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1. 发明专利

TW201947561A 顯示裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201947561A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108101503
申请日：2019-01-15
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO-HONG , 林俊男 , LIN, CHUN-NAN , 高宏龍 , KAO, HUNG-LUNG , 黃朝琨 , HUANG, CHAO-KUN , 宋文清 , SUNG, WEN-CHING , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： G09F9/30
摘要：一種顯示裝置及其製造方法，其中顯示裝置的製造方法包括：提供基板，具有相對的第一表面及第二表面；於基板的第一表面上形成驅動元件層；形成保護層，以覆蓋驅動元件層；在保護層覆蓋驅動元件層的情況下，於基板的第二表面上形成至少一接墊；設置至少一發光二極體元件於驅動元件層上，以使至少一發光二極體元件與驅動元件層電性連接；於基板的側面上形成至少一導電線路圖案，且電性連接於驅動元件層與至少一接墊，其中側面連接於第一表面與第二表面之間；以及設置驅動晶片於基板的第二表面上，以使驅動晶片與至少一接墊電性連接。
简体摘要：一种显示设备及其制造方法，其中显示设备的制造方法包括：提供基板，具有相对的第一表面及第二表面；于基板的第一表面上形成驱动组件层；形成保护层，以覆盖驱动组件层；在保护层覆盖驱动组件层的情况下，于基板的第二表面上形成至少一接垫；设置至少一发光二极管组件于驱动组件层上，以使至少一发光二极管组件与驱动组件层电性连接；于基板的侧面上形成至少一导电线路图案，且电性连接于驱动组件层与至少一接垫，其中侧面连接于第一表面与第二表面之间；以及设置驱动芯片于基板的第二表面上，以使驱动芯片与至少一接垫电性连接。

2. 发明专利

TWI470808B 半導體元件及其製作方法有权
简体标题：半导体组件及其制作方法
公开(公告)号：TWI470808B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW100149292
申请日：2011-12-28
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：杜振源 , TU, CHEN YUAN , 高逸群 , KAO, YIH CHYUN , 吳淑芬 , WU, SHU FENG , 林俊男 , LIN, CHUN NAN
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L21/316
CPC分类号： H01L29/43 , H01L27/1225 , H01L27/1248 , H01L29/786 , H01L29/7869

3. 发明专利

TW201327834A 半導體元件及其製作方法审中-公开
简体标题：半导体组件及其制作方法
公开(公告)号：TW201327834A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100149292
申请日：2011-12-28
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：杜振源 , TU, CHEN YUAN , 高逸群 , KAO, YIH CHYUN , 吳淑芬 , WU, SHU FENG , 林俊男 , LIN, CHUN NAN
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L21/316
CPC分类号： H01L29/43 , H01L27/1225 , H01L27/1248 , H01L29/786 , H01L29/7869
摘要：一種半導體元件及其製作方法，其中半導體元件包括一閘極、一通道層、一閘絕緣層、一源極、一汲極以及一矽鋁氧化物層。閘極配置於基板上。通道層配置於基板上，且與閘極重疊設置。閘極絕緣層位於閘極與通道層之間。源極以及汲極設置於通道層二側。矽鋁氧化物層配置於基板上並覆蓋源極、汲極以及通道層。
简体摘要：一种半导体组件及其制作方法，其中半导体组件包括一闸极、一信道层、一闸绝缘层、一源极、一汲极以及一硅铝氧化物层。闸极配置于基板上。信道层配置于基板上，且与闸极重叠设置。闸极绝缘层位于闸极与信道层之间。源极以及汲极设置于信道层二侧。硅铝氧化物层配置于基板上并覆盖源极、汲极以及信道层。

4. 发明专利

TW201626077A 顯示面板及其製造方法审中-公开
简体标题：显示皮肤及其制造方法
公开(公告)号：TW201626077A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104100948
申请日：2015-01-12
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO HONG , 杜振源 , TU, CHEN YUAN , 陳惠軍 , CHEN, HUI CHUN , 簡逸朋 , CHIEN, I PENG , 陳柏仁 , CHEN, PO JEN , 張家銘 , CHANG, CHIA MING , 林俊男 , LIN, CHUN NAN
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1345
摘要：一種顯示面板及其的製造方法，此方法包括在一第一基板上形成一圖案化金屬材料層，並對圖案化金屬材料層進行一氧化程序，以形成一圖案化金屬層以及覆蓋圖案化金屬層之一金屬氧化物層，其中圖案化金屬層包括一上表面以及位於上表面兩側之側表面，金屬氧化物層覆蓋圖案化金屬層之上表面以及側表面。在第一基板上形成多個畫素結構，且畫素結構與圖案化金屬層電性連接。在第一基板的對向設置一第二基板，且於第一基板與第二基板之間形成一顯示介質。
简体摘要：一种显示皮肤及其的制造方法，此方法包括在一第一基板上形成一图案化金属材料层，并对图案化金属材料层进行一氧化进程，以形成一图案化金属层以及覆盖图案化金属层之一金属氧化物层，其中图案化金属层包括一上表面以及位于上表面两侧之侧表面，金属氧化物层覆盖图案化金属层之上表面以及侧表面。在第一基板上形成多个像素结构，且像素结构与图案化金属层电性连接。在第一基板的对向设置一第二基板，且于第一基板与第二基板之间形成一显示介质。

5. 发明专利

TWI482239B 主動元件陣列基板及其製作方法有权
简体标题：主动组件数组基板及其制作方法
公开(公告)号：TWI482239B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW099126120
申请日：2010-08-05
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：陳柏林 , CHEN, PO LIN , 林致遠 , LIN, CHIH YUAN , 林瑜旻 , LIN, YU MIN , 林俊男 , LIN, CHUN NAN
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/3213
CPC分类号： C23C14/165 , C23C14/3492 , H01L27/124 , H01L29/458 , H01L29/4908

6. 发明专利

TW201322342A 畫素結構及其製作方法审中-公开
简体标题：像素结构及其制作方法
公开(公告)号：TW201322342A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW100143135
申请日：2011-11-24
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：高逸群 , KAO, YIH CHYUN , 邱皓麟 , CHIU, HAO LIN , 林俊男 , LIN, CHUN NAN
IPC分类号： H01L21/336 , H01L21/28
CPC分类号： H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/66742 , H01L29/78603
摘要：本發明提出一種畫素結構的製作方法。首先，於基板上形成第一圖案化金屬層，包括掃描線以及閘極。再於第一圖案化金屬層上依序形成第一絕緣層、半導體層、蝕刻阻擋圖案以及金屬層。接著，圖案化此金屬層和半導體層以形成第二圖案化金屬層和圖案化半導體層。第二圖案化金屬層包括資料線、源極與汲極。圖案化半導體層包括完全重疊於第二圖案化金屬層的第一半導體圖案以及不重疊於第二圖案化金屬層的第二半導體圖案，其中第二半導體圖案包括位於源極與汲極之間的通道圖案以及包圍第一半導體圖案的邊緣圖案。
简体摘要：本发明提出一种像素结构的制作方法。首先，于基板上形成第一图案化金属层，包括扫描线以及闸极。再于第一图案化金属层上依序形成第一绝缘层、半导体层、蚀刻阻挡图案以及金属层。接着，图案化此金属层和半导体层以形成第二图案化金属层和图案化半导体层。第二图案化金属层包括数据线、源极与汲极。图案化半导体层包括完全重叠于第二图案化金属层的第一半导体图案以及不重叠于第二图案化金属层的第二半导体图案，其中第二半导体图案包括位于源极与汲极之间的信道图案以及包围第一半导体图案的边缘图案。

7. 发明专利

TW201537729A 顯示面板及其製作方法审中-公开
简体标题：显示皮肤及其制作方法
公开(公告)号：TW201537729A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103110319
申请日：2014-03-19
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：葉昭緯 , YEH, CHAO WEI , 丁天倫 , TING, TIEN LUN , 杜振源 , TU, CHEN YUAN , 張家銘 , CHANG, CHIA MING , 林俊男 , LIN, CHUN NAN , 徐文浩 , HSU, WEN HAO , 蘇振嘉 , SU, JENN JIA
IPC分类号： H01L27/12 , G02F1/133
摘要：一種顯示面板的製作方法。於一第一基板形成至少一主動元件。形成一第一絕緣層於第一基板上且覆蓋主動元件。形成至少一彩色濾光圖案於第一絕緣層上。形成一保護層於彩色濾光圖案上。形成一第二絕緣層於保護層上，其中保護層的蝕刻速率低於第二絕緣層的蝕刻速率。對第二絕緣層進行一圖案化程序，至暴露出主動元件的一源極、一汲極以及部分保護層，而形成一圖案化絕緣層。形成一畫素電極於圖案化絕緣層上。將一第二基板跟第一基板組裝，並於畫素電極與一共用電極之間設置一顯示介質層。
简体摘要：一种显示皮肤的制作方法。于一第一基板形成至少一主动组件。形成一第一绝缘层于第一基板上且覆盖主动组件。形成至少一彩色滤光图案于第一绝缘层上。形成一保护层于彩色滤光图案上。形成一第二绝缘层于保护层上，其中保护层的蚀刻速率低于第二绝缘层的蚀刻速率。对第二绝缘层进行一图案化进程，至暴露出主动组件的一源极、一汲极以及部分保护层，而形成一图案化绝缘层。形成一像素电极于图案化绝缘层上。将一第二基板跟第一基板组装，并于像素电极与一共享电极之间设置一显示介质层。

8. 发明专利

TWI445175B 主動元件有权
简体标题：主动组件
公开(公告)号：TWI445175B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100141252
申请日：2011-11-11
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：邱皓麟 , CHIU, HAO LIN , 林其叡 , LIN, CHI JUI , 曹書瑋 , TSAO, SHU WEI , 林俊男 , LIN, CHUN NAN , 葉柏良 , YEH, PO LIANG , 曾賢楷 , TSENG, HSIEN KAI
IPC分类号： H01L29/78 , H01L23/52
CPC分类号： H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/7869

9. 发明专利

TWI695356B 顯示裝置及其製造方法有权
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI695356B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108101503
申请日：2019-01-15
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO-HONG , 林俊男 , LIN, CHUN-NAN , 高宏龍 , KAO, HUNG-LUNG , 黃朝琨 , HUANG, CHAO-KUN , 宋文清 , SUNG, WEN-CHING , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： G09F9/30

10. 发明专利

TWI651574B 顯示面板及其製造方法有权
简体标题：显示皮肤及其制造方法
公开(公告)号：TWI651574B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW104100948
申请日：2015-01-12
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO HONG , 杜振源 , TU, CHEN YUAN , 陳惠軍 , CHEN, HUI CHUN , 簡逸朋 , CHIEN, I PENG , 陳柏仁 , CHEN, PO JEN , 張家銘 , CHANG, CHIA MING , 林俊男 , LIN, CHUN NAN
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1345

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