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1. 发明专利

TWI303176B 氣體鋼瓶之開啓裝置 SEAL BREAKING APPRATUS OF GAS CYLINDER 失效
简体标题：气体钢瓶之开启设备 SEAL BREAKING APPRATUS OF GAS CYLINDER
公开(公告)号：TWI303176B
公开(公告)日：2008-11-21
申请号：TW095105856
申请日：2006-02-22
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
IPC分类号： A62C
CPC分类号： A62C13/62 , A62C13/74 , A62C13/76 , A62C99/0027 , F17C2221/013 , F17C2270/0754
摘要：本發明所提供的氣體鋼瓶之開啓裝置,適用於例如使用
卡式氣體鋼瓶的家庭用、辦公室用或車用二氧化碳滅火
器,在筒體內小巧收容複數氣體鋼瓶,俾達小形輕量化與
改善外觀,且可將該等氣體鋼瓶簡單且安全地一次開啓,
並可迅速且安全地使用大量氣體,且在氣體鋼瓶開啓後能
防止發生乾冰凝結或流路阻塞狀況,可獲得穩定的氣體噴
出狀態。
简体摘要：本发明所提供的气体钢瓶之开启设备,适用于例如使用卡式气体钢瓶的家庭用、办公室用或车用二氧化碳灭火器,在筒体内小巧收容复数气体钢瓶,俾达小形轻量化与改善外观,且可将该等气体钢瓶简单且安全地一次开启, 并可迅速且安全地使用大量气体,且在气体钢瓶开启后能防止发生干冰凝结或流路阻塞状况,可获得稳定的气体喷出状态。

2. 发明专利

TW200700108A 氣體鋼瓶之開啓裝置 SEAL BREAKING APPRATUS OF GAS CYLINDER 失效
简体标题：气体钢瓶之开启设备 SEAL BREAKING APPRATUS OF GAS CYLINDER
公开(公告)号：TW200700108A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095105856
申请日：2006-02-22
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
IPC分类号： A62C
CPC分类号： A62C13/62 , A62C13/74 , A62C13/76 , A62C99/0027 , F17C2221/013 , F17C2270/0754
摘要：本發明所提供的氣體鋼瓶之開啓裝置,適用於例如使用卡式氣體鋼瓶的家庭用、辦公室用或車用二氧化碳滅火器,在筒體內小巧收容複數氣體鋼瓶,俾達小形輕量化與改善外觀,且可將該等氣體鋼瓶簡單且安全地一次開啓,並可迅速且安全地使用大量氣體,且在氣體鋼瓶開啓後能防止發生乾冰凝結或流路阻塞狀況,可獲得穩定的氣體噴出狀態。一種氣體鋼瓶之開啓裝置,其具備有氣體鋼瓶,其內部填充氣體,且利用封板將開口部密封;具備有中空筒體,其可收容上述氣體鋼瓶;具備有鋼瓶固定架與尖端部,該鋼瓶固定架可將氣體鋼瓶的開口部保持於上述筒體的固定位置,該尖端部具有可開啓上述封板的尖端部;具備有針管與針管固定架,該針管可將填充氣體導出於外部,該針管固定架可保持該針管;並且將上述鋼瓶固定架與針管固定架相隔開而配置,且上述針管固定架與上述封板可相對靠近而移動。在上述筒體內部設置複數鋼瓶固定架與針管固定架。在上述筒體內部以同軸方向收容複數氣體鋼瓶。各鋼瓶固定架或各針管固定架設置成可一次性地移動,且可將各氣體鋼瓶的封板可於大約一次中開啓。
简体摘要：本发明所提供的气体钢瓶之开启设备,适用于例如使用卡式气体钢瓶的家庭用、办公室用或车用二氧化碳灭火器,在筒体内小巧收容复数气体钢瓶,俾达小形轻量化与改善外观,且可将该等气体钢瓶简单且安全地一次开启,并可迅速且安全地使用大量气体,且在气体钢瓶开启后能防止发生干冰凝结或流路阻塞状况,可获得稳定的气体喷出状态。一种气体钢瓶之开启设备,其具备有气体钢瓶,其内部填充气体,且利用封板将开口部密封;具备有中空筒体,其可收容上述气体钢瓶;具备有钢瓶固定架与尖端部,该钢瓶固定架可将气体钢瓶的开口部保持于上述筒体的固定位置,该尖端部具有可开启上述封板的尖端部;具备有针管与针管固定架,该针管可将填充气体导出于外部,该针管固定架可保持该针管;并且将上述钢瓶固定架与针管固定架相隔开而配置,且上述针管固定架与上述封板可相对靠近而移动。在上述筒体内部设置复数钢瓶固定架与针管固定架。在上述筒体内部以同轴方向收容复数气体钢瓶。各钢瓶固定架或各针管固定架设置成可一次性地移动,且可将各气体钢瓶的封板可于大约一次中开启。

3. 发明专利

TW200700329A 六價鉻的去除方法审中-公开
简体标题：六价铬的去除方法
公开(公告)号：TW200700329A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095116675
申请日：2006-05-11
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 新藤守久 SHINDO MORIHISA
IPC分类号： C02F , B09B
CPC分类号： C23C22/86 , C01G37/00 , C01G37/003 , C22B5/00 , C22B7/006 , C22B34/32 , C25F3/08 , Y02P10/234
摘要：本發明為提供一種六價鉻之去除方法,其不需要特殊且昂貴之設備,可將殘存於鉻鍍敷或鉻酸鹽皮膜之表面或內部之六價鉻確實且低廉地去除,以阻止六價鉻從被處理素材溶出,同時達到六價鉻殘存零件之安全使用或廢棄,而防止對環境之污染或對人體之影響。解決問題之手段為一種殘存於被處理素材3之六價鉻之去除方法。係使具有殘存者前述六價鉻之皮膜的被處理素材3與液狀或微粒狀之還原劑接觸。自前述皮膜去除六價鉻。
简体摘要：本发明为提供一种六价铬之去除方法,其不需要特殊且昂贵之设备,可将残存于铬镀敷或铬酸盐皮膜之表面或内部之六价铬确实且低廉地去除,以阻止六价铬从被处理素材溶出,同时达到六价铬残存零件之安全使用或废弃,而防止对环境之污染或对人体之影响。解决问题之手段为一种残存于被处理素材3之六价铬之去除方法。系使具有残存者前述六价铬之皮膜的被处理素材3与液状或微粒状之还原剂接触。自前述皮膜去除六价铬。

4. 发明专利

TWI232896B 被處理物之表面處理方法及其處理裝置 SURFACE TREATING METHOD OF OBJECT TO BE TREATED AND TREATMENT APPARATUS THEREOF 失效
简体标题：被处理物之表面处理方法及其处理设备 SURFACE TREATING METHOD OF OBJECT TO BE TREATED AND TREATMENT APPARATUS THEREOF
公开(公告)号：TWI232896B
公开(公告)日：2005-05-21
申请号：TW091133045
申请日：2002-11-11
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 旭工程股份有限公司 ASAHI ENGINEERING CO., LTD.
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 宮田清藏 MIYATA SEIZO , 曾根正人 SONE MASATO , 佐藤信義 SATO NOBUYOSHI
IPC分类号： C25D
CPC分类号： B08B3/14 , C25D5/00 , C25D5/08 , C25D17/00 , C25D21/04 , H01L21/02052 , H01L21/2885 , H01L21/32134
摘要：本發明之被處理物之表面處理方法及處理裝置，能夠適用於例如被處理物的電氣化學處理，避免被處理物和空氣接觸，使得被處理表面能高度精確並且平均的活性化，獲得金屬離子之良好析出，同時，能合理地進行表面處理流體和處理液體的供應排除，有效加以利用並且防止排除於系統外，實現合理化的系統並且提昇生產性及量產化，同時能合理並且安全地進行電氣化學處理作業，而且能減少設備體積使得費用降低及便於維修。
本發明之被處理物之表面處理方法係將表面處理流體導入於可容納被處理物的反應槽(4)，在前述被處理物的表面處理後，將前述表面處理流體導入分離槽(14)，使得污染物分離後的表面處理流體循環於上述反應槽(4)。
前述被處理物的表面處理時，將包含前述反應槽(4)的表面流體循環途徑連通，而使得前述表面處理流體始終能循環於該循環途徑。
简体摘要：本发明之被处理物之表面处理方法及处理设备，能够适用于例如被处理物的电气化学处理，避免被处理物和空气接触，使得被处理表面能高度精确并且平均的活性化，获得金属离子之良好析出，同时，能合理地进行表面处理流体和处理液体的供应排除，有效加以利用并且防止排除于系统外，实现合理化的系统并且提升生产性及量产化，同时能合理并且安全地进行电气化学处理作业，而且能减少设备体积使得费用降低及便于维修。本发明之被处理物之表面处理方法系将表面处理流体导入于可容纳被处理物的反应槽(4)，在前述被处理物的表面处理后，将前述表面处理流体导入分离槽(14)，使得污染物分离后的表面处理流体循环于上述反应槽(4)。前述被处理物的表面处理时，将包含前述反应槽(4)的表面流体循环途径连通，而使得前述表面处理流体始终能循环于该循环途径。

5. 发明专利

TWI302169B 母材表面之活性化處理方法及其處理裝置 METHOD FOR ACTIVATING SURFACE OF BASE MATERIAL AND APPARATUS THEREOF 失效
简体标题：母材表面之活性化处理方法及其处理设备 METHOD FOR ACTIVATING SURFACE OF BASE MATERIAL AND APPARATUS THEREOF
公开(公告)号：TWI302169B
公开(公告)日：2008-10-21
申请号：TW091133311
申请日：2002-11-12
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 佐藤信義 SATO NOBUYOSHI , 佐古猛 SAKO TAKESHI , 曾根正人 SONE MASATO , 阿部健太郎 ABE KENTARO , 左近清人 SAKON KIYOHITO
IPC分类号： C25D
CPC分类号： B08B3/04 , B08B3/02 , B08B7/02 , C25D5/34 , Y10S134/902
摘要：本發明係適合例如電鍍等之電化學處理之前處理的母材表面之活性化處理方法及處理裝置;其係藉由安全且廉價的溶液,可同時且有效率而合理地進行金屬等母材表面的脫脂處理與氧化皮膜除去處理,於圖謀生產性之提高與設備費的減低之同時,可期廢液處理合理化、廢液的再利用與環境污染的防止。
本發明亦為用以對被處理構件表面進行脫脂或氧化皮膜除去處理的母材表面之活性化處理方法。
其係將二氧化碳溶解到既定量的水中,作成既定酸性濃度的氧化皮膜除去溶液者。
简体摘要：本发明系适合例如电镀等之电化学处理之前处理的母材表面之活性化处理方法及处理设备;其系借由安全且廉价的溶液,可同时且有效率而合理地进行金属等母材表面的脱脂处理与氧化皮膜除去处理,于图谋生产性之提高与设备费的减低之同时,可期废液处理合理化、废液的再利用与环境污染的防止。本发明亦为用以对被处理构件表面进行脱脂或氧化皮膜除去处理的母材表面之活性化处理方法。其系将二氧化碳溶解到既定量的水中,作成既定酸性浓度的氧化皮膜除去溶液者。

6. 发明专利

TWI288786B 陽極氧化法及氧化鈦膜之製造方法暨觸媒承載方法 ANODIC OXIDATION METHOD, TITANIUM OXIDE FILM MANUFACTURING METHOD AND CATALYST CARRYING METHOD 失效
简体标题：阳极氧化法及氧化钛膜之制造方法暨触媒承载方法 ANODIC OXIDATION METHOD, TITANIUM OXIDE FILM MANUFACTURING METHOD AND CATALYST CARRYING METHOD
公开(公告)号：TWI288786B
公开(公告)日：2007-10-21
申请号：TW093113385
申请日：2004-05-13
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 阿部健太郎 ABE KENTARO , 左近清人 SAKON KIYOHITO
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C25D11/06 , B01J37/348 , C25D11/26
摘要：本發明所提供之陽極氧化法及氧化鈦膜之製造方法暨觸媒承載方法，係適合於如鋁或鈦的陽極氧化暨鋁氧化膜表面之觸媒承載，廢棄強酸性或強鹼性電解液之使用，以廉價且排水處理較容易的碳酸水作為電解液使用，且可以簡單的方法控制氧化膜之封孔處理，可合理且輕易地施行氧化膜之染色與觸媒承載，同時可在不致侵蝕母材情況下，安全且確實地觸媒承載。
在收容於處理槽(1)內的電解液中，以被處理構件(3)作為陽極並施行電解，而在上述被處理構件(3)表面上生成氧化膜的陽極氧化法。
上述電解液係使用在既定量水(7)中溶解加壓二氧化碳而生成之既定酸性濃度碳酸水。
將上述電解液設定為既定壓力及溫度。
在上述電解液中混入氧化膜的封孔抑制離子。
简体摘要：本发明所提供之阳极氧化法及氧化钛膜之制造方法暨触媒承载方法，系适合于如铝或钛的阳极氧化暨铝氧化膜表面之触媒承载，废弃强酸性或强碱性电解液之使用，以廉价且排水处理较容易的碳酸水作为电解液使用，且可以简单的方法控制氧化膜之封孔处理，可合理且轻易地施行氧化膜之染色与触媒承载，同时可在不致侵蚀母材情况下，安全且确实地触媒承载。在收容于处理槽(1)内的电解液中，以被处理构件(3)作为阳极并施行电解，而在上述被处理构件(3)表面上生成氧化膜的阳极氧化法。上述电解液系使用在既定量水(7)中溶解加压二氧化碳而生成之既定酸性浓度碳酸水。将上述电解液设置为既定压力及温度。在上述电解液中混入氧化膜的封孔抑制离子。

7. 发明专利

TW200504248A 陽極氧化法及氧化鈦膜之製造方法暨觸媒承載方法 ANODIC OXIDATION METHOD, TITANIUM OXIDE FILM MANUFACTURING METHOD AND CATALYST CARRYING METHOD 失效
简体标题：阳极氧化法及氧化钛膜之制造方法暨触媒承载方法 ANODIC OXIDATION METHOD, TITANIUM OXIDE FILM MANUFACTURING METHOD AND CATALYST CARRYING METHOD
公开(公告)号：TW200504248A
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW093113385
申请日：2004-05-13
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 阿部健太郎 ABE KENTARO , 左近清人 SAKON KIYOHITO
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C25D11/06 , B01J37/348 , C25D11/26
摘要：本發明所提供之陽極氧化法及氧化鈦膜之製造方法暨觸媒承載方法，係適合於如鋁或鈦的陽極氧化暨鋁氧化膜表面之觸媒承載，廢棄強酸性或強鹼性電解液之使用，以廉價且排水處理較容易的碳酸水作為電解液使用，且可以簡單的方法控制氧化膜之封孔處理，可合理且輕易地施行氧化膜之染色與觸媒承載，同時可在不致侵蝕母材情況下，安全且確實地觸媒承載。在收容於處理槽(1)內的電解液中，以被處理構件(3)作為陽極並施行電解，而在上述被處理構件(3)表面上生成氧化膜的陽極氧化法。上述電解液係使用在既定量水(7)中溶解加壓二氧化碳而生成之既定酸性濃度碳酸水。將上述電解液設定為既定壓力及溫度。在上述電解液中混入氧化膜的封孔抑制離子。
简体摘要：本发明所提供之阳极氧化法及氧化钛膜之制造方法暨触媒承载方法，系适合于如铝或钛的阳极氧化暨铝氧化膜表面之触媒承载，废弃强酸性或强碱性电解液之使用，以廉价且排水处理较容易的碳酸水作为电解液使用，且可以简单的方法控制氧化膜之封孔处理，可合理且轻易地施行氧化膜之染色与触媒承载，同时可在不致侵蚀母材情况下，安全且确实地触媒承载。在收容于处理槽(1)内的电解液中，以被处理构件(3)作为阳极并施行电解，而在上述被处理构件(3)表面上生成氧化膜的阳极氧化法。上述电解液系使用在既定量水(7)中溶解加压二氧化碳而生成之既定酸性浓度碳酸水。将上述电解液设置为既定压力及温度。在上述电解液中混入氧化膜的封孔抑制离子。

8. 发明专利

TW588119B 電鍍等之電化學處理方法及其電化學反應裝置失效
简体标题：电镀等之电化学处理方法及其电化学反应设备
公开(公告)号：TW588119B
公开(公告)日：2004-05-21
申请号：TW090120725
申请日：2001-08-23
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 宮田清藏 MIYATA SEIZO , 淺井美博 ASAI YOSHIHIRO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 宮田清藏 MIYATA SEIZO , 曾根正人 SONE MASATO , 岩尾文子 IWAO HUMIKO , 淺井美博 ASAI YOSHIHIRO , 淺井大惠 ASAI HIROE
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C25D3/02 , B23H3/08 , C23C18/1685 , C23C22/18 , C23C22/24 , C25D5/003 , C25D5/34 , C25D5/48 , C25D11/005 , C25D11/02 , C25D11/04 , C25D13/00 , C25D17/02 , C25F3/00
摘要：反應性高且可有效率進行電化學反應、且電解質溶液、洗淨液等廢液之發生量少或完全不會發生故環境性佳、並且於反應後不需要以洗淨液將電極等予以洗淨之新穎電鍍等之電化學處理方法及其電化等反應裝置。
於含有超臨界或亞臨界狀態之物質(5)、和電解質溶液(1)、和視需要之界面活性劑(41)之反應浴槽(6)中進行電化學反應，且於反應後令超臨界或亞臨界狀態之物質移行至該臨界前之狀態。
简体摘要：反应性高且可有效率进行电化学反应、且电解质溶液、洗净液等废液之发生量少或完全不会发生故环境性佳、并且于反应后不需要以洗净液将电极等予以洗净之新颖电镀等之电化学处理方法及其电化等反应设备。于含有超临界或亚临界状态之物质(5)、和电解质溶液(1)、和视需要之界面活性剂(41)之反应浴槽(6)中进行电化学反应，且于反应后令超临界或亚临界状态之物质移行至该临界前之状态。

9. 发明专利

TW200305662A 母材表面之活性化處理方法及其處理裝置 METHOD FOR ACTIVATING SURFACE OF BASE MATERIAL AND APPARATUS THEREOF 失效
简体标题：母材表面之活性化处理方法及其处理设备 METHOD FOR ACTIVATING SURFACE OF BASE MATERIAL AND APPARATUS THEREOF
公开(公告)号：TW200305662A
公开(公告)日：2003-11-01
申请号：TW091133311
申请日：2002-11-12
申请人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO
发明人：吉田英夫 YOSHIDA HIDEO , 佐藤信義 SATO NOBUYOSHI , 佐古猛 SAKO TAKESHI , 曾根正人 SONE MASATO , 阿部健太郎 ABE KENTARO , 左近清人 SAKON KIYOHITO
IPC分类号： C25D
CPC分类号： B08B3/04 , B08B3/02 , B08B7/02 , C25D5/34 , Y10S134/902
摘要：本發明係適合例如電鍍等之電化學處理之前處理的母材表面之活性化處理方法及處理裝置；其係藉由安全且廉價的溶液，可同時且有效率而合理地進行金屬等母材表面的脫脂處理與氧化皮膜除去處理，於圖謀生產性之提高與設備費的減低之同時，可期廢液處理合理化、廢液的再利用與環境污染的防止。本發明亦為用以對被處理構件表面進行脫脂或氧化皮膜除去處理的母材表面之活性化處理方法。其係將二氧化碳溶解到既定量的水中，作成既定酸性濃度的氧化皮膜除去溶液者。
简体摘要：本发明系适合例如电镀等之电化学处理之前处理的母材表面之活性化处理方法及处理设备；其系借由安全且廉价的溶液，可同时且有效率而合理地进行金属等母材表面的脱脂处理与氧化皮膜除去处理，于图谋生产性之提高与设备费的减低之同时，可期废液处理合理化、废液的再利用与环境污染的防止。本发明亦为用以对被处理构件表面进行脱脂或氧化皮膜除去处理的母材表面之活性化处理方法。其系将二氧化碳溶解到既定量的水中，作成既定酸性浓度的氧化皮膜除去溶液者。

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