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1. 发明专利

JP6732679B2 電流検出回路有权
公开(公告)号：JP6732679B2
公开(公告)日：2020-07-29
申请号：JP2017035106
申请日：2017-02-27
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中尾禎子 , 中野浩児 , 渡邊恭平 , 伊藤将人 , 清水健志
IPC分类号： G01R19/00 , G01R19/32

2. 发明专利

JP2018141676A 電流検出回路审中-公开
公开(公告)号：JP2018141676A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2017035106
申请日：2017-02-27
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中尾禎子 , 中野浩児 , 渡邊恭平 , 伊藤将人 , 清水健志
IPC分类号： G01R19/00 , G01R19/32
摘要：【課題】検出した入力電流を表す出力電圧の温度依存性を抑制する電流検出回路を提供することを目的とする。【解決手段】入力電流I1の電流値を検出する電流検出回路1の温度変動依存性を抑制するために、電流を入力電圧に変換するシャント抵抗と入力電圧が供給される非反転増幅回路及び反転増幅回路を備える電流検出増幅回路2と、電流検出増幅回路2と同じ構成で、シャント抵抗に電流を流さない基準増幅回路3と、電流検出増幅回路2の非反転増幅回路の出力電圧Vo_n、電流検出増幅回路2の反転増幅回路の出力電圧Vo_p、基準増幅回路3の非反転増幅回路の出力電圧Vo_n0、及び基準増幅回路3の反転増幅回路の出力電圧Vo_p0が入力され、上記4つの電圧を用いて入力電流I1を表す電圧値を演算する演算部4とを有する。【選択図】図1

3. 发明专利

JP2017184211A 補償回路及び補償回路の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017184211A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2016073574
申请日：2016-03-31
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中野浩児 , 中尾禎子 , 伊藤将人 , 松田竜一 , 大山直樹
IPC分类号： H03F1/00 , H01L27/04 , H01L21/822 , H03K17/687 , G21C17/12 , H03K17/14
摘要：【課題】放射線環境下で動作する電界効果型トランジスタの動作信頼性を向上させることが可能な補償回路を提供する。【解決手段】ゲート端子Gに入力される駆動信号に応じて動作する電界効果型トランジスタである補償対象トランジスタ2についての補償回路1は、外部から照射される放射線に起因して生じる補償対象トランジスタ2における閾値電圧の負方向への変動の度合いを検出する参照トランジスタ10Aと、検出された閾値電圧の負方向への変動の度合いに応じて、補償対象トランジスタ2のオフ動作時に入力される駆動信号の電圧レベルを低下させるゲート電圧調整部11Aと、を備えている。【選択図】図1

4. 发明专利

JP5839937B2 真空処理装置有权
公开(公告)号：JP5839937B2
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：JP2011239623
申请日：2011-10-31
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：大坪栄一郎 , 竹内良昭 , 中尾禎子
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/509 , H05H1/46

5. 发明专利

JP6757166B2 補償回路及び補償回路の製造方法有权
公开(公告)号：JP6757166B2
公开(公告)日：2020-09-16
申请号：JP2016073574
申请日：2016-03-31
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中野浩児 , 中尾禎子 , 伊藤将人 , 松田竜一 , 大山直樹
IPC分类号： H03F1/00 , H01L21/822 , H01L27/04 , H03K17/687 , G21C17/12 , H03K17/14

6. 发明专利

JP5822658B2 真空処理装置有权
公开(公告)号：JP5822658B2
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：JP2011239646
申请日：2011-10-31
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中尾禎子 , 竹内良昭 , 大坪栄一郎 , 河合良信
IPC分类号： C23C16/509 , H01L31/18 , H05H1/46 , H01L21/205
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521

7. 发明专利

JP2015119103A 真空処理装置及び膜厚分布調整方法有权
标题翻译：真空处理装置和调整薄膜厚度分布的方法
公开(公告)号：JP2015119103A
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：JP2013262811
申请日：2013-12-19
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：増田拓郎 , 中尾禎子 , 田頭健二 , 竹内良昭
IPC分类号： C23C16/509 , C23C16/52 , H05H1/46 , H01L21/205
摘要：【課題】基板に製膜処理を実施する際に、高周波電力の供給条件の選定を適正化して、簡易かつ短時間で製膜される膜厚分布を均一にする、ことを目的とする。【解決手段】高周波電力によりプラズマを形成する薄膜製造装置は、高周波電力を出力する高周波電源31、高周波電力の位相を変調する位相変調器33、対向電極、高周波電力が供給され、対向電極との間にプラズマを形成する複数の放電電極3、及び放電電極3における高周波電力の位相滞在時間分布、及び放電電極3における電圧分布を計測するRFモニタ34を備える。そして、薄膜製造装置は、位相滞在時間分布と電圧分布との積が所定の範囲内となるように、位相滞在時間分布及び電圧分布の少なくとも一方が調整される。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：通过优化对基板进行薄膜沉积处理的高频功率的供给条件的选择，可以容易且短时间地沉积薄膜的厚度分布。解决方案：用于形成等离子体的薄膜制造装置通过高频功率包括：输出高频功率的高频电源31; 调制高频功率的相位的相位调制器33; 对电极多个放电电极3，其供给高频电力，并且在放电电极和对电极之间形成等离子体; 以及RF监视器34，其测量放电电极3上的高频功率的相位停留时间分布和放电电极3上的电压分布。在薄膜制造装置中，相位停留时间分布和电压中的至少一个调整分配，使得相位停留时间分布和电压分布的乘积在预定范围内。

8. 发明专利

JP5721362B2 真空処理装置およびプラズマ処理方法有权
公开(公告)号：JP5721362B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2010178194
申请日：2010-08-06
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中尾禎子 , 笹川英四郎 , 竹内良昭 , 宮園直之 , 大坪栄一郎
IPC分类号： H01L21/205 , H01L31/04 , H05H1/46 , C23C16/509
CPC分类号： Y02E10/50

9. 发明专利

JP2020191644A 補償回路及び補償回路の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020191644A
公开(公告)日：2020-11-26
申请号：JP2020121574
申请日：2020-07-15
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：中野浩児 , 中尾禎子 , 伊藤将人 , 松田竜一 , 大山直樹
IPC分类号： H03K17/687 , H01L21/822 , H01L27/04 , G21C17/12 , H03F3/45 , H03K17/14
摘要：【課題】放射線環境下で動作する電界効果型トランジスタの動作信頼性を向上させることが可能な補償回路及び補償回路の製造方法を提供する。【解決手段】補償回路は、ゲート端子に入力される駆動信号に応じて動作する電界効果型トランジスタである補償対象トランジスタについての補償回路であって、外部から照射される放射線に起因して生じる前記補償対象トランジスタにおける閾値電圧の負方向への変動の度合いを検出する閾値変動検出部と、検出された前記閾値電圧の負方向への変動の度合いに応じて、前記補償対象トランジスタのオフ動作時に入力される前記駆動信号の電圧レベルを低下させるゲート電圧調整部と、を備える。【選択図】図1

10. 发明专利

JP6113647B2 真空処理装置及び膜厚分布調整方法有权
公开(公告)号：JP6113647B2
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：JP2013262811
申请日：2013-12-19
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：増田拓郎 , 中尾禎子 , 田頭健二 , 竹内良昭
IPC分类号： C23C16/509 , C23C16/52 , H05H1/46 , H01L21/205

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