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1. 发明专利

TW201544285A 聚醯亞胺膜的製造方法、電子機器的製造方法以及塗膜的剝離方法审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜的制造方法、电子机器的制造方法以及涂膜的剥离方法
公开(公告)号：TW201544285A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104115047
申请日：2015-05-12
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC. , 斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：今川清水 , IMAGAWA, KIYOMI , 飯田健二 , IIDA, KENJI , 木場繁夫 , KIBA, SHIGEO , 富田裕介 , TOMITA, YUSUKE , 木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 鍬田豊 , KUWATA, YUTAKA
IPC分类号： B29C41/02 , B29K77/00 , B29L7/00
CPC分类号： C08J5/18 , B05D3/02 , B05D3/06 , B05D7/24 , H05K1/03
摘要：本發明提供一種於剝離處理前支撐體與基底膜良好地接著、於剝離處理後支撐體與基底膜可容易地剝離的電子機器等的製造方法。本發明的電子機器的製造方法是一種於基底膜上形成元件83的電子機器的製造方法，且作為基底膜至少具有聚醯亞胺膜，所述電子機器的製造方法包括：步驟（a），將含有可溶性聚醯亞胺樹脂、熱硬化性的交聯材及溶劑的聚醯亞胺清漆塗佈於支撐體81上，並於超過聚醯亞胺樹脂的玻璃轉移溫度且未滿交聯材的交聯起始溫度的條件下進行乾燥而形成塗膜；步驟（c），於藉由步驟（a）而得的聚醯亞胺膜82上形成元件83；以及步驟（b），將經由步驟（c）而得的聚醯亞胺膜82於促進所述交聯材的交聯反應後自支撐體81剝離。
简体摘要：本发明提供一种于剥离处理前支撑体与基底膜良好地接着、于剥离处理后支撑体与基底膜可容易地剥离的电子机器等的制造方法。本发明的电子机器的制造方法是一种于基底膜上形成组件83的电子机器的制造方法，且作为基底膜至少具有聚酰亚胺膜，所述电子机器的制造方法包括：步骤（a），将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热硬化性的交联材及溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体81上，并于超过聚酰亚胺树脂的玻璃转移温度且未满交联材的交联起始温度的条件下进行干燥而形成涂膜；步骤（c），于借由步骤（a）而得的聚酰亚胺膜82上形成组件83；以及步骤（b），将经由步骤（c）而得的聚酰亚胺膜82于促进所述交联材的交联反应后自支撑体81剥离。

2. 发明专利

TWI630083B 聚醯亞胺膜的製造方法、電子機器的製造方法以及塗膜的剝離方法有权
简体标题：聚酰亚胺膜的制造方法、电子机器的制造方法以及涂膜的剥离方法
公开(公告)号：TWI630083B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW104115047
申请日：2015-05-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：今川清水 , IMAGAWA, KIYOMI , 飯田健二 , IIDA, KENJI , 木場繁夫 , KIBA, SHIGEO , 富田裕介 , TOMITA, YUSUKE , 木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 鍬田豊 , KUWATA, YUTAKA
IPC分类号： B29C41/02 , B29K77/00 , B29L7/00

3. 发明专利

TWI505332B 熱處理方法及熱處理裝置有权
简体标题：热处理方法及热处理设备
公开(公告)号：TWI505332B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：TW102110982
申请日：2013-03-27
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 渉田浩二 , SHIBUTA, KOJI , 鍬田豐 , KUWATA, YUTAKA
IPC分类号： H01L21/26

4. 发明专利

TW201535526A 熱處理方法及熱處理裝置审中-公开
简体标题：热处理方法及热处理设备
公开(公告)号：TW201535526A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104105453
申请日：2015-02-17
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：藤田浩 , FUJITA, HIROSHI , 木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/67
摘要：本發明提供一種熱處理方法及熱處理裝置，可以在不對基材造成損傷的情况下將形成在基材上的加熱對象物升溫到目標溫度。藉由送出輥及捲取輥，以輥對輥方式來搬送樹脂的基材。在基材的表面的一部分上形成有功能層。對基材中包含必須抑制升溫的升溫抑制區域的供給區域，由噴出頭噴出並供給純水的液滴。若從閃光燈對基材的表面照射閃光，則將功能層升溫到升溫目標溫度，另一方面，在基材的升溫抑制區域中，水蒸發時吸收蒸發熱，因此超過水的沸點的升溫得到抑制。結果，可以在不對基材造成損傷的情况下將形成在基材上的功能層升溫到目標溫度。
简体摘要：本发明提供一种热处理方法及热处理设备，可以在不对基材造成损伤的情况下将形成在基材上的加热对象物升温到目标温度。借由送出辊及卷取辊，以辊对辊方式来搬送树脂的基材。在基材的表面的一部分上形成有功能层。对基材中包含必须抑制升温的升温抑制区域的供给区域，由喷出头喷出并供给纯水的液滴。若从闪光灯对基材的表面照射闪光，则将功能层升温到升温目标温度，另一方面，在基材的升温抑制区域中，水蒸发时吸收蒸发热，因此超过水的沸点的升温得到抑制。结果，可以在不对基材造成损伤的情况下将形成在基材上的功能层升温到目标温度。

5. 发明专利

TWI608872B 熱處理方法及熱處理裝置有权
简体标题：热处理方法及热处理设备
公开(公告)号：TWI608872B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW104105453
申请日：2015-02-17
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：藤田浩 , FUJITA, HIROSHI , 木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO
IPC分类号： B05C5/00 , B05D1/26 , B05D3/02 , H01L21/324 , H01L21/67

6. 发明专利

TWI492329B 熱處理裝置及熱處理方法有权
简体标题：热处理设备及热处理方法
公开(公告)号：TWI492329B
公开(公告)日：2015-07-11
申请号：TW102110981
申请日：2013-03-27
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 渉田浩二 , SHIBUTA, KOJI , 鍬田豐 , KUWATA, YUTAKA
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/477

7. 发明专利

TWI664092B 清潔裝置、清潔方法、印刷裝置及印刷方法有权
简体标题：清洁设备、清洁方法、印刷设备及印刷方法
公开(公告)号：TWI664092B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW107116813
申请日：2018-05-17
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：上野美佳 , UENO, MIYOSHI , 木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 鹽田崇二 , SHIOTA, SHUJI , 柴岡真實 , SHIBAOKA, MAMI
IPC分类号： B41F35/06 , B41M1/10 , H05K3/12

8. 发明专利

TW201709271A 耐熱性有機高分子層之剝離方法及可撓性佈線板之製造方法审中-公开
简体标题：耐热性有机高分子层之剥离方法及可挠性布线板之制造方法
公开(公告)号：TW201709271A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105114863
申请日：2016-05-13
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD. , 尤尼吉可股份有限公司 , UNITIKA LTD.
发明人：木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 鍬田豊 , KUWATA, YUTAKA , 繁田朗 , SHIGETA, AKIRA , 吉田猛 , YOSHIDA, TAKESHI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L27/12
摘要：本發明之課題係提供一種不使用雷射，而容易且充分地將耐熱性有機高分子層自玻璃基板等基板剝離之方法。本發明之剝離方法係藉由對在基板上形成有至少1層之耐熱性有機高分子層之積層體，照射連續之廣波長區域之光線，而於上述基板與上述耐熱性有機高分子層之界面進行剝離之耐熱性有機高分子層之剝離方法，且於上述積層體中，與上述基板接觸而形成含有具有光熱轉換能力之填料之耐熱性有機高分子層A。
简体摘要：本发明之课题系提供一种不使用激光，而容易且充分地将耐热性有机高分子层自玻璃基板等基板剥离之方法。本发明之剥离方法系借由对在基板上形成有至少1层之耐热性有机高分子层之积层体，照射连续之广波长区域之光线，而于上述基板与上述耐热性有机高分子层之界面进行剥离之耐热性有机高分子层之剥离方法，且于上述积层体中，与上述基板接触而形成含有具有光热转换能力之填料之耐热性有机高分子层A。

9. 发明专利

TW201902721A 清潔裝置、清潔方法、印刷裝置及印刷方法审中-公开
简体标题：清洁设备、清洁方法、印刷设备及印刷方法
公开(公告)号：TW201902721A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107116813
申请日：2018-05-17
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：上野美佳 , UENO, MIYOSHI , 木村貴弘 , KIMURA, TAKAHIRO , 鹽田崇二 , SHIOTA, SHUJI , 柴岡真實 , SHIBAOKA, MAMI
IPC分类号： B41F35/06 , B41M1/10 , H05K3/12
摘要：本發明提供可將殘留於暫時性地將油墨性地支撐於表面之支撐體之油墨之液體成分，不殘留液痕而良好地且短時間地加以去除之技術。於暫時性地將油墨支撐於表面之支撐體432之清潔裝置中，設置有：溶劑供給部461，其將溶解油墨之液體成分之溶劑S供給至支撐體之表面；溶劑去除部462，其將溶劑S自供給有溶劑S之支撐體432之表面加以去除，而使支撐體432之表面乾燥；及液痕去除部464，其抵接於溶劑S被去除之支撐體432之表面，將殘留於支撐體432之表面之液痕加以去除。
简体摘要：本发明提供可将残留于暂时性地将油墨性地支撑于表面之支撑体之油墨之液体成分，不残留液痕而良好地且短时间地加以去除之技术。于暂时性地将油墨支撑于表面之支撑体432之清洁设备中，设置有：溶剂供给部461，其将溶解油墨之液体成分之溶剂S供给至支撑体之表面；溶剂去除部462，其将溶剂S自供给有溶剂S之支撑体432之表面加以去除，而使支撑体432之表面干燥；及液痕去除部464，其抵接于溶剂S被去除之支撑体432之表面，将残留于支撑体432之表面之液痕加以去除。

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