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1. 发明申请

WO2009063990A1 ベンズアゼピノン化合物审中-公开
标题翻译：苯扎酮化合物
公开(公告)号：WO2009063990A1
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/JP2008/070804
申请日：2008-11-14
申请人：宇部興産株式会社 , 鈴木尚登 , 津崎康則 , 吉村公彦 , 萩原昌彦 , 和田幸周 , 丸山正雄 , 藤井伸芳 , 阿賀康弘
发明人：鈴木尚登 , 津崎康則 , 吉村公彦 , 萩原昌彦 , 和田幸周 , 丸山正雄 , 藤井伸芳 , 阿賀康弘
IPC分类号： C07D487/04 , A61K31/55 , A61P1/04 , A61P1/16 , A61P1/18 , A61P9/00 , A61P9/10 , A61P11/00 , A61P13/12 , A61P17/00 , A61P17/06 , A61P19/02 , A61P19/04 , A61P19/10 , A61P25/00 , A61P35/00 , A61P35/04 , A61P43/00
CPC分类号： C07D487/04 , C07D223/16
摘要：　本発明は、下記式（Ｉ）：【化１】式中、Ｒ１は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基又はハロゲノＣ１－Ｃ６アルキル基を示し、Ｒ２は、保護されていてもよいカルボキシ基を示し、Ｙは、一般式（ＩＩ）：【化２】式中、Ｚは、ＣＨ又は窒素原子を示す、を示す、で表されるベンズアゼピノン化合物又はその薬理上許容される塩に関する。
摘要翻译：公开了由下式（I）表示的苯并氮杂酮化合物或其药理学上可接受的盐。在式（I）中，R 1表示C 1 -C 6烷基或卤代C 1 -C 6烷基; R2表示任选保护的羧基; Y表示下述通式（II）表示的基团。式（II）中，Z表示CH或氮原子。

2. 发明申请

WO2007114526A1 高純度のプラスグレル及びその酸付加塩の製造方法审中-公开
标题翻译：生产高纯度预处理和酸添加盐的方法
公开(公告)号：WO2007114526A1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/JP2007/057785
申请日：2007-04-06
申请人：第一三共株式会社 , 宇部興産株式会社 , 井上輝比古 , 中村和良 , 萩原昌彦 , 宮田博之 , 和田幸周 , 横田尚之
发明人：井上輝比古 , 中村和良 , 萩原昌彦 , 宮田博之 , 和田幸周 , 横田尚之
IPC分类号： C07D495/04 , A61K31/4365 , A61P7/02
CPC分类号： C07D495/04
摘要：　本発明は、ＯＸＴＰ含量を低減したプラスグレル塩酸塩等を提供することにある。　ＯＸＴＰを含有するプラスグレルフリー体を不活性溶媒に溶解させ、塩酸を滴下若しくは添加して反応させることによる、ＯＸＴＰ含量を低減したプラスグレル塩酸塩の製造方法。
摘要翻译：盐酸普拉格雷减少OXTP含量。提供了一种制备OXTP含量降低的普拉格雷盐酸盐的方法，其包括将游离形式的含有OXTP的普鲁格雷溶解在惰性溶剂中并滴加或以其他方式加入盐酸使其反应。

3. 发明申请

WO2008108291A1 高純度のプラスグレル塩酸塩の製造方法审中-公开
标题翻译：生产具有高纯度的高氯酸氢盐的方法
公开(公告)号：WO2008108291A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/JP2008/053617
申请日：2008-02-29
申请人：第一三共株式会社 , 宇部興産株式会社 , 宮田博之 , 和田幸周 , 横田尚之
发明人：宮田博之 , 和田幸周 , 横田尚之
IPC分类号： C07D495/04 , A61K31/4365 , A61P7/02
CPC分类号： C07D495/04 , Y02P20/55
摘要：　本発明は、ＣＡＴＰ含量を低減したプラスグレル塩酸塩等を提供することにある。【化１】［式中、Ｒは水酸基の保護基を示す。］　上式で表されるプラスグレル塩酸塩を製造する方法において、工程ｉにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度及び塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度を低温に制御することを特徴とする、プラスグレル塩酸塩の製造方法。
摘要翻译：本发明的目的是提供具有降低的CATP含量的普拉格雷盐酸盐等。具体公开了下述方案所示的制备普拉格雷盐酸盐的方法，其中将步骤（i）中滴加或加入氯化剂的温度和滴加或加入氯化剂后的反应温度调节至较低的温度。步骤i步骤ii步骤iii步骤iv其中R表示羟基的保护基。

4. 发明申请

WO2004029043A1 ピラゾール化合物审中-公开
标题翻译：吡咯化合物
公开(公告)号：WO2004029043A1
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：PCT/JP2003/012254
申请日：2003-09-25
申请人：宇部興産株式会社 , 萩原昌彦 , 柴川信彦 , 西原政道 , 白井利幸 , 清水基久 , 長谷川道 , 徳永裕仁 , 鈴木尚登 , 和田幸周
发明人：萩原昌彦 , 柴川信彦 , 西原政道 , 白井利幸 , 清水基久 , 長谷川道 , 徳永裕仁 , 鈴木尚登 , 和田幸周
IPC分类号： C07D401/14
CPC分类号： C07D401/14 , A61K31/501 , A61K31/5025 , A61K31/506 , C07D403/14 , C07D487/04
摘要： Pyrazole compounds represented by the general formula (I) or pharmacologically acceptable salts thereof, and pharmaceutical compositions containing the same as the active ingredient: (I) wherein R is optionally substituted phenyl; R is H, halogeno, alkyl, alkoxy, alkylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, or substituted amino; Q is CH or N; R is H, alkyl, or amino; and R is a group represented by the general formula (II), (III), (IV), or (V): (II) (III) (III) (V) (wherein R is H or alkyl; R is H, alkyl, or substituted amino; R is H or alkyl; and R is H, alkyl, halogenoalkyl, or substituted amino).
摘要翻译：由通式（I）表示的吡唑化合物或其药学上可接受的盐，以及含有与活性成分相同的药物组合物：（I）其中R 1为任选取代的苯基; R 2是H，卤代，烷基，烷氧基，烷硫基，烷基亚磺酰基，烷基磺酰基或取代的氨基; Q是CH或N; R 3是H，烷基或氨基; 和（IV）或（V）：（II）（III）（III）（V）（其中R 7为H（R））表示的基团，并且R 4是由通式（II），（III）或烷基; R 8是H，烷基或取代的氨基; R 9是H或烷基; R 12是H，烷基，卤代烷基或取代的氨基。

5. 发明专利

JP6841282B2 細胞培養モジュール有权
公开(公告)号：JP6841282B2
公开(公告)日：2021-03-10
申请号：JP2018530328
申请日：2017-07-25
申请人：宇部興産株式会社
发明人：萩原昌彦 , 布施新作 , 清水基久 , 和田幸周
IPC分类号： C12M3/00

6. 发明专利

JP2021013394A 細胞培養モジュール审中-公开
公开(公告)号：JP2021013394A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：JP2020188338
申请日：2020-11-11
申请人：宇部興産株式会社
发明人：萩原昌彦 , 布施新作 , 清水基久 , 和田幸周
IPC分类号： C12M1/00
摘要：【課題】細胞培養モジュールの提供。【解決手段】本発明は、ポリマー多孔質膜と、2以上の培地流出入口を有し、前記ポリマー多孔質膜が収容されたケーシングとを備えた細胞培養モジュールであって、ここで、前記ポリマー多孔質膜が、複数の孔を有する表面層A及び表面層Bと、前記表面層A及び表面層Bの間に挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造のポリマー多孔質膜であって、ここで前記表面層Aに存在する孔の平均孔径は、前記表面層Bに存在する孔の平均孔径よりも小さく、前記マクロボイド層は、前記表面層A及びBに結合した隔壁と、当該隔壁並びに前記表面層A及びBに囲まれた複数のマクロボイドとを有し、前記表面層A及びBにおける孔が前記マクロボイドに連通し、ここで、前記ケーシング内に前記ポリマー多孔質膜が収容されている、前記細胞培養モジュールを提供する。【選択図】無し

7. 发明专利

JPWO2019112004A1 発泡体、及び発泡体の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019112004A1
公开(公告)日：2020-12-10
申请号：JP2018044912
申请日：2018-12-06
申请人：宇部興産株式会社
发明人：清水基久 , 和田幸周 , 萩原昌彦
IPC分类号： C08L23/12 , C08K3/00 , C08K3/30 , C08J9/12
摘要：本発明の発泡体は、針状無機物粒子とポリプロピレンとを含み、前記針状無機物粒子の含有量が1質量%以上20質量%以下の範囲内にある。また、本発明の発泡体の製造方法は、針状無機物粒子とポリプロピレンとを混練して、針状無機物粒子を1質量%以上20質量%以下の範囲内で含有する第1混練物を生成させる工程と、前記第1混練物と水とを混練して第2混練物を生成させる工程と、前記第2混練物の水分を蒸発させて発泡体を生成させる工程と、を含む。

8. 发明专利

JP6787402B2 多重流路培養法有权
公开(公告)号：JP6787402B2
公开(公告)日：2020-11-18
申请号：JP2018530324
申请日：2017-07-25
申请人：宇部興産株式会社
发明人：萩原昌彦 , 布施新作 , 清水基久 , 和田幸周
IPC分类号： C12M1/00 , C12M1/14 , C12N5/00 , C12M3/00

9. 发明专利

JP6572891B2 N−置換スルホンアミド化合物およびその製造方法有权
公开(公告)号：JP6572891B2
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：JP2016527836
申请日：2015-06-10
申请人：宇部興産株式会社
发明人：山本康仁 , 大上雅良 , 和田幸周
IPC分类号： C07D213/74 , C07D401/14

10. 发明专利

JPWO2018021365A1 細胞培養装置、及び、それを使用した細胞培養方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018021365A1
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：JP2017026945
申请日：2017-07-25
申请人：宇部興産株式会社
发明人：萩原昌彦 , 布施新作 , 清水基久 , 和田幸周
IPC分类号： C12N5/071 , C12M3/00
摘要：本発明は、ポリマー多孔質膜と、前記ポリマー多孔質膜が収容された細胞培養部と、前記細胞培養部の上部に配置された培地供給手段と、前記細胞培養部の下部に配置された培地回収手段と、を備え、ここで、前記ポリマー多孔質膜が、複数の孔を有する表面層A及び表面層Bと、前記表面層A及び表面層Bの間に挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造のポリマー多孔質膜であって、ここで前記表面層Aに存在する孔の平均孔径は、前記表面層Bに存在する孔の平均孔径よりも小さく、前記マクロボイド層は、前記表面層A及びBに結合した隔壁と、当該隔壁並びに前記表面層A及びBに囲まれた複数のマクロボイドとを有し、前記表面層A及びBにおける孔が前記マクロボイドに連通し、ここで、前記細胞培養部が、1以上の培地排出口を有する底部と、側部とを備えた、細胞培養装置を提供する。

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