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1. 发明专利

TW201501816A 薄膜形成方法及薄膜形成裝置审中-公开
简体标题：薄膜形成方法及薄膜形成设备
公开(公告)号：TW201501816A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103120346
申请日：2014-06-12
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. , 名幸電子股份有限公司 , MEIKO ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI , 黑須満帆 , KUROSU, MITSUHO
IPC分类号： B05D3/06 , H05K3/28
CPC分类号： H05K3/3452 , H05K3/28 , H05K2203/013 , H05K2203/1476
摘要：本發明提供一種薄膜形成方法以及薄膜形成裝置。沿基板表面之所要形成薄膜圖案之預定區域的邊緣，形成山脊狀擋堰構造。在形成擋堰構造之後，使光硬化性之液狀薄膜材料成為液滴之後彈著於預定區域內，然後，對彈著於預定區域之薄膜材料照射臨時硬化用光以使其臨時硬化，從而形成膜元件。藉由在膜元件上塗佈光硬化性之液狀薄膜材料而形成液狀膜。對液狀膜以及膜元件，照射光強度比臨時硬化用光更強的正式硬化用光，以使液狀膜硬化，並且提高膜元件的硬化度。
简体摘要：本发明提供一种薄膜形成方法以及薄膜形成设备。沿基板表面之所要形成薄膜图案之预定区域的边缘，形成山嵴状挡堰构造。在形成挡堰构造之后，使光硬化性之液状薄膜材料成为液滴之后弹着于预定区域内，然后，对弹着于预定区域之薄膜材料照射临时硬化用光以使其临时硬化，从而形成膜组件。借由在膜组件上涂布光硬化性之液状薄膜材料而形成液状膜。对液状膜以及膜组件，照射光强度比临时硬化用光更强的正式硬化用光，以使液状膜硬化，并且提高膜组件的硬化度。

2. 发明专利

TWI564091B 薄膜形成方法及薄膜形成裝置有权
简体标题：薄膜形成方法及薄膜形成设备
公开(公告)号：TWI564091B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW103120346
申请日：2014-06-12
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. , 名幸電子股份有限公司 , MEIKO ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI , 黑須帆 , KUROSU, MITSUHO
IPC分类号： B05D3/06 , H05K3/28
CPC分类号： H05K3/3452 , H05K3/28 , H05K2203/013 , H05K2203/1476

3. 发明专利

TWI564090B 膜形成方法及膜形成裝置有权
简体标题：膜形成方法及膜形成设备
公开(公告)号：TWI564090B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW103140645
申请日：2014-11-24
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. , 名幸電子股份有限公司 , MEIKO ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI
IPC分类号： B05C5/00 , B05C9/12 , B05D3/06 , B41J2/015

4. 发明专利

TW201835692A 位置檢測裝置及位置檢測方法审中-公开
简体标题：位置检测设备及位置检测方法
公开(公告)号：TW201835692A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107108031
申请日：2018-03-09
申请人：日商住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種依據基板的角部的圖像資料，能夠進行更穩定之位置檢測之位置檢測裝置。具有角部之基板支撐於支撐部上。攝像裝置對視角內的基板的一部分進行拍攝。處理部以夾住攝像裝置的視角內所包含之基板的角部之2個邊的長度成為規定值以上之方式使基板或者攝像裝置移動。依據在移動之後的攝像裝置的視角內進行拍攝而獲取到之圖像資料，對基板的角部的位置進行檢測。
简体摘要：本发明提供一种依据基板的角部的图像数据，能够进行更稳定之位置检测之位置检测设备。具有角部之基板支撑于支撑部上。摄像设备对视角内的基板的一部分进行拍摄。处理部以夹住摄像设备的视角内所包含之基板的角部之2个边的长度成为规定值以上之方式使基板或者摄像设备移动。依据在移动之后的摄像设备的视角内进行拍摄而获取到之图像数据，对基板的角部的位置进行检测。

5. 发明专利

TW201806677A 噴墨裝置及噴墨裝置之洗淨方法审中-公开
简体标题：喷墨设备及喷墨设备之洗净方法
公开(公告)号：TW201806677A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106127438
申请日：2017-08-14
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI
IPC分类号： B05C11/10 , B05C5/00 , B41J2/07 , H05K3/06
CPC分类号： B05C5/00 , B05C11/10 , B41J2/165 , B41J2/17 , B41J2/175 , B41J2/18
摘要：本發明提供一種能夠有效地洗淨噴墨頭內部且能夠抑制廢油墨的產生之噴墨裝置。去程是從油墨槽將油墨輸送至噴墨頭，回程是向其反方向輸送油墨。旁通流路是不經由噴墨頭而從去程向回程輸送油墨。洗淨流路是向噴墨頭供給洗淨液並從噴墨頭回收洗淨液。切換部可切換成循環狀態和洗淨狀態，循環狀態是在包括去程、噴墨頭、回程及油墨槽之循環路徑中使油墨循環；洗淨狀態，是在包括去程、旁通流路、回程及油墨槽之循環路徑中使油墨循環，並且通過洗淨流路進行朝向噴墨頭的洗淨液的供給與來自噴墨頭的洗淨液的回收，藉此進行噴墨頭的洗淨。
简体摘要：本发明提供一种能够有效地洗净喷墨头内部且能够抑制废油墨的产生之喷墨设备。去程是从油墨槽将油墨输送至喷墨头，回程是向其反方向输送油墨。旁通流路是不经由喷墨头而从去程向回程输送油墨。洗净流路是向喷墨头供给洗净液并从喷墨头回收洗净液。切换部可切换成循环状态和洗净状态，循环状态是在包括去程、喷墨头、回程及油墨槽之循环路径中使油墨循环；洗净状态，是在包括去程、旁通流路、回程及油墨槽之循环路径中使油墨循环，并且通过洗净流路进行朝向喷墨头的洗净液的供给与来自喷墨头的洗净液的回收，借此进行喷墨头的洗净。

6. 发明专利

TW201804266A 位置檢測裝置及位置檢測方法审中-公开
简体标题：位置检测设备及位置检测方法
公开(公告)号：TW201804266A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106123224
申请日：2017-07-11
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種能夠於基板的兩面進行基板的定位之位置檢測裝置。支撐部支撐基板。至少一個攝像裝置對被支撐部支撐之基板進行拍攝。處理部依據由一個攝像裝置對被支撐部支撐之基板的角部進行拍攝而得到之第1圖像而求出基板的位置資訊。之後，依據由一個攝像裝置對表背翻轉而被支撐部支撐之基板的角部進行拍攝而得到之第2圖像、第1圖像及依據第1圖像而求出之基板的位置資訊，求出表背翻轉之基板的位置資訊。
简体摘要：本发明提供一种能够于基板的两面进行基板的定位之位置检测设备。支撑部支撑基板。至少一个摄像设备对被支撑部支撑之基板进行拍摄。处理部依据由一个摄像设备对被支撑部支撑之基板的角部进行拍摄而得到之第1图像而求出基板的位置信息。之后，依据由一个摄像设备对表背翻转而被支撑部支撑之基板的角部进行拍摄而得到之第2图像、第1图像及依据第1图像而求出之基板的位置信息，求出表背翻转之基板的位置信息。

7. 发明专利

TWI511794B 薄膜圖案形成裝置、薄膜圖案形成方法及裝置的調整方法有权
简体标题：薄膜图案形成设备、薄膜图案形成方法及设备的调整方法
公开(公告)号：TWI511794B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW101126637
申请日：2012-07-24
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI , 礒圭二 , ISO, KEIJI
IPC分类号： B05B12/08 , B05C21/00 , G03F7/16

8. 发明专利

TW201317056A 基板製造方法及基板製造裝置审中-公开
简体标题：基板制造方法及基板制造设备
公开(公告)号：TW201317056A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW101125390
申请日：2012-07-13
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI , 礒圭二 , ISO, KEIJI , 市川英志 , ICHIKAWA, EIJI
IPC分类号： B05C5/02 , B41J2/01
摘要：本發明提供一種基板製造方法及基板製造裝置。本發明之基板製造方法，反覆進行使薄膜材料的液滴彈著於底層基板表面中與彈著對象像素對應之位置之製程，及使彈著於底層基板之薄膜材料固化之製程，藉此形成由薄膜材料構成之薄膜圖案。以由二維分佈之複數個像素構成之圖像資料，定義薄膜圖案的平面形狀。彈著對象像素係從底層基板表面中，應用薄膜材料塗佈之實體(beta)區域內的複數個像素，提取之一部份像素。彈著於與彈著對象像素對應之位置之薄膜材料，向面內方向擴散至與沒有提取為彈著對象像素之像素對應之區域之後，使薄膜材料固化，藉此形成覆蓋實體區域的整個區域之薄膜圖案。
简体摘要：本发明提供一种基板制造方法及基板制造设备。本发明之基板制造方法，反复进行使薄膜材料的液滴弹着于底层基板表面中与弹着对象像素对应之位置之制程，及使弹着于底层基板之薄膜材料固化之制程，借此形成由薄膜材料构成之薄膜图案。以由二维分布之复数个像素构成之图像数据，定义薄膜图案的平面形状。弹着对象像素系从底层基板表面中，应用薄膜材料涂布之实体(beta)区域内的复数个像素，提取之一部份像素。弹着于与弹着对象像素对应之位置之薄膜材料，向面内方向扩散至与没有提取为弹着对象像素之像素对应之区域之后，使薄膜材料固化，借此形成覆盖实体区域的整个区域之薄膜图案。

9. 发明专利

TWI594809B 薄膜形成方法及薄膜形成裝置有权
简体标题：薄膜形成方法及薄膜形成设备
公开(公告)号：TWI594809B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW103131155
申请日：2014-09-10
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI
IPC分类号： B05D3/00 , B05D3/06

10. 发明专利

TWI594804B 觸控面板之製造方法有权
简体标题：触摸皮肤之制造方法
公开(公告)号：TWI594804B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW101147156
申请日：2012-12-13
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡本裕司 , OKAMOTO, YUJI , 礒圭二 , ISO, KEIJI
IPC分类号： B05C5/00 , G06F3/041
CPC分类号： G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04111

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