式（I）或（II）表示的重复单元。（2）曝光胶片; 和（3）通过使用包含有机溶剂的显影剂显影该膜。

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