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1. 发明专利

TWI638834B 薄膜、使用其之包裝體及液壓轉印用薄膜、以及液壓轉印方法有权
简体标题：薄膜、使用其之包装体及液压转印用薄膜、以及液压转印方法
公开(公告)号：TWI638834B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW103127014
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , C08J5/18 , B29C59/02 , B29L7/00

2. 发明专利

TW201532819A 光學薄膜製造用坯材薄膜审中-公开
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜
公开(公告)号：TW201532819A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW104100019
申请日：2015-01-05
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： B32B27/30 , B32B27/18 , B29C55/04 , B29C37/00 , G02B1/04 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29K101/12 , B29L7/00 , B29L9/00 , B29L11/00
CPC分类号： G02B5/305 , B32B27/08 , B32B27/22 , B32B27/306 , B32B2307/42 , B32B2457/20 , B32B2457/202 , C08J7/047 , C08J2429/04
摘要：本發明提供一種光學薄膜製造用坯材薄膜，即使不進行所謂對硼酸水溶液之浸漬或空氣中高溫延伸(the elevated temperature in-air stretching)之不溶化處理，在與水接觸的步驟中，也可抑制聚乙烯醇之溶出，且可使用通用的光學薄膜製造設備簡便地製造光學性能佳的光學薄膜；以及使用其之光學薄膜之製造方法。本發明為一種具有熱可塑性樹脂薄膜層與包含硼化合物之聚乙烯醇層的光學薄膜製造用坯材薄膜；以及一種製造方法，係為使用該光學薄膜製造用坯材薄膜的光學薄膜之製造方法，其具有延伸的步驟。
简体摘要：本发明提供一种光学薄膜制造用坯材薄膜，即使不进行所谓对硼酸水溶液之浸渍或空气中高温延伸(the elevated temperature in-air stretching)之不溶化处理，在与水接触的步骤中，也可抑制聚乙烯醇之溶出，且可使用通用的光学薄膜制造设备简便地制造光学性能佳的光学薄膜；以及使用其之光学薄膜之制造方法。本发明为一种具有热可塑性树脂薄膜层与包含硼化合物之聚乙烯醇层的光学薄膜制造用坯材薄膜；以及一种制造方法，系为使用该光学薄膜制造用坯材薄膜的光学薄膜之制造方法，其具有延伸的步骤。

3. 发明专利

TWI636066B 光學薄膜製造用坯材薄膜及光學薄膜之製造方法有权
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜及光学薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI636066B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW103127012
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , G02B5/30 , B29C55/04 , B29L7/00 , B29L11/00

4. 发明专利

TW201538590A 光學薄膜製造用坯材薄膜审中-公开
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜
公开(公告)号：TW201538590A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104102452
申请日：2015-01-26
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 加藤雅己 , KATO, MASAKI
IPC分类号： C08L29/04 , C08F216/06 , G02B1/04 , G02B5/30 , C08J5/18 , B29C55/04 , B29D7/01 , B29K29/00
CPC分类号： B29C55/04 , C08F8/12 , C08F216/06 , C08F218/08 , C08F2800/10 , C08J5/18 , C08J2300/104 , C08J2329/04 , G02B5/3033 , C08F218/12 , C08F216/04
摘要：本發明之課題在於提供一種可容易地製造光學特性、色相及耐久性均優良之收縮應力低的光學薄膜之光學薄膜製造用坯材薄膜、及使用其之光學薄膜之製造方法。本發明之解決手段為一種光學薄膜製造用坯材薄膜，其包含下述式(1)所示之結構單元的含有率為0.1~1.9莫耳%的含有羥甲基之乙烯醇系聚合物；及一種製造方法，其係使用該光學薄膜製造用坯材薄膜的光學薄膜之製造方法，且具有實施單軸延伸的步驟； [式中，R1表示碳數1~3之烷基]。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可容易地制造光学特性、色相及耐久性均优良之收缩应力低的光学薄膜之光学薄膜制造用坯材薄膜、及使用其之光学薄膜之制造方法。本发明之解决手段为一种光学薄膜制造用坯材薄膜，其包含下述式(1)所示之结构单元的含有率为0.1~1.9莫耳%的含有羟甲基之乙烯醇系聚合物；及一种制造方法，其系使用该光学薄膜制造用坯材薄膜的光学薄膜之制造方法，且具有实施单轴延伸的步骤； [式中，R1表示碳数1~3之烷基]。

5. 发明专利

TW201509956A 薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201509956A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103127014
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , C08J5/18 , B29C59/02 , B29L7/00
CPC分类号： C08J5/18 , A01N25/00 , B41F16/00 , B44C1/1758 , C08F8/12 , C08F216/06 , C08F218/08 , C08J2329/04 , C08F218/12 , C08F216/04
摘要：課題在於：提供一種水溶性優良並且縱使與藥劑接觸時水溶性的歷時變化亦較少之薄膜、使用該薄膜之包裝體及液壓轉印用薄膜、以及使用該液壓轉印用薄膜之液壓轉印方法。解決手段為：一種含有包含乙烯醇單元、及下述式(1)所示之單元結構的含有羥甲基之乙烯醇系聚合物之薄膜、使用該薄膜之包裝體及液壓轉印用薄膜、以及使用該液壓轉印用薄膜之液壓轉印方法；
简体摘要：课题在于：提供一种水溶性优良并且纵使与药剂接触时水溶性的历时变化亦较少之薄膜、使用该薄膜之包装体及液压转印用薄膜、以及使用该液压转印用薄膜之液压转印方法。解决手段为：一种含有包含乙烯醇单元、及下述式(1)所示之单元结构的含有羟甲基之乙烯醇系聚合物之薄膜、使用该薄膜之包装体及液压转印用薄膜、以及使用该液压转印用薄膜之液压转印方法；

6. 发明专利

TWI648330B 光學薄膜製造用坯材薄膜及使用其之光學薄膜之製造方法有权
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜及使用其之光学薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI648330B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW104102452
申请日：2015-01-26
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 加藤雅己 , KATO, MASAKI
IPC分类号： C08L29/04 , C08F216/06 , G02B1/04 , G02B5/30 , C08J5/18 , B29C55/04 , B29D7/01 , B29K29/00

7. 发明专利

TWI601649B 液壓轉印用基膜、液壓轉印用膜及液壓轉印方法有权
简体标题：液压转印用基膜、液压转印用膜及液压转印方法
公开(公告)号：TWI601649B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW102109790
申请日：2013-03-20
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 練苧喬士 , NERIO, TAKASHI
IPC分类号： B44C1/175
CPC分类号： B44C1/175

8. 发明专利

TW201708364A 液壓轉印用基膜审中-公开
简体标题：液压转印用基膜
公开(公告)号：TW201708364A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105118681
申请日：2016-06-15
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：西見昭雄 , NISHIMI, AKIO , 高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 練苧喬士 , NERIO, TAKASHI , 藤田聰 , FUJITA, SATORU
IPC分类号： C08L29/04 , C08K7/02 , C08J5/18 , B29C59/02 , B65H18/00
CPC分类号： B44C1/1758 , B44C1/175 , C08J5/18 , C08K7/00 , C08K7/10 , C08L29/04
摘要：一種單層液壓轉印用基膜，其相對於100質量份的聚乙烯醇，而含有1.5~15質量份的平均粒徑為2~14μm且深寬比為4~60之板狀或針狀的填充劑；以及一種液壓轉印用基膜之製造方法，其具有使用製膜原液進行製膜的步驟，該製膜原液係相對於100質量份的聚乙烯醇而含有1.5~15質量份的平均粒徑為2~14μm且深寬比為4~60之板狀或針狀填充劑。藉此，可提供一種從捲筒拉取時不易斷裂的液壓轉印用基膜及其製造方法。
简体摘要：一种单层液压转印用基膜，其相对于100质量份的聚乙烯醇，而含有1.5~15质量份的平均粒径为2~14μm且深宽比为4~60之板状或针状的填充剂；以及一种液压转印用基膜之制造方法，其具有使用制膜原液进行制膜的步骤，该制膜原液系相对于100质量份的聚乙烯醇而含有1.5~15质量份的平均粒径为2~14μm且深宽比为4~60之板状或针状填充剂。借此，可提供一种从卷筒拉取时不易断裂的液压转印用基膜及其制造方法。

9. 发明专利

TW201348017A 液壓轉印用基膜审中-公开
简体标题：液压转印用基膜
公开(公告)号：TW201348017A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102109790
申请日：2013-03-20
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 練苧喬士 , NERIO, TAKASHI
IPC分类号： B44C1/175
CPC分类号： B44C1/175
摘要：本發明之技術課題係提供一種可充分防止浮在液面時造成之卷縮而能夠形成轉印效率優越的液壓轉印用膜之液壓轉印用基膜、由此所形成的液壓轉印用膜及使用該液壓轉印用膜之液壓轉印方法。本發明之解決手段係：在邊緣部分3具有線狀切槽之液壓轉印用基膜1；由在該液壓轉印用基膜1之表面上實施印刷而成的液壓轉印用膜；及一種液壓轉印方法，其具有：將該液壓轉印用膜之已實施印刷的面朝上而浮在液面的步驟、及從漂浮的液壓轉印用膜之上方將被轉印物壓入的步驟。
简体摘要：本发明之技术课题系提供一种可充分防止浮在液面时造成之卷缩而能够形成转印效率优越的液压转印用膜之液压转印用基膜、由此所形成的液压转印用膜及使用该液压转印用膜之液压转印方法。本发明之解决手段系：在边缘部分3具有线状切槽之液压转印用基膜1；由在该液压转印用基膜1之表面上实施印刷而成的液压转印用膜；及一种液压转印方法，其具有：将该液压转印用膜之已实施印刷的面朝上而浮在液面的步骤、及从漂浮的液压转印用膜之上方将被转印物压入的步骤。

10. 发明专利

TWI645221B 積層體、及偏光膜之製造方法有权
简体标题：积层体、及偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TWI645221B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW102127781
申请日：2013-08-02
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00 , B29C55/06 , B29K29/00 , B29L11/00

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