基本信息:
- 专利标题： ジメチルクロロシラン化合物の製造方法
- 专利标题（英）：PRODUCTION METHOD OF DIMETHYLCHLOROSILANE COMPOUND
- 申请号：JP2020084262 申请日：2020-05-13
- 公开(公告)号：JP2021178786A 公开(公告)日：2021-11-18
- 发明人： 青木 翔太郎 , 殿村 洋一 , 清森 歩
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 代理人： 特許業務法人英明国際特許事務所
- 主分类号： B01J31/22
- IPC分类号： B01J31/22 ; C07F7/12
摘要：
【課題】ジメチルクロロシラン化合物である3−ハロプロピルジメチルクロロシランまたは3−アシロキシプロピルジメチルクロロシランを安定的かつ効率的に、収率よく製造可能な方法を提供すること。 【解決手段】下記一般式(1) (式中、Xは、ハロゲン原子または炭素数2〜20のアシロキシ基を表す。) で示されるアリル化合物と、ジメチルクロロシランとをイリジウム触媒存在下で反応させる、下記一般式(2) (式中、Xは、前記と同じ意味を表す。) で示されるジメチルクロロシラン化合物を製造する方法において、ジメチルクロロシランとして、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの含有量が5.0質量%以下のものを用いるジメチルクロロシラン化合物の製造方法。 【選択図】なし
摘要（英）：
To provide a method with which 3-halopropyldimethylchlorosilane or 3-acyloxypropyldimethylchlorosilane being a dimethylchlorosilane compound can stably and efficiently be produced with a high yield.SOLUTION: In a production method of a dimethylchlorosilane compound represented by general formula (2) (in formula, X represents a halogen atom or a 2-20C acyloxy group) by a reaction of an allyl compound represented by general formula (1) (in formula, X represents the same as mentioned previously) and dimethylchlorosilane in the presence of an iridium catalyst, a dimethylchlorosilane of which the content of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is 5.0 mass% or less is used.SELECTED DRAWING: None
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
| ----B01J | 化学或物理方法，例如，催化作用、胶体化学；其有关设备 |
| ------B01J31/00 | 包含氢化物，配位配合物或有机化合物的催化剂 |
| --------B01J31/02 | .含有机化合物或金属氢化物 |
| ----------B01J31/22 | ..有机配合物 |