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1. 发明申请

WO2005072852A1 排ガス処理方法および排ガス処理装置审中-公开
标题翻译：用于处理排气的方法和装置
公开(公告)号：WO2005072852A1
公开(公告)日：2005-08-11
申请号：PCT/JP2005/000897
申请日：2005-01-25
申请人：大陽日酸株式会社 , 大見忠弘 , 長谷川英晴 , 石原良夫 , 鈴木克昌
发明人：大見忠弘 , 長谷川英晴 , 石原良夫 , 鈴木克昌
IPC分类号： B01D53/68
CPC分类号： B01J19/088 , B01J2219/0883 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894
摘要：この発明の排ガス処理方法では、半導体装置の製造設備内で励起状態にある排ガスを処理部のプラズマ処理部に減圧下で導入し、プラズマ処理部で発生しているプラズマによって励起状態を維持したまま、反応除去部の反応器に導入し、反応器に充填されている粒状酸化カルシウムからなる反応除去剤と反応させて排ガス中の有害ガス成分を除去する。プラズマ処理部に酸素を供給してプラズマの存在下、有害ガス成分を酸化分解したうえ、反応除去剤と反応させてもよい。
摘要翻译：一种废气处理方法，其特征在于，包括以下步骤：将处于退出状态的废气引入到用于制造半导体器件的设备中，以减少处理部分的等离子体处理部分，将废气引入通过在等离子体处理部分中产生等离子体而在排出反应部分中的反应器中保持退出状态，使废气与包含在反应器中的颗粒状氧化钙组成的除去反应剂反应并除去废气中的有害气体成分。该方法还可以包括将氧气供应到等离子体处理部分中，以便在等离子体存在下使有害气体成分氧化分解，然后使分解的气体组分与去除反应剂反应。

2. 发明申请

WO2007142192A1 多孔質酸化カルシウム粒状物及び多孔質水酸化カルシウム粒状物审中-公开
标题翻译：多孔氧化钙颗粒和多孔氢氧化钙颗粒
公开(公告)号：WO2007142192A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/JP2007/061295
申请日：2007-06-04
申请人：国立大学法人東北大学 , 大陽日酸株式会社 , 宇部マテリアルズ株式会社 , 大見忠弘 , 石原良夫 , 鈴木克昌 , 迫田薫 , 三隅修 , 渡辺高行
发明人：大見忠弘 , 石原良夫 , 鈴木克昌 , 迫田薫 , 三隅修 , 渡辺高行
IPC分类号： C01F11/02 , B01D53/28 , B01D53/86 , B01J20/04
CPC分类号： C01F11/02 , B01D53/685 , B01D2251/602 , B01D2251/604 , B01D2257/2027 , B01J20/041 , B01J20/28057 , B01J20/28069 , B01J20/28078 , B01J20/28092 , C01F11/04 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , Y10T428/2982
摘要： Disclosed are particulates of calcium oxide and calcium hydroxide which are suitably used for filling a gas fixing unit (32) of a fixation device (3) for a halide gas. Particularly disclosed are those particulates highly reactive with a halide gas or a decomposition product thereof. Specifically disclosed is a porous calcium oxide particulate composed of spherical porous calcium oxide particles, which has a BET specific surface area of not less than 50 m 2 /g. The total pore volume of pores having a diameter of 2-100 nm contained in all the porous particles is within the range of 0.40-0.70 mL/g. Also specifically disclosed is a porous calcium hydroxide particulate composed of spherical porous calcium hydroxide particles, which has a BET specific surface area of not less than 20 m 2 /g. The total pore volume of pores having a diameter of 2-100 nm contained in all the porous particles is within the range of 0.25-0.40 mL/g.
摘要翻译：公开了适合用于填充用于卤化物气体的固定装置（3）的气体固定单元（32）的氧化钙和氢氧化钙的颗粒。特别公开的是那些与卤化物气体或其分解产物高度反应的颗粒。具体公开的是由球形多孔氧化钙颗粒构成的多孔氧化钙颗粒，其BET比表面积不小于50m 2 / g。包含在所有多孔颗粒中的直径为2-100nm的孔的总孔体积在0.40-0.70mL / g的范围内。还具体公开了一种由球形多孔氢氧化钙颗粒构成的多孔氢氧化钙颗粒，其BET比表面积不小于20m 2 / g。包含在所有多孔颗粒中的直径为2-100nm的孔的总孔体积在0.25-0.40mL / g的范围内。

3. 发明申请

WO2005072853A1 排ガス処理剤および排ガス処理方法ならびに排ガス処理装置审中-公开
标题翻译：排气处理剂，处理排气的方法和处理排气的装置
公开(公告)号：WO2005072853A1
公开(公告)日：2005-08-11
申请号：PCT/JP2005/000907
申请日：2005-01-25
申请人：大陽日酸株式会社 , 長谷川英晴 , 石原良夫 , 鈴木克昌
发明人：長谷川英晴 , 石原良夫 , 鈴木克昌
IPC分类号： B01D53/68
CPC分类号： B01D53/68 , B01J20/041 , B01J20/28059 , B01J2220/42
摘要：　本発明の排ガス処理剤は、粒状で、多孔質であり、その表面の一部が水酸化カルシウムとなっている酸化カルシウムからなる排ガス処理剤である。表面積が１ｍ２／ｇ以上であり、空間率が１０～５０体積％であることが好ましい。この酸化カルシウムは、粒状の炭酸カルシウムを焼成して得られたものであり、半導体製造装置から排出される排ガスを気体状のまま、この排ガス処理剤に接触させて有害ガス成分を反応させて除去する。
摘要翻译：公开了一种废气处理剂，其由其表面部分由氢氧化钙组成的颗粒状多孔氧化钙组成。排气处理剂的表面积优选为1m 2 / g以上，孔隙率为10〜50体积％。通过烧制碳酸钙颗粒得到氧化钙。从处于气态的半导体制造装置排出的废气与该废气处理剂接触，从而引起废气中的有害气体成分的反应并除去。

4. 发明申请

WO2003047731A1 ガス供給方法及び装置审中-公开
标题翻译：气体供应方法与系统
公开(公告)号：WO2003047731A1
公开(公告)日：2003-06-12
申请号：PCT/JP2002/012703
申请日：2002-12-04
申请人：日本酸素株式会社 , 大見忠弘 , 石原良夫 , 中村章寛
发明人：大見忠弘 , 石原良夫 , 中村章寛
IPC分类号： B01D53/68
CPC分类号： C01B23/0052 , B01D53/46 , B01D53/68 , B01D53/70 , B01D53/74 , B01D2257/11 , B01D2257/2066 , C01B23/001 , C01B2210/0029 , C01B2210/0035 , C01B2210/0042 , Y02P20/154
摘要： Gas supplying method and system in which effective component gas in exhaust gas can be separated and purified efficiently regardless of variation in the flow rate or composition of the exhaust gas and consumed gas can be replenished efficiently. In a method for collecting exhaust gas discharged from a gas using facility, separating/purifying effective component gas contained in the exhaust gas and supplying the effective component gas thus obtained to the gas using facility, the exhaust gas discharged from the gas using facility is added with a replenishing gas of the same components as the effective component gas before the effective component gas is separated and purified.
摘要翻译：可以有效地补充排气中的有效成分气体可以有效地分离和净化而不管流量或废气和消耗气体的组成的变化如何的气体供给方法和系统。在从气体使用设备中排出的废气的收集方法中，分离/净化排气中含有的有效成分气体并将由此获得的有效成分气体供给到气体使用设备中，从气体使用设备排出的排气被添加在有效成分气体被分离和纯化之前，补充气体与有效成分气体相同的组分。

5. 发明申请

WO2007080706A1 排ガス処理装置审中-公开
标题翻译：排放气体处理装置
公开(公告)号：WO2007080706A1
公开(公告)日：2007-07-19
申请号：PCT/JP2006/322969
申请日：2006-11-17
申请人：大陽日酸株式会社 , 迫田薫 , 石原良夫
发明人：迫田薫 , 石原良夫
IPC分类号： B01D53/68 , B01D53/70 , H01L21/3065
CPC分类号： B01D53/70 , B01D2257/2066 , Y02C20/30 , Y02P70/605
摘要：　本発明の排ガス処理装置は、ガス使用設備１にＣ３Ｆ８などのガスを供給するガス供給装置２と、ガス使用設備１からの排ガスを受け入れて除害する除害装置４と、除害剤充填排出装置５と、制御装置６を備えている。ガス供給装置２からガス使用設備１に送られるガスの種類、流量、供給時間のデータを制御装置６に送る。制御部６は、これらのデータに基づいて除害装置４の除害筒４１の破過時期を予測し、破過時期になると除害筒４１の切替の指示を行い、除害剤の排出、充填を除害剤充填排出装置５に指示する。
摘要翻译：一种排放气体处理装置，包括用于向气体使用设备（1）供应气体的气体供应单元（2），例如C 3 C 8 N 8。解毒单元（4），用于从气体使用设备（1）接收和排除排放气体; 解毒剂充放电单元（5）; 和控制单元（6）。从气体供给单元（2）向气体使用设备（1）供给的气体的类型，流量和供给持续时间的数据被发送到控制单元（6）。控制单元（6）根据上述数据，在解毒管（41）的突破性定时命令切换到达时，估计解毒单元（4）的排毒管（41）的突破时间，并引导解毒剂充放电单元（5）在排毒或卸药时。

6. 发明专利

JP2019015696A 事故原因判定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019015696A
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2017135179
申请日：2017-07-11
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：関原章司 , 石原良夫 , 水野全
IPC分类号： G01N23/2252
摘要：【課題】炭素や酸素が含まれる流体を扱う設備の金属材料が破壊した事故が、爆発事故か液封事故かを特定できる事故原因判定方法を提供する。【解決手段】炭素及び酸素の少なくともいずれか一方を含む流体を扱う設備における金属材料の破壊した際の事故を判定する事故原因判定方法において、破壊した金属材料における前記流体との接触面側から金属材料中に侵入した炭素量又は酸素量を計測し、金属材料中に炭素又は酸素が侵入していたときには前記破壊の原因が爆発による爆発事故であると判定し、金属材料中に炭素又は酸素が侵入していないときには前記破壊の原因が液封による液封事故であると判定する【選択図】図1

7. 发明专利

JP6894312B2 事故原因判定方法有权
公开(公告)号：JP6894312B2
公开(公告)日：2021-06-30
申请号：JP2017135179
申请日：2017-07-11
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：関原章司 , 石原良夫 , 水野全
IPC分类号： G01N23/2252

8. 发明专利

JP2017164694A ガス処理装置、ガス処理方法、微粉末形成装置及び微粉末形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017164694A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016052999
申请日：2016-03-16
申请人：大陽日酸株式会社 , 国立大学法人筑波大学
发明人：筑根敦弘 , 石原良夫 , 阿部豊
IPC分类号： B01D53/78 , B01D53/14 , B01D53/18 , C01B33/18 , B01D53/46
摘要：【課題】ケイ素の水素化物を含む気体中から、ケイ素の水素化物を効率よく除去することが可能なガス処理装置を提供する。【解決手段】内部に水を貯留することにより液相S2と気相S1とを有する容器20と、容器20内に水を供給する水導入管30と、容器20内にケイ素の水素化物を含む気体を供給する気体導入管40と、水導入管30から供給される水と気体導入管40から供給されるケイ素の水素化物を含む気体と、から、直径10μm以下の気泡を含む気泡流を形成し、上記気泡流を液相S2に噴射する気泡発生手段50と、容器20内の気相S1から回収した、未反応のケイ素の水素化物を含む気体を、気泡発生手段50に供給するための気体循環経路60と、を備えていることを特徴とするガス処理装置1を選択する。【選択図】図1

9. 发明专利

JP5750337B2 ガス処理方法、ガス処理装置、微粉末の形成方法及び微粉末形成装置有权
标题翻译：气体处理方法，所述气体处理装置中，所述形成方法的细粉末和粉末形成装置
公开(公告)号：JP5750337B2
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：JP2011177432
申请日：2011-08-15
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：筑根敦弘 , 石原良夫
IPC分类号： B01D53/18 , B01D53/46 , B01D53/78 , B01D53/14

10. 发明专利

TW473456B 稀有氣體之回收方法及裝置失效
简体标题：稀有气体之回收方法及设备
公开(公告)号：TW473456B
公开(公告)日：2002-01-21
申请号：TW087119857
申请日：1998-12-01
申请人：日本氧氣股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 石原良夫
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B23/001 , B01D53/00 , B01D2256/18 , B01D2258/0216 , B01J3/00 , C23C16/4412 , Y02C20/30
摘要：本發明係關於一種稀有氣體之回收方法及裝置；也就是說，本發明係關於一種能夠相當有效率地回收著該由稀有氣體使用設備而被排放出之稀有氣體，並且，還能夠相當穩定地供應著該所規定純度之稀有氣體至前述之稀有氣體使用設備中，同時，也可以減低稀有氣體之消耗量之稀有氣體之回收方法及裝置。該稀有氣體之回收方法及裝置，係在回收著該由減壓之狀態下而進行著運轉之稀有氣體使用設備之所排放出之排氣中之稀有氣體之時，於減壓之狀態下，切換著所謂將前述之排氣導入至回收系統中之導入切換操作、以及所謂將前述之排氣排放出至排氣系統中之排放出切換操作，同時，係配合著前述之排氣中之所包含之不純物成分之濃度和稀有氣體使用設備之運轉狀態，而進行著前述之導入及排放出之切換操作。
简体摘要：本发明系关于一种稀有气体之回收方法及设备；也就是说，本发明系关于一种能够相当有效率地回收着该由稀有气体使用设备而被排放出之稀有气体，并且，还能够相当稳定地供应着该所规定纯度之稀有气体至前述之稀有气体使用设备中，同时，也可以减低稀有气体之消耗量之稀有气体之回收方法及设备。该稀有气体之回收方法及设备，系在回收着该由减压之状态下而进行着运转之稀有气体使用设备之所排放出之排气中之稀有气体之时，于减压之状态下，切换着所谓将前述之排气导入至回收系统中之导入切换操作、以及所谓将前述之排气排放出至排气系统中之排放出切换操作，同时，系配合着前述之排气中之所包含之不纯物成分之浓度和稀有气体使用设备之运转状态，而进行着前述之导入及排放出之切换操作。

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