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1. 发明专利

JPWO2017057226A1 パターン形成方法、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017057226A1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016078170
申请日：2016-09-26
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉野文博 , 原田憲一 , 杉山真一 , 冨賀敬充
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2006 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要：本発明は、製造ロット間における厚みのバラツキが生じにくく、グレースケール露光に好適に適用できるパターン形成方法、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。本発明のパターン形成方法は、酸の作用によって現像液に対する溶解性が変化する樹脂及び酸発生剤を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、基板上に厚みTの膜を形成する工程Aと、膜を露光する工程Bと、露光された膜を、現像液を用いて現像し、パターンを形成する工程Cと、を有する、パターン形成方法であって、工程Aにおいて形成された膜が、下記条件1及び条件2の少なくとも一方を満たす。条件1:膜の厚みTが800nm以上の場合、γの値が10000未満である。条件2:膜の厚みTが800nm未満の場合、γの値が5000未満である。

2. 发明专利

JP6025887B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜有权
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，和抗蚀剂膜
公开(公告)号：JP6025887B2
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：JP2015035151
申请日：2015-02-25
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：山口修平 , 高橋秀知 , 白川三千紘 , 片岡祥平 , 齊藤翔一 , 吉野文博
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F20/00 , G03F7/038

3. 发明专利

JP6014507B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物中，光化射线敏感或辐射敏感膜，图案形成方法及电子器件的制造方法
公开(公告)号：JP6014507B2
公开(公告)日：2016-10-25
申请号：JP2013020758
申请日：2013-02-05
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉野文博
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/325

4. 发明专利

JP2016057645A ネガ型パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：用于形成负型图案的方法和用于生产电子设备的方法
公开(公告)号：JP2016057645A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2015253716
申请日：2015-12-25
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：伊藤純一 , 山口修平 , 高橋秀知 , 山本慶 , 吉野文博
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/32 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要：【課題】コンタクトホールパターンを含む種々の形状を有するパターン形成においても、フォーカス余裕度(Depth of Focus; DOF)、局所的なパターン寸法の均一性及び解像性に優れるパターンを形成できるネガ型パターン形成方法、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(ア)感活性光線性または感放射線性樹脂組成物からなる膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて露光した前記膜を現像する工程、を含むネガ型パターン形成方法であり、前記感活性光線性または感放射線性樹脂組成物が、(G)窒素原子と、フッ素原子及びケイ素原子のいずれかを含有する、分子量500以上の非高分子化合物を含有することを特徴とするネガ型パターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供：即使在形成包括接触孔图案的各种形状的图案时，也可以形成具有优异的聚焦深度（深度焦点DOF）的负型图案的局部图案尺寸和分辨率的均匀性 ; 一种包括图案形成方法的电子装置的制造方法; 电子设备; 和主动射线敏感或辐射敏感性树脂组合物。解决方案：提供一种形成负型图案的方法，其包括：（A）形成由活性射线敏感或辐射敏感的膜组成的步骤树脂组合物，（B）使膜曝光的工序; 和（C）通过使用含有有机溶剂的显影液显影所述曝光膜的步骤，其中所述活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含分子量为500以上的非聚合物，其含有氟原子和硅原子。选择图：无

6. 发明专利

JP5846957B2 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜有权
标题翻译：的图案形成方法，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物和抗蚀剂膜
公开(公告)号：JP5846957B2
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：JP2012035633
申请日：2012-02-21
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：高橋秀知 , 山口修平 , 片岡祥平 , 白川三千紘 , 吉野文博 , 齊藤翔一
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40

7. 发明专利

JP2015212830A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、レジスト膜、及び電子デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，电阻膜和制造电子器件的方法
公开(公告)号：JP2015212830A
公开(公告)日：2015-11-26
申请号：JP2015124547
申请日：2015-06-22
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：山口修平 , 高橋秀知 , 白川三千紘 , 吉野文博
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , C08F220/10 , G03F7/20 , G03F7/038
摘要：【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び露光ラチチュードに優れ、パターンサイズの現像時間依存性が小さく、かつ現像による膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。【解決手段】(ア)下記一般式(I)又は(II)で表される繰り返し単位(a1)を樹脂(P)中の全繰り返し単位に対して20モル%以上有する樹脂(P)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (式(I)及び(II)中、Ra 1 は、(n+1)価の脂環式炭化水素基を表し、Ra 2 は、(p×2+1)価の脂環式炭化水素基を表す。) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供优异的粗糙度性能（如线宽粗糙度，局部图案尺寸均匀性和曝光宽容度）的图案形成方法对图案尺寸对显影时间几乎不具有依赖性，并且可以抑制膜还原通过显影，以及用于上述方法的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含具有代表性的重复单元（a1）的树脂（P）相对于树脂（P）中的全部重复单元，通式（I）或（II）为20摩尔％以上。和通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物（B）。在式（I）和（II）中，Rare表示具有（n + 1）化合价的脂环族烃基; 并且Rarepresents为化合价（p×2 + 1）的脂环族烃基。

8. 发明专利

JP5785754B2 パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP5785754B2
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：JP2011075855
申请日：2011-03-30
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：山口修平 , 高橋秀知 , 白川三千紘 , 片岡祥平 , 齊藤翔一 , 吉野文博
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/32 , G03F7/004 , G03F7/38 , C08F220/28 , C07C69/757 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0382 , C08F20/28 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/405

9. 发明专利

JP5775772B2 有機溶剤現像用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：对于有机溶剂显影的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，抗蚀剂膜图案形成方法，以及制造使用其的电子装置的方法
公开(公告)号：JP5775772B2
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：JP2011207015
申请日：2011-09-22
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉野文博 , 高橋秀知 , 山口修平 , 片岡祥平 , 白川三千紘 , 齊藤翔一
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/039

10. 发明专利

JP2015127827A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用其的耐腐蚀膜，图案形成方法和制造电子器件的方法
公开(公告)号：JP2015127827A
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：JP2015049584
申请日：2015-03-12
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉野文博 , 高橋秀知 , 山口修平 , 片岡祥平 , 白川三千紘 , 齊藤翔一
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/32 , C08F220/36 , G03F7/038
摘要：【課題】超微細の孔径(例えば、60nm以下)を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンを、良好な現像時間依存性を以って形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】(P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物(B)の含有量が8.0質量%以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。上記一般式(I)中、R 0 は、水素原子又はメチル基を表す。 R 1 、R 2 及びR 3 は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物，由此可以形成具有显微时间的良好依赖性的这种孔图案，其具有超细孔径（例如60nm或更小）和优异的圆形度，并提供使用该组合物的抗蚀剂膜，图案形成方法，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（P）树脂具有由通式（I）表示的重复单元（a）; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生有机酸的化合物。化合物（B）相对于光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物的全部固体成分的含量为8.0质量％以上。还公开了使用上述组成的抗蚀剂膜，图案形成方法，电子器件的制造方法和电子器件。在通式（I）中，R表示氢原子或甲基; 而R，Rand Reach独立地表示直链或支链烷基。

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