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2. 发明专利

TW201240917A 含氮碳化合物 NITROGEN-CONTAINING CARBON COMPOUND 审中-公开
公开(公告)号：TW201240917A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW101106847
申请日：2012-03-02
申请人：國立大學法人熊本大學 , 可樂麗股份有限公司
发明人：真下茂 , 埃米爾歐姆扎克烏魯 , 岡本真人 , 弘田恭幸 , 安田佳明 , 岩崎秀治
IPC分类号： C01B , B01J , H01M
CPC分类号： C01B21/0605 , C01B32/20 , C01P2002/72 , C01P2002/78 , C01P2002/82
摘要：本發明之課題係以工業規模且有效率地提供具有石墨構造之新穎的含氮碳化合物。本發明係藉由提供一種含氮碳化合物，其含有1重量%以上20重量%以下的氮，且具有以粉末X射線繞射法所測定的d002面之間隔為3.40Å以上4.00Å以下之石墨構造的含氮碳化合物，而解決上述課題。
简体摘要：本发明之课题系以工业规模且有效率地提供具有石墨构造之新颖的含氮碳化合物。本发明系借由提供一种含氮碳化合物，其含有1重量%以上20重量%以下的氮，且具有以粉末X射线绕射法所测定的d002面之间隔为3.40Å以上4.00Å以下之石墨构造的含氮碳化合物，而解决上述课题。

3. 发明专利

TWI455891B II-VI族化合物半導體之製造方法、II-VI族化合物半導體螢光體之製造方法及六角晶體II-VI族化合物半導體失效
简体标题： II-VI族化合物半导体之制造方法、II-VI族化合物半导体萤光体之制造方法及六角晶体II-VI族化合物半导体
公开(公告)号：TWI455891B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW098103599
申请日：2009-02-05
申请人：國立大學法人熊本大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KUMAMOTO UNIVERSITY , 可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：真下茂 , MASHIMO, TSUTOMU , 艾米爾歐姆爾札克烏爾 , EMIL, OMURZAK UULU , 岡本真人 , OKAMOTO, MAKOTO , 岩崎秀治 , IWASAKI, HIDEHARU
IPC分类号： C01G9/08 , H01L33/00
CPC分类号： C01G9/08 , C01P2002/50 , C01P2002/52 , C01P2002/72 , C01P2004/04 , C01P2006/40 , C01P2006/88 , C09K11/565 , C09K11/574 , C09K11/584 , C25B1/00 , Y10T428/24355

4. 发明专利

TWI513661B 低氧化鈦之製造方法有权
简体标题：低氧化钛之制造方法
公开(公告)号：TWI513661B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW099106941
申请日：2010-03-10
申请人：國立大學法人熊本大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KUMAMOTO UNIVERSITY , 可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：真下茂 , MASHIMO, TSUTOMU , 艾米爾歐姆爾札克烏爾 , EMIL, OMURZAK UULU , 龜山直人 , KAMEYAMA, NAOTO , 岡本真人 , OKAMOTO, MAKOTO , 安田佳明 , YASUDA, YOSHIAKI , 岩崎秀治 , IWASAKI, HIDEHARU
IPC分类号： C01G23/04 , C25B1/00 , C25B11/04
CPC分类号： C01G23/043 , C01P2002/72 , C01P2002/82 , C01P2002/88 , C01P2006/40 , C25B1/00

5. 发明专利

TW201038485A 低氧化鈦及其製造方法 LOW-LEVEL TITANIA AND PROCESS FOR MANUFACTURING THEREOF 审中-公开
简体标题：低氧化钛及其制造方法 LOW-LEVEL TITANIA AND PROCESS FOR MANUFACTURING THEREOF
公开(公告)号：TW201038485A
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW099106941
申请日：2010-03-10
申请人：國立大學法人熊本大學 , 可樂麗股份有限公司
发明人：真下茂 , 艾米爾歐姆爾札克烏爾 , 龜山直人 , 岡本真人 , 安田佳明 , 岩崎秀治
IPC分类号： C01G , C25B
CPC分类号： C01G23/043 , C01P2002/72 , C01P2002/82 , C01P2002/88 , C01P2006/40 , C25B1/00
摘要：【課題】提供以工業規模而安定地製造低氧化鈦之方法。【解決手段】於水系媒體中,以包括至少一枝含氧化鈦電極之二枝電極間之放電,來製造低氧化鈦。
简体摘要：【课题】提供以工业规模而安定地制造低氧化钛之方法。【解决手段】于水系媒体中,以包括至少一枝含氧化钛电极之二枝电极间之放电,来制造低氧化钛。

6. 发明专利

TW200946459A ＩＩ－ＶＩ族化合物半導體之製造方法、ＩＩ－ＶＩ族化合物半導體螢光體之製造方法及六角晶體ＩＩ－ＶＩ族化合物半導體 A METHOD OF PRODUCING GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR, A METHOD OF PRODUCING GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR FLUORESCENT SUBSTANCE, AND GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR WITH HEXAGONAL CRYSTAL STRUCTURE 失效
简体标题：ＩＩ－ＶＩ族化合物半导体之制造方法、ＩＩ－ＶＩ族化合物半导体萤光体之制造方法及六角晶体ＩＩ－ＶＩ族化合物半导体 A METHOD OF PRODUCING GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR, A METHOD OF PRODUCING GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR FLUORESCENT SUBSTANCE, AND GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR WITH HEXAGONAL CRYSTAL STRUCTURE
公开(公告)号：TW200946459A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098103599
申请日：2009-02-05
申请人：國立大學法人熊本大學 , 可樂麗璐密奈絲股份有限公司
发明人：真下茂 , 艾米爾歐姆爾札克烏爾 , 岡本真人 , 岩崎秀治
IPC分类号： C01G , H01L
CPC分类号： C01G9/08 , C01P2002/50 , C01P2002/52 , C01P2002/72 , C01P2004/04 , C01P2006/40 , C01P2006/88 , C09K11/565 , C09K11/574 , C09K11/584 , C25B1/00 , Y10T428/24355
摘要：本發明係提供一種工業規模且穩定製造高純度的II-VI族化合物半導體之方法，與摻雜金屬等為容易的六角晶體構造之II-VI族化合物半導體。也提供一種II-VI族化合物半導體螢光體之製造方法。而用以解決上述問題之手段為：藉由於硫中，在金屬電極間予以脈衝電漿放電而使II-VI族化合物半導體予以生成，以製造II-VI族化合物半導體之方法；利用脈衝電漿放電的II-VI族化合物半導體螢光體之製造方法；及具有複數個雙晶之六角晶體II-VI族化合物半導體。
简体摘要：本发明系提供一种工业规模且稳定制造高纯度的II-VI族化合物半导体之方法，与掺杂金属等为容易的六角晶体构造之II-VI族化合物半导体。也提供一种II-VI族化合物半导体萤光体之制造方法。而用以解决上述问题之手段为：借由于硫中，在金属电极间予以脉冲等离子放电而使II-VI族化合物半导体予以生成，以制造II-VI族化合物半导体之方法；利用脉冲等离子放电的II-VI族化合物半导体萤光体之制造方法；及具有复数个双晶之六角晶体II-VI族化合物半导体。

7. 发明专利

TW201016596A 氧化鋅奈米粒子的製法及氧化鋅奈米粒子 METHOD OF MANUFACTURING ZINC OXIDE NANOPARTICLES AND ZINC OXIDE NANOPARTICLES 审中-公开
简体标题：氧化锌奈米粒子的制法及氧化锌奈米粒子 METHOD OF MANUFACTURING ZINC OXIDE NANOPARTICLES AND ZINC OXIDE NANOPARTICLES
公开(公告)号：TW201016596A
公开(公告)日：2010-05-01
申请号：TW098129493
申请日：2009-09-02
申请人：國立大學法人熊本大學 , 可樂麗璐密奈絲股份有限公司
发明人：真下茂 , 艾米爾歐姆爾札克烏爾 , 龜山直人 , 岡本真人 , 安田佳明 , 岩崎秀治
IPC分类号： B82B , C01G
CPC分类号： C01G9/02 , B82Y30/00 , C01P2002/72 , C01P2002/82 , C01P2004/64
摘要：本發明係提供一種對環境負擔較低、非常簡便且回收效率高、能以工業規模並穩定地製造氧化鋅奈米粒子的方法。本發明係藉由在水介質中使金屬鋅電極之間產生放電之氧化鋅奈米粒子製法來解決前述之課題。依該方法亦可獲得長軸為10~1000nm之氧化鋅奈米粒子、縱橫比2以上之氧化鋅奈米粒子以及由氧化鋅與氫所組成的氧化鋅奈米粒子複合體。
简体摘要：本发明系提供一种对环境负担较低、非常简便且回收效率高、能以工业规模并稳定地制造氧化锌奈米粒子的方法。本发明系借由在水介质中使金属锌电极之间产生放电之氧化锌奈米粒子制法来解决前述之课题。依该方法亦可获得长轴为10~1000nm之氧化锌奈米粒子、纵横比2以上之氧化锌奈米粒子以及由氧化锌与氢所组成的氧化锌奈米粒子复合体。

8. 发明专利

TW201837106A 樹脂組成物及其用途审中-公开
简体标题：树脂组成物及其用途
公开(公告)号：TW201837106A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106145971
申请日：2017-12-27
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：岡本真人 , OKAMOTO, MAKOTO , 塩田博崇 , SHIOTA, HIROTAKA , 鈴木真 , SUZUKI, MAKOTO
IPC分类号： C08L29/04 , C08L23/08 , C08K3/22 , C08J5/18 , B32B27/08 , B29C51/00 , B29C49/06 , B29B17/00 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L9/00
摘要：一種樹脂組成物，其為含有　　下述式(I)所表示的相對於全單體單位，a、b及c之含有率(莫耳%)滿足下述式(1)～(3)，且依下述式(4)所定義的皂化度(DS)為90莫耳%以上的變性EVOH(A)，及　　無機氧化物粒子(B)；　　又，無機氧化物粒子(B)之含量為5～5000ppm。　　該些樹脂組成物，非但不會損害EVOH原有的氣體阻隔性、透明性、保香性、耐溶劑性、耐油性等性能，且對於EVOH以外的樹脂，亦可改善其接著性、二次加工性及柔軟性。因此，適合使用於成形品、薄膜、薄片、熱收縮薄膜、熱成形品、多層構造體、共射出拉伸吹塑成形容器、燃料容器等。 DS=[(X、Y及Z中為氫原子時之合計莫耳數)/(X、Y及Z之合計莫耳數)]×100　　(4)
简体摘要：一种树脂组成物，其为含有　　下述式(I)所表示的相对于全单体单位，a、b及c之含有率(莫耳%)满足下述式(1)～(3)，且依下述式(4)所定义的皂化度(DS)为90莫耳%以上的变性EVOH(A)，及　　无机氧化物粒子(B)；　　又，无机氧化物粒子(B)之含量为5～5000ppm。　　该些树脂组成物，非但不会损害EVOH原有的气体阻隔性、透明性、保香性、耐溶剂性、耐油性等性能，且对于EVOH以外的树脂，亦可改善其接着性、二次加工性及柔软性。因此，适合使用于成形品、薄膜、薄片、热收缩薄膜、热成形品、多层构造体、共射出拉伸吹塑成形容器、燃料容器等。 DS=[(X、Y及Z中为氢原子时之合计莫耳数)/(X、Y及Z之合计莫耳数)]×100　　(4)

9. 发明专利

TWI577700B 改性乙烯－乙烯醇共聚物、其製造方法及其用途有权
简体标题：改性乙烯－乙烯醇共聚物、其制造方法及其用途
公开(公告)号：TWI577700B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW102128568
申请日：2013-08-09
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：岡本真人 , OKAMOTO, MAKOTO , 森川圭介 , MORIKAWA, KEISUKE
IPC分类号： C08F216/06 , C08F8/12 , C08J5/18 , B32B27/30 , B29C49/06 , B65D81/24 , B29L7/00
CPC分类号： C08F16/06 , B32B1/02 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2307/7242 , B32B2307/7244 , B32B2307/736 , B32B2439/00 , B32B2439/40 , B32B2439/70 , C08F8/12 , C08F22/10 , C08F216/06 , C08L29/06 , Y10T428/1352 , Y10T428/1397 , Y10T428/31515 , Y10T428/31913 , Y10T428/31938 , C08F210/02 , C08F216/08 , C08F216/16 , C08F218/08 , C08F216/1416

10. 发明专利

TW201815942A 樹脂組成物、擠壓成型品、射出成型品及吹塑成型品审中-公开
简体标题：树脂组成物、挤压成型品、射出成型品及吹塑成型品
公开(公告)号：TW201815942A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106121820
申请日：2017-06-29
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：米谷英里子 , KOMETANI, ERIKO , 岡本真人 , OKAMOTO, MAKOTO , 浅田光則 , ASADA, MITSUNORI , 李雅綺 , LI, YAQI
IPC分类号： C08L23/08 , C08L29/04 , C08F8/12 , C08K5/20 , B29C47/00 , B29C45/00 , B29C49/00 , B29K29/00
摘要：本發明提供熔融成型時之安定性及外觀特性優異之樹脂組成物，以及由該樹脂組成物成型之擠壓成型品、射出成型品及吹塑成型品。本發明之樹脂組成物係以乙烯-乙烯醇共聚物為主成分之樹脂組成物，其特徵為基於自210℃之熔融狀態以150℃/秒之冷卻速度冷卻時之示差掃描熱量測定(DSC)所得之DSC曲線，以下述式(1)求得之不均一核生成指數(f)未達0.6。式(1)中，Qtotal係上述DSC曲線中，上述DSC曲線與基準線所包圍之區域面積。Qhetero係上述區域中自比上述熔點低38℃之溫度至比熔點低75℃之溫度之範圍內之面積。 f=Qhetero/Qtotal‧‧‧(1)
简体摘要：本发明提供熔融成型时之安定性及外观特性优异之树脂组成物，以及由该树脂组成物成型之挤压成型品、射出成型品及吹塑成型品。本发明之树脂组成物系以乙烯-乙烯醇共聚物为主成分之树脂组成物，其特征为基于自210℃之熔融状态以150℃/秒之冷却速度冷却时之示差扫描热量测定(DSC)所得之DSC曲线，以下述式(1)求得之不均一核生成指数(f)未达0.6。式(1)中，Qtotal系上述DSC曲线中，上述DSC曲线与基准线所包围之区域面积。Qhetero系上述区域中自比上述熔点低38℃之温度至比熔点低75℃之温度之范围内之面积。 f=Qhetero/Qtotal‧‧‧(1)

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