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    • 2. 发明申请
    • 비아홀에 의한 주파수 가변 칩 안테나
    • 可变频率芯片天线使用通孔
    • WO2009093831A2
    • 2009-07-30
    • PCT/KR2009/000288
    • 2009-01-20
    • (주)에이스안테나오세원김진석이재호안흥주오정근
    • 오세원김진석이재호안흥주오정근
    • H01Q5/00
    • H01Q1/38
    • 본 발명은 비아홀에 의한 주파수 가변 칩 안테나에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 주방사체와, 상기 주방사체의 하부에 소정 두께로 형성되는 유전체기판, 및 상기 유전체기판의 하부에 소정 형상의 패턴으로 형성되는 부방사체를 포함하여 이루어지며, 상기 주방사체와 상기 부방사체 사이에 전류 경로가 다양하게 형성되는 위치에, 상기 유전체기판을 관통하여 상기 주방사체와 상기 부방사체를 연결시키는 하나 이상의 전도성 비아홀을 형성하고, 상기 하나 이상의 전도성 비아홀을 통하여 상기 주방사체와 상기 부방사체가 연결되어 상기 주방사체와 상기 부방사체에 흐르는 전류의 경로가 다양하게 형성되도록 하는 비아홀에 의한 주파수 가변 칩 안테나에 관한 것이다. 따라서, 본 발명은 주방사체와 부방사체를 연결하는 비아홀을 통하여 전류 경로가 다양하게 형성되고 전류 경로 길이가 길게 형성됨으로써 공진 주파수와 대역폭을 조절할 수 있는 효과가 있다.
    • 本发明涉及采用通孔的可变频率芯片天线。 更具体地,涉及一种使用通孔的可变频率芯片天线,其包括主瓣体,在主瓣体的下部形成有预定厚度的电介质基板和形成的侧翼体 在电介质基板的下部具有预定形状的图案。 所述天线形成有一个或多个导电通孔,其通过电介质基板并将主瓣体和旁瓣体连接在一个位置或位置,允许在两者之间形成不同的电流通路 主瓣体和旁瓣体,主瓣体和侧叶体通过一个或多个导电通孔连接,以形成流向主体的电流的不同通路 - 瓣体和旁瓣体。 因此,本发明的优点在于,可以调节谐振频率和带宽,因为通过连接主瓣体和旁瓣体的通孔以不同的方式形成电流通路, 电流通路形成长的长度。
    • 8. 发明申请
    • 나노 분말 제조용 플라즈마 토치 전극 구조
    • 用于制造纳米ZnO的等离子体电极的结构
    • WO2012023684A1
    • 2012-02-23
    • PCT/KR2011/001588
    • 2011-03-08
    • 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원정효수유영종손병구오정근신명선
    • 정효수유영종손병구오정근신명선
    • H05H1/34H05H1/26
    • H05H1/30H05H2245/124
    • 본 발명은 나노 분말 제조용 플라즈마 토치 전극 구조에 관한 것으로, 벌크분말을 플라즈마 영역에 공급시키기 위한 캐리어 가스 투입구와; 플라즈마 토치 내부로 캐리어 가스를 주입시키는 주입관과; 상기 주입관이 내부로 삽입되는 가둠관과; 상기 주입관과 가둠관 사이에 구비되어 플라즈마 가스를 분포시키는 플라즈마 가스 유도관과; 플라즈마 열을 냉각시키도록 이중 내관으로 형성되는 일측면 상하단에 각각 형성되는 주입관 냉각수 입구 및 주입관 냉각수 출구와; 플라즈마 가스를 공급하여 가둠관 내부에서 분사되도록 형성되는 한 쌍의 플라즈마 가스 투입구와; 쉬스 가스를 공급하여 가둠관과 플라즈마 가스 유도관 사이에 분사되도록 형성되는 한 쌍의 쉬스 가스 투입구와; 상기 가둠관 외주면에 이격설치되는 유도코일 지지관과; 상기 유도코일 지지관 외주면에 감겨져 가둠관 내부에 플라즈마를 생성시키는 유도코일과; 상기 가둠관의 온도를 낮추도록 구비되는 가둠관 냉각수 입구 및 가둠관 냉각수 출구로 구성된다. 따라서, 본 발명은 플라즈마 가스 유도관 구조를 개선하여 플라즈마 가둠관 내부에서 균일한 플라즈마를 형성하도록 플라즈마 가스를 균일하게 분사시키고, 쉬스 가스의 분사구조를 개선시켜 가둠관 내부에서 발생되는 플라즈마 열에 의해 가둠관이 파손되는 것을 방지하여 가둠관의 냉각 효율을 증대시키는 효과가 있다.
    • 本发明涉及一种用于制造纳米粉末的等离子体焰炬电极的结构,包括:向等离子体区域供应散装粉末的载气入口,将载气注入等离子体焰炬中的注入管,注入管为 插入的等离子体气体导入管,设置在注入管和限制管之间以分配等离子体气体;喷射管冷却剂入口和喷射管冷却剂出口,设置在侧表面的上端和下端中,作为双内管 为了冷却等离子体热,一对等离子体气体入口为限制管中的射流提供等离子体气体,一对护套气体入口为封隔管和等离子体气体导入管之间的射流提供护套气体,支撑件 用于分别设置在限制管的外周面的感应线圈的管,围绕外周缠绕的感应线圈 在限制管中用于等离子体产生的支撑管的表面,以及限制管冷却剂入口和限制管冷却剂出口,降低了限制管的温度。 根据本发明,等离子体气体导入管的结构得到改善,使等离子体气体的均匀分布使得限制管中的等离子体产生均匀,并且提高了护套气体射流的结构,从而防止了 约束管被受限制管中产生的等离子体热量损坏,并提高了限制管的冷却效率。
    • 9. 发明申请
    • 가스 및 인덕션 겸용 주방조리기구
    • 双气和感应烹饪设备
    • WO2016013825A1
    • 2016-01-28
    • PCT/KR2015/007500
    • 2015-07-20
    • 오정근
    • 오정근
    • A47J36/02A47J27/088
    • A47J27/088A47J36/02
    • 본 발명은 가스 및 인덕션 겸용 주방조리기구에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가스렌지와 인덕션 렌지에 사용할 수 있는 조리기구인데 조리기구 본체의 하단부에 열전도판이 설치되고, 상기 열전도판에는 인덕션용 철판이 삽입된 다수개의 돌기가 형성되기에 가스렌지와 인덕션 렌지를 겸용으로 사용할 수 있어 효율적이고, 상기 열전도판이 알루미늄 재질로 형성되어 조리기구 본체에 리베팅 공법에 의해 고정됨으로써, 작성성이 더욱 뛰어나며 연질의 알루미늄 소재의 조리기구의 제작작업이 간단하며 생산 작업시 불량률이 극히 적으며 생산성이 뛰어나고 열전도율이 좋으며 사용중 열에 의한 비틀림을 방지할 수 있으며 오랫동안 사용하여도 변형됨이 없이 사용할 수 있으며, 상기 열전도판과 조리기구 본체 사이에 공기 챔버가 형성되어 조리기구의 대상물이 쉽게 타지 않아 조리의 편리성이 추구되고, 상기 열전도판의 일단면이 경사지게 형성됨으로써, 공기 챔버 내의 공기 또는 물 등이 쉽게 외부로 배출되어 조리기구의 관리가 쉽고 편리한 특징이 있다.
    • 本发明涉及一种双气体和感应烹调设备,更具体地说,涉及一种可用于气体范围和感应范围的烹饪设备。 烹饪设备是有效的,因为在烹饪设备主体的下端设置有具有多个突起的传热板,其中插入有用于感应的钢板,使得烹饪设备可以用作双重的 气体范围和感应范围,因为传热板由铝材料形成并且通​​过铆接方法固定到烹饪设备主体上,所以制造性能更好,因此用于软铝材料的烹饪设备的制造工作 简单,生产操作中的缺陷率非常低,生产率优异,导热性良好,可以防止在使用期间由于热而产生的扭曲,即使在烹饪装置是 使用了很长时间,因为在传热板和烹饪装置主体su之间形成空气室,所以需要烹饪的方便 其特征在于,烹调装置的目标不容易燃烧,并且由于传热板的一端的表面形成为使得空气,空气等内的空气,水等形成为倾斜,因此容易且方便地管理烹饪设备 容易排出到外面。