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1. 发明专利

TWI667271B 坯材薄膜、拉伸光學薄膜之製造方法、及拉伸光學薄膜有权
简体标题：坯材薄膜、拉伸光学薄膜之制造方法、及拉伸光学薄膜
公开(公告)号：TWI667271B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107120658
申请日：2018-06-15
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：大橋亘 , OHASHI, WATARU , 川崎雅洋 , KAWASAKI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 久保敬次 , KUBO, KEIJI
IPC分类号： C08J5/18 , C08L29/04 , C08L101/06 , G02B5/30

2. 发明专利

TWI636066B 光學薄膜製造用坯材薄膜及光學薄膜之製造方法有权
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜及光学薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI636066B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW103127012
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , G02B5/30 , B29C55/04 , B29L7/00 , B29L11/00

3. 发明专利

TWI611905B 聚乙烯醇薄膜及其製法、偏光膜及其製法暨偏光板有权
简体标题：聚乙烯醇薄膜及其制法、偏光膜及其制法暨偏光板
公开(公告)号：TWI611905B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW102134431
申请日：2013-09-25
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：下田康平 , SHIMODA, KOHEI , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： B29C55/04 , G02B5/30 , B29K29/00
CPC分类号： C08J5/18 , C08J2329/04 , G02B5/3033

4. 发明专利

TW201627381A 聚乙烯醇薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201627381A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104141636
申请日：2015-12-11
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：伊藤厚志 , ITOU, ATSUSHI , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08L29/04 , C08F16/06 , C08J5/18 , G02B1/04 , G02B5/30 , B29C55/04 , B29C35/02 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00
CPC分类号： B29C41/26 , B29C41/46 , C08J5/18 , G02B5/30
摘要：本發明為一種PVA薄膜，在相對於薄膜面，利用由垂直的方向朝薄膜之寬度方向傾斜的方向之入射光，測定該PVA薄膜之各面的折射率A及B時(但是，A≧B)，A為1.524以上1.530以下；及一種PVA薄膜之製造方法，其係使用具備旋轉軸相互平行的乾燥輥與熱處理輥之製膜裝置，在第1乾燥輥上，將包含PVA的製膜原液吐出為膜狀並進行部分乾燥後，以第2乾燥輥以後的乾燥輥進一步進行乾燥，之後，以多個熱處理輥進行熱處理而製造PVA薄膜，在此，使該熱處理輥中的位於最下游側的熱處理輥(Y)之圓周速度(SY)相對於位於最上游側之熱處理輥(X)的圓周速度(SX)的比(SY/SX)成為0.993以上0.997以下。
简体摘要：本发明为一种PVA薄膜，在相对于薄膜面，利用由垂直的方向朝薄膜之宽度方向倾斜的方向之入射光，测定该PVA薄膜之各面的折射率A及B时(但是，A≧B)，A为1.524以上1.530以下；及一种PVA薄膜之制造方法，其系使用具备旋转轴相互平行的干燥辊与热处理辊之制膜设备，在第1干燥辊上，将包含PVA的制膜原液吐出为膜状并进行部分干燥后，以第2干燥辊以后的干燥辊进一步进行干燥，之后，以多个热处理辊进行热处理而制造PVA薄膜，在此，使该热处理辊中的位于最下游侧的热处理辊(Y)之圆周速度(SY)相对于位于最上游侧之热处理辊(X)的圆周速度(SX)的比(SY/SX)成为0.993以上0.997以下。

5. 发明专利

TW201538590A 光學薄膜製造用坯材薄膜审中-公开
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜
公开(公告)号：TW201538590A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104102452
申请日：2015-01-26
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 加藤雅己 , KATO, MASAKI
IPC分类号： C08L29/04 , C08F216/06 , G02B1/04 , G02B5/30 , C08J5/18 , B29C55/04 , B29D7/01 , B29K29/00
CPC分类号： B29C55/04 , C08F8/12 , C08F216/06 , C08F218/08 , C08F2800/10 , C08J5/18 , C08J2300/104 , C08J2329/04 , G02B5/3033 , C08F218/12 , C08F216/04
摘要：本發明之課題在於提供一種可容易地製造光學特性、色相及耐久性均優良之收縮應力低的光學薄膜之光學薄膜製造用坯材薄膜、及使用其之光學薄膜之製造方法。本發明之解決手段為一種光學薄膜製造用坯材薄膜，其包含下述式(1)所示之結構單元的含有率為0.1~1.9莫耳%的含有羥甲基之乙烯醇系聚合物；及一種製造方法，其係使用該光學薄膜製造用坯材薄膜的光學薄膜之製造方法，且具有實施單軸延伸的步驟； [式中，R1表示碳數1~3之烷基]。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可容易地制造光学特性、色相及耐久性均优良之收缩应力低的光学薄膜之光学薄膜制造用坯材薄膜、及使用其之光学薄膜之制造方法。本发明之解决手段为一种光学薄膜制造用坯材薄膜，其包含下述式(1)所示之结构单元的含有率为0.1~1.9莫耳%的含有羟甲基之乙烯醇系聚合物；及一种制造方法，其系使用该光学薄膜制造用坯材薄膜的光学薄膜之制造方法，且具有实施单轴延伸的步骤； [式中，R1表示碳数1~3之烷基]。

6. 发明专利

TW201509956A 薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201509956A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103127014
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , C08J5/18 , B29C59/02 , B29L7/00
CPC分类号： C08J5/18 , A01N25/00 , B41F16/00 , B44C1/1758 , C08F8/12 , C08F216/06 , C08F218/08 , C08J2329/04 , C08F218/12 , C08F216/04
摘要：課題在於：提供一種水溶性優良並且縱使與藥劑接觸時水溶性的歷時變化亦較少之薄膜、使用該薄膜之包裝體及液壓轉印用薄膜、以及使用該液壓轉印用薄膜之液壓轉印方法。解決手段為：一種含有包含乙烯醇單元、及下述式(1)所示之單元結構的含有羥甲基之乙烯醇系聚合物之薄膜、使用該薄膜之包裝體及液壓轉印用薄膜、以及使用該液壓轉印用薄膜之液壓轉印方法；
简体摘要：课题在于：提供一种水溶性优良并且纵使与药剂接触时水溶性的历时变化亦较少之薄膜、使用该薄膜之包装体及液压转印用薄膜、以及使用该液压转印用薄膜之液压转印方法。解决手段为：一种含有包含乙烯醇单元、及下述式(1)所示之单元结构的含有羟甲基之乙烯醇系聚合物之薄膜、使用该薄膜之包装体及液压转印用薄膜、以及使用该液压转印用薄膜之液压转印方法；

7. 发明专利

TW201920557A 偏光薄膜保護用積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：偏光薄膜保护用积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW201920557A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131826
申请日：2018-09-11
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：川崎繪美 , KAWASAKI, EMI , 岡山沙樹 , OKAYAMA, SAKI , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C09J7/30 , G02B1/04 , G02B1/14 , G02B5/30
摘要：一種偏光薄膜保護用積層體，其為包含自由基聚合性化合物之光硬化樹脂層積層於基材薄膜而成的偏光薄膜保護用積層體，其特徵為：前述光硬化樹脂層的厚度為9μm以下，前述光硬化樹脂層的硼酸穿透度以硼原子換算為2.25g/m2‧day以下，基材薄膜與光硬化樹脂層的接著力為0.005~0.06N/mm，由光硬化樹脂層剝離基材薄膜後之基材薄膜側之該光硬化樹脂層的均方根面粗糙度(rms)為300nm以下。藉此，可提供一種可獲得表面平滑性優良，光硬化樹脂層的厚度縱為9μm以下耐濕熱性亦優良的偏光板之偏光薄膜保護用積層體及其製造方法。
简体摘要：一种偏光薄膜保护用积层体，其为包含自由基聚合性化合物之光硬化树脂层积层于基材薄膜而成的偏光薄膜保护用积层体，其特征为：前述光硬化树脂层的厚度为9μm以下，前述光硬化树脂层的硼酸穿透度以硼原子换算为2.25g/m2‧day以下，基材薄膜与光硬化树脂层的接着力为0.005~0.06N/mm，由光硬化树脂层剥离基材薄膜后之基材薄膜侧之该光硬化树脂层的均方根面粗糙度(rms)为300nm以下。借此，可提供一种可获得表面平滑性优良，光硬化树脂层的厚度纵为9μm以下耐湿热性亦优良的偏光板之偏光薄膜保护用积层体及其制造方法。

8. 发明专利

TWI650364B 薄膜及其製造方法有权
简体标题：薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI650364B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103143990
申请日：2014-12-17
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08L29/04 , C08F16/06 , C08F8/12 , C08K5/09 , C08J5/18

9. 发明专利

TWI645221B 積層體、及偏光膜之製造方法有权
简体标题：积层体、及偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TWI645221B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW102127781
申请日：2013-08-02
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00 , B29C55/06 , B29K29/00 , B29L11/00

10. 发明专利

TWI639618B 乙烯醇系聚合物薄膜及使用其之光學薄膜之製造方法有权
简体标题：乙烯醇系聚合物薄膜及使用其之光学薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI639618B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW103127015
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , B29C55/04 , G02B5/30 , B29L7/00 , B29L11/00

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