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1. 发明专利

JP6879260B2 グリコールウリル環を有する有機ケイ素化合物およびその製造方法有权
公开(公告)号：JP6879260B2
公开(公告)日：2021-06-02
申请号：JP2018076577
申请日：2018-04-12
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：入學武 , 清森歩
IPC分类号： C07F7/18

2. 发明专利

JP2018039875A 光硬化性組成物及びこれを含む硬化物审中-公开
公开(公告)号：JP2018039875A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016173348
申请日：2016-09-06
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：清森歩 , 伊藤雄佑
IPC分类号： C08F2/50 , C08F2/44
摘要：【課題】成形性が良好で、軽量である上、比誘電率の高い高分子材料を形成し得る光硬化性組成物を提供すること。【解決手段】 (a)一般式(1)のシルセスキオキサン、(b)エチレン性不飽和一官能モノマー、(c)エチレン性不飽和多官能モノマー及び(d)光重合開始剤を必須成分として含有する光硬化性組成物。 [Aはシアノ基で置換されてもよい炭素数2〜20の二価炭化水素基であって、メチレン基及び/又はメチン基を含み、これら各基のうち少なくとも一個以上が、NR(Rは水素原子等を表す。)、N、またはこれらの組み合わせで置換されている。ただし、これらの窒素原子同士、窒素原子とケイ素原子及び窒素原子とシアノ基は隣接せず、かつ式中のNC−CH 2 −CH 2 −基はAに含まれる窒素原子に結合している。Bは炭素数1〜10の二価炭化水素基を表す。mは1〜150の整数、nは0〜50の整数、m+nは4〜150である。] 【選択図】なし

3. 发明专利

JP2015227294A 反応性シリル基を有する電荷移動錯体及びその製造方法、並びに表面修飾剤及びこれを用いた透明酸化物電極及びその製造方法有权
标题翻译：具有反应性硅烷族的电荷转移复合物，复合物的生产方法，表面改性剂，透明氧化物电极和电极的生产方法
公开(公告)号：JP2015227294A
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：JP2014112865
申请日：2014-05-30
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：清森歩 , 伊藤雄佑
IPC分类号： H05B33/28 , H01L51/50 , H05B33/10 , H01B1/12 , H01B13/00 , H01B5/14 , C07F7/18 , C07C255/31 , C07F7/10
摘要：【課題】透明酸化物電極表面にアクセプターの単分子膜を形成する電荷移動錯体の提供。【解決手段】式(1)で表される反応性シリル基を有する電荷移動錯体及びこれを表面修飾剤として用いた透明酸化物電極及びその製造方法。 [Dは芳香族アミンからなる有機電子ドナー分子;Aは有機電子アクセプター分子;Dは少なくとも一つの一般式(2)で表される反応性シリル基で置換されている (R 0 は二価炭化水素基又は単結合;X 1 はアルコキシ基又は水酸基;X 2 及びX 3 は各々独立に、一価炭化水素基、アルコキシ基、水酸基)] 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供在透明氧化物电极的表面上形成受体的单分子膜的电荷转移络合物。解决方案：具有式（1）的反应性甲硅烷基的电荷转移络合物，透明氧化物电极使用复合物作为表面改性剂和电极的制备方法。在式（1）中，D是由芳族胺组成的有机电子给体分子; A是有机受体分子; D被至少一个式（2）的反应性甲硅烷基取代。在式（2）中，R 2为二价烃基或单键; X为烷氧基或羟基; Xand Xare独立地为一价烃基，烷氧基或羟基。

4. 发明专利

JP2021172708A 密着性組成物、被覆基材および硬化物审中-公开
公开(公告)号：JP2021172708A
公开(公告)日：2021-11-01
申请号：JP2020075977
申请日：2020-04-22
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：川上雅人 , 清森歩 , 中澤宏一
IPC分类号： C09D183/07 , C09D7/20 , B32B27/00 , C09D183/08
摘要：【課題】各種基材に対して良好な密着性を発揮する密着性組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(1) (式中、R 1 は、それぞれ独立して置換または非置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基を表し、pは、3〜8の整数を表す。)で示される環状オルガノシラザン化合物と、下記一般式(2) (式中、R 2 は、酸素原子を含んでいてもよい、非置換の炭素数1〜10の1価炭価水素基を表し、R 3 は、非置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基を表し、xは、0〜2の整数を表す。)で示されるアルコキシシラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物を含む加水分解性基含有有機ケイ素化合物とを含む密着性組成物。【選択図】なし

5. 发明专利

JP6927063B2 ABO3型ペロブスカイト微結晶の製造方法有权
公开(公告)号：JP6927063B2
公开(公告)日：2021-08-25
申请号：JP2018008537
申请日：2018-01-23
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：清森歩
IPC分类号： C01B13/32 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , C01G23/00

7. 发明专利

JP6597525B2 光硬化性組成物及びこれを含む硬化物有权
公开(公告)号：JP6597525B2
公开(公告)日：2019-10-30
申请号：JP2016173348
申请日：2016-09-06
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：清森歩 , 伊藤雄佑
IPC分类号： C08F2/50 , C08L83/08 , C08F2/44

8. 发明专利

JP2016216709A 光硬化性組成物及びこれを含む硬化物审中-公开
标题翻译：光固化组合物和含有其的固化物
公开(公告)号：JP2016216709A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2016093736
申请日：2016-05-09
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：清森歩 , 伊藤雄佑
IPC分类号： C08K5/315 , C08K5/103 , C08L83/08
CPC分类号： C08K5/5419 , C08F283/12
摘要：【課題】成形性が良好で、軽量である上、比誘電率の高い高分子材料を形成し得る光硬化性組成物及びこれを含む硬化物を提供すること。【解決手段】 (a)式(1)で表されるシアノ基を有するシルセスキオキサン、(b)シアノ基を有するエチレン性不飽和一官能モノマー、(c)エチレン性不飽和多官能モノマー、及び(d)光重合開始剤を必須成分として含む光硬化性組成物。 (A及びBはそれぞれ独立に炭素数1〜10の二価炭化水素基を表し、R及びR 1 はそれぞれ独立に炭素数1〜6の一価炭化水素基等を表す。Gは炭素数1〜8のアルキル基等であって、1個又は2個の水素原子が、カルボキシル基、炭素数2〜4のエステル基等の一価の置換基によって置換されている。m、n、p、q、r及びsはそれぞれ独立に0〜200の整数を表すが、m+qの和は4以上、m+n+pの和は4〜200、m+n+p+q+r+sの総和は4〜200である。) 【選択図】なし
摘要翻译：甲成形性良好，对具有重量轻，提供一种能够形成高介电常数聚合物材料和包含其的固化物的光固化性组合物。（A）具有由式（1）表示的氰基的倍半硅氧烷，（b）具有氰基乙烯性不饱和单官能单体，（c）一种烯属不饱和多官能性单体，和（d）光聚合引发剂光固化组合物包括作为主要组分。（A和B各自独立地表示碳原子数为1〜10的二价烃基，.G表示具有1至6个碳原子的R和R 1各自独立地为1〜碳原子数等的一价烃基 8的烷基中，一个或两个氢原子被取代的羧基基团，一价取代基，如碳原子数为2〜4的酯基团.M，N，p，q 代表每个r的整数，独立地为0至200，M + q的总和为4以上时，m + N + p 4之和为200，m + n的+ p + q + R + Sš 的总和为4〜200）装置技术领域

9. 发明专利

JP5964275B2 オルガノシロキサン含有基を有するフタロシアニン及びその製造方法有权
标题翻译：酞菁及其制造方法具有含硅氧烷基团
公开(公告)号：JP5964275B2
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：JP2013139031
申请日：2013-07-02
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：清森歩 , 伊藤雄佑
IPC分类号： C09B47/067 , C07F7/18

10. 发明专利

JP2021178786A ジメチルクロロシラン化合物の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021178786A
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：JP2020084262
申请日：2020-05-13
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：青木翔太郎 , 殿村洋一 , 清森歩
IPC分类号： B01J31/22 , C07F7/12
摘要：【課題】ジメチルクロロシラン化合物である3−ハロプロピルジメチルクロロシランまたは3−アシロキシプロピルジメチルクロロシランを安定的かつ効率的に、収率よく製造可能な方法を提供すること。【解決手段】下記一般式(1) (式中、Xは、ハロゲン原子または炭素数2〜20のアシロキシ基を表す。) で示されるアリル化合物と、ジメチルクロロシランとをイリジウム触媒存在下で反応させる、下記一般式(2) (式中、Xは、前記と同じ意味を表す。) で示されるジメチルクロロシラン化合物を製造する方法において、ジメチルクロロシランとして、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの含有量が5.0質量%以下のものを用いるジメチルクロロシラン化合物の製造方法。【選択図】なし

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