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1. 发明申请

WO2009109384A1 WERKZEUGMASCHINE, INSBESONDERE FÜR FELGENBEARBEITUNG 审中-公开
标题翻译：机床，特别是对RIM处理
公开(公告)号：WO2009109384A1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：PCT/EP2009/001553
申请日：2009-03-05
申请人： CHIRON-WERKE GMBH & CO. KG , PRUST, Dirk , WINKLER, Hans-Henning , WINKLER, Torsten
发明人： PRUST, Dirk , WINKLER, Hans-Henning , WINKLER, Torsten
IPC分类号： B23B31/16 , B23Q3/06 , B25B5/14
CPC分类号： B23B31/16287 , B23B31/16275 , B23B31/16291 , B23B2215/08 , Y10S409/903 , Y10T279/12 , Y10T279/1208 , Y10T279/26 , Y10T279/33 , Y10T279/3493 , Y10T408/03 , Y10T408/5614 , Y10T408/5634 , Y10T408/6771 , Y10T409/305824 , Y10T409/30868
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Werkzeugmaschine (1) für die spanende Bearbeitung von Werkstücken (20), mit einer Werkstückauflage (19) zum Aufspannen des Werkstücks (20), einem mindestens entlang einer Achse bewegbaren Werkzeughalter (22) zum Halten eines Werkzeugs (24) für die Bearbeitung des Werkstücks (20) und Werkstückhalteeinheiten (30) zum Festhalten des Werkstücks (20) während der Bearbeitung, wobei die Werkstückhalteeinheiten (30) ausserhalb der in aufgespanntem Zustand von dem Werkstück (20) überdeckten Werkstückauflagefläche (34) der Werkstückauflage (19) angeordnet sind und jeweils ein Halteelement (31) zum Festhalten des Werkstücks (20) aufweisen. Damit auch Werkstücke grösseren Durchmessers bei ansonsten gleichen Abmessungen der Werkzeugmaschine bearbeitet werden können, ist erfindungsgemäss vorgesehen, dass die Haltelemente (31) jeweils im Wesentlichen parallel zur Werkstückauflagefläche (34) in Richtung auf das Werkstück (20), insbesondere in Richtung auf eine zentrale, senkrecht zur Werkstückauflagefläche (34) verlaufende Werkstückachse (29), zum Zentrieren und Festhalten des Werkstücks (20) verfahrbar sind.
摘要翻译：本发明涉及一种机床（1），用于加工工件（20），其包括用于夹紧工件（20），工件支撑件（19）的沿所述可动工具保持器（22），用于保持工具的轴线至少（24）对于工件的加工（20）和工件保持单元（30），用于在加工过程中保持工件（20），其中所述工件保持单元（30）在工件（20）被夹持的状态外覆盖所述工件支撑的工件支撑表面（34）（19 ），并且每个具有用于保持工件（20的保持元件（31））。因此，较大直径的工件可以根据机床的其他方面相同的尺寸根据它提供的是，保持元件（31）各自基本上平行于工件支撑表面（34）向工件（20），特别是在中央的方向上的本发明处理垂直于延伸的工件轴线（29）的工件支撑表面（34），用于居中和保持工件（20）是可移动的。

2. 发明申请

WO2003104518A1 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG TRANSPARENTER LEITFÄHIGER SCHICHTEN MITTELS HELIUM-HALTIGEM SPUTTERGAS 审中-公开
标题翻译：分离的透明导电层的氦，含溅射方式方法
公开(公告)号：WO2003104518A1
公开(公告)日：2003-12-18
申请号：PCT/EP2003/003346
申请日：2003-03-31
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V. , EGEL, Manuela , GOEDICKE, Klaus , WINKLER, Torsten
发明人： EGEL, Manuela , GOEDICKE, Klaus , WINKLER, Torsten
IPC分类号： C23C14/08
CPC分类号： H01J37/3405 , C23C14/086 , C23C14/35
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung transparenter leitfähiger Schichten auf der Basis von Oxiden der chemischen Elemente Sn, Zn, In, Ce durch Magnetronsputtern, bei welchem dem für die Ausbildung des Plasmas verwendeten Arbeitsgas ein Anteil von 5 bis 50 Volumenprozent Helium zugesetzt wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于基于化学元素锡，锌，在，CE通过磁控溅射的氧化物的透明导电层的沉积的方法，其中用于加入5〜50％（体积）氦的比例的等离子体工作气体的形成材料。

3. 发明申请

WO2003021001A1 VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON SCHICHTSYSTEMEN FÜR OPTISCHE PRÄZISIONSELEMENTE 审中-公开
标题翻译：方法和器具，用于产生层系用于精密光学元素
公开(公告)号：WO2003021001A1
公开(公告)日：2003-03-13
申请号：PCT/EP2002/009509
申请日：2002-08-26
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V. , LIEBIG, Jörn-Steffen , GOEDICKE, Klaus , KIRCHHOFF, Volker , WINKLER, Torsten
发明人： LIEBIG, Jörn-Steffen , GOEDICKE, Klaus , KIRCHHOFF, Volker , WINKLER, Torsten
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： C03C17/002 , C23C14/352 , C23C14/568
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zur Herstellung von Schichtsystemen für optische Präzisionsbauelemente, die auf einem Substrat einen Stapel von abwechselnd hoch- und niedrigbrechenden optisch wirksamen Schichten enthalten, wobei die Abscheidung einzelner Schichten durch Pulsmagnetron-Sputterstationen erfolgt, die an einem konstant gehaltenen Arbeitspunkt im "Transientmode" reaktiv betrieben werden, wobei das Substrat durch gleichförmige Linearbewegung an der jeweiligen Pulsmagnetron-Sputterstaiton mit dem zugehörigen Targetmaterial, aus dem die Schicht reaktiv gebildet wird, mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit v1 vorbeigeführt wird, wobei v1 bei der Abscheidung einzelner Schichten so eingestellt wird, dass nach einer vorgegebenen Anzahl von Passagen die jeweilige Schicht bis zu einer Dicke von mindestens 50 % der Sollschichtdicke aufgebracht wird, wobei danach auf dem Substrat eine optische Präzisionsmessung der Transmission und/oder der Reflexion und/oder der Polarisation des Teilschichtsystems durchgeführt wird, deren Ergebnis mit einem Sollwert verglichen wird, der nach vollständiger Abscheidung der jeweiligen Schicht erreicht werden muss.
摘要翻译：本发明涉及一种用于生产涂层系统的用于精密光学元件的方法和装置，该高的基板上的交替堆叠，并含有低折射率的光学活性层，其中通过Pulsmagnetron溅射站，其工作点以保持恒定执行各个层的沉积在“Transientmode”与基板通过匀速直线运动在相应Pulsmagnetron-Sputterstaiton与从中层中形成的反应性相应的目标材料，以规定的速度V1传递，其中，在各个层的沉积V1组的反应性来操作，从而是通道的预定数量后，相应的层被施加至厚度为所希望的层厚度的至少50％，则在基板上的传输和/或反射的光学精密测量和或子层系统的偏振进行/，其结果与必须实现以完成相应的层的沉积的参考值相比较。

4. 发明专利

DE20216512U1 未知
公开(公告)号：DE20216512U1
公开(公告)日：2002-12-19
申请号：DE20216512
申请日：2002-10-22
申请人： WINKLER TORSTEN
IPC分类号： B32B7/06 , B32B7/12 , B60J1/02 , B60J1/20

5. 发明申请

WO2004013374A3 DEVICE AND METHOD FOR COATING SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于涂布基材的装置和方法
公开(公告)号：WO2004013374A3
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/EP0308001
申请日：2003-07-22
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG , FRACH PETER , BARTZSCH HAGEN , GOEDICKE KLAUS , WINKLER TORSTEN , LIEBIG JOERN-STEFFEN , KIRCHHOFF VOLKER
发明人： FRACH PETER , BARTZSCH HAGEN , GOEDICKE KLAUS , WINKLER TORSTEN , LIEBIG JOERN-STEFFEN , KIRCHHOFF VOLKER
IPC分类号： C23C14/35 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3408 , C23C14/35
摘要： The invention relates to a device for coating substrates by means of magnetron sputtering. Said device comprises at least one sputtering source according to the magnetron principle, at least one target (1) which can be placed on an optional electrical potential, a tunnel-shaped, closed magnetic field (5) which is located above the surface and is at least temporarily used as a cathode, at least one electrode which is at least temporarily used as an anode (7), and at least one power supply unit (8) for producing a voltage between the target(s) and the electrode or the associated electrodes, a device (9) for producing magnetic fields being associated with the electrode in such a way that the electrode surface is at least partially penetrated by a magnetic field. According to the invention, the maximum value of the magnetic field component parallel to the electrode surface H II,max is at least 5 % of the maximum value of the magnetic field component parallel to the target surface H II,max.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于通过磁控溅射涂覆基材的至少一个溅射源根据磁控管原理与至少一个相应的集拢，以选择性地自由电位靶（1），其具有在自己的封闭隧道形磁场（5）的表面上，这至少有时如上阴极连接，和至少一个至少暂时地作为目标以及目标和所述电极和所述相关联的电极，其中所述电极包括磁场发生装置之间产生的电压的阳极（7）连接的电极和至少一个电源单元（8）（9）被分配，使得电极表面是至少部分地由一个磁场，穿过其中场分量平行的磁性的最大值到电极表面H， II，场分量平行的磁性的至目标表面H， II，最大的最大值的最大值至少为5％有关 GT。

6. 发明申请

WO2004013374A2 EINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN VON SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译： DEVICE AND METHOD FOR涂层基布
公开(公告)号：WO2004013374A2
公开(公告)日：2004-02-12
申请号：PCT/EP2003/008001
申请日：2003-07-22
申请人： FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , FRACH, Peter , BARTZSCH, Hagen , GOEDICKE, Klaus , WINKLER, Torsten , LIEBIG, Jörn-Steffen , KIRCHHOFF, Volker
发明人： FRACH, Peter , BARTZSCH, Hagen , GOEDICKE, Klaus , WINKLER, Torsten , LIEBIG, Jörn-Steffen , KIRCHHOFF, Volker
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： H01J37/3408 , C23C14/35
摘要： Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Beschichten von Substraten durch Magnetron-Sputtern mit mindestens einer Sputterquelle nach dem Magnetronprinzip mit mindestens je einem auf wahlfreies elektrisches Potential legbaren Target (1) mit in sich geschlossenem tunnelförmigen Magnetfeld (5) oberhalb der Oberfläche, welches mindestens zeitweise als Katode geschaltet ist, und mindestens einer zumindest zeitweise als Anode (7) geschalteten Elektrode und mindestens einer Stromversorgungseinheit (8) zur Erzeugung einer Spannung zwischen dem Target bzw. den Targets und der Elektrode bzw. den zugeordneten Elektroden, bei der der Elektrode eine magnetfelderzeugende Einrichtung (9) derart zugeordnet ist, dass die Elektrodenoberfläche zumindest teilweise von einem Magnetfeld durchdrungen wird, wobei der Maximalwert der Magnetfeldkomponente parallel zur Elektrodenoberfläche H E II,max mindestens 5% des Maximalwertes der Magnetfeldkomponente parallel zur Targetoberfläche H T II,max beträgt.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于通过磁控溅射涂覆基材的至少一个溅射源根据磁控管原理与至少一个相应的集拢，以选择性地自由电位靶（1），其具有在自己的封闭隧道形磁场（5）的表面上，这至少有时如上阴极连接，和至少一个至少暂时地作为目标以及目标和所述电极和所述相关联的电极，其中所述电极包括磁场发生装置之间产生的电压的阳极（7）连接的电极和至少一个电源单元（8）（9）被分配，使得电极表面是至少部分地由一个磁场，穿过其中场分量平行的磁性的最大值到电极表面H， II，场分量平行的磁性的至目标表面H， II，最大的最大值的最大值至少为5％有关 GT。

7. 发明申请

WO2004015748A1 VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR WECHSELWEISEN ABSCHEIDUNG ZWEIER MATERIALIEN DURCH KATHODEN-ZERSTÄUBUNG 审中-公开
标题翻译：方法和设备不断变换的方法两种材料的分离BY阴极溅射
公开(公告)号：WO2004015748A1
公开(公告)日：2004-02-19
申请号：PCT/EP2003/006710
申请日：2003-06-25
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V. , WINKLER, Torsten , GOEDICKE, Klaus , BLUETHNER, Ralf , LIEBIG, Jörn-Steffen
发明人： WINKLER, Torsten , GOEDICKE, Klaus , BLUETHNER, Ralf , LIEBIG, Jörn-Steffen
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01J37/3429 , C23C14/3407 , C23C14/352 , H01J37/3408
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine zugehörige Einrichtung zur wechselweisen Abscheidung zweier Materialien durch Kathoden-Zerstäubung zur Abscheidung eines Schichtsystems aus wenigstens zwei stofflich unterschiedlichen übereinanderliegenden Schichten, bei dem von einem Target, welches aus mindestens zwei Teiltargets der unterschiedlichen Materialien besteht und die elektrisch miteinander gekoppelt sind, die Teiltargets unterschiedlichen Plasmadichten ausgesetzt werden, wobei in einem ersten Betriebszustand eine magnetfelderzeugende Einrichtung so erregt wird, dass zunächst das erste Teiltarget aus dem einen Material durch eine Magnetronentladung zerstäubt wird, während das zweite Teiltarget aus dem anderen Material einer nicht magnetfeldverstärkten Glimmentladung ausgesetzt wird, ohne dabei zerstäubt zu werden, anschließend in einem zweiten Betriebszustand die magnetfelderzeugende Einrichtung so erregt wird, dass das erste Teiltarget einer nicht magnetfeldverstärkten Glimmentladung ausgesetzt wird, ohne zerstäubt zu werden, und das zweite Teiltarget durch eine Magnetronentladung zerstäubt wird, wonach in den ersten Betriebszustand zurückgekehrt werden kann.
摘要翻译：本发明涉及一种方法和用于通过阴极溅射两种材料的交替沉积用于沉积的至少两个实质上不同的叠加层的层系统，其中从一个目标，由不同材料组成的至少两个部分的目标的和电耦接在一起的相关联的设备是部分目标不同的等离子体密度被暴露，由此磁场发生装置是在首先从一个材料中的靶的第一部分是由磁控管放电溅射的第一操作状态通电，以便，而目标的第二部分是从非磁场增强辉光放电的其它材料暴露而不被雾化，然后在第二工作状态通电时，磁场产生装置，使得不增强的目标磁场的第一部分是烯不被雾化暴露辉光放电，并且所述第二部分靶由磁控管，其可以返回到第一操作状态溅射。

8. 发明申请

WO2002090612A1 ELEKTRODENANORDNUNG FÜR DIE MAGNETFELDGEFÜHRTE PLASMAGESTÜTZTE ABSCHEIDUNG DÜNNER SCHICHTEN IM VAKUUM 审中-公开
标题翻译：电极排列，在真空中的薄层磁控等离子体辅助沉积
公开(公告)号：WO2002090612A1
公开(公告)日：2002-11-14
申请号：PCT/DE2002/001534
申请日：2002-04-26
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , WINKLER, Torsten , WEISKE, Dieter , EGEL, Manuela , GOEDICKE, Klaus , KIRCHHOFF, Volker , LIEBIG, Jörn-Steffen , KOPTE, Torsten
发明人： WINKLER, Torsten , WEISKE, Dieter , EGEL, Manuela , GOEDICKE, Klaus , KIRCHHOFF, Volker , LIEBIG, Jörn-Steffen , KOPTE, Torsten
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： H01J37/3408 , C23C14/352
摘要： Die Erfindung betrifft eine Elektrodenanordnung zum magnetfeldgeführten plasmagestützten Abscheiden von dünnen Schichten im Vakuum mit mehreren parallelen längserstreckten Elektroden mit magnetfelderzeugenden Baugruppen aus Permanentmagneten nach dem Prinzip des Magnetrons, die so dimensioniert sind, dass sich über parallel verlaufenden Elektrodenbereichen Magnettunnel mit im Wesentlichen gleichem Querschnitt und gleicher magnetischer Feldstärke ausbilden, wobei mindestens einer längserstreckten Elektrode allein eine magnetfelderderzeugende Einheit oder ein Teil von dieser zugeordnet ist, die im Fall des Zerstäubens nur durch Superposition mit den Magnetfeldern benachbarter magnetfelderzeugender Baugruppen anderer längserstreckter Elektroden für eine ausreichend gleichmässige Ausprägung der magnetischen Tunnel über den geraden Bereichen der Erosionsgräben dieser längserstreckten Elektrode bei ausreichender magnetischer Felstärke sorgt.
摘要翻译：本发明涉及一种用于磁场出与根据磁控管，其尺寸的原理的永久磁铁的磁场产生组件几个平行细长电极在真空薄层的等离子体辅助沉积的电极布置，使得在平行电极区域磁隧道具有基本上相同的横截面，并且相同的磁形成的磁场强度，具有与这些单独的一个相关联的magnetfelderderzeugende单元或部分，在溅射的情况下至少一个细长电极，只通过与其它细长电极的相邻的磁场产生部件的用于磁性隧道在直区域足够均匀整形的磁场叠加侵蚀沟槽此细长电极提供了足够的磁Felstärke。

9. 发明申请

WO9928520A3 DEVICE FOR PROCESSING WORKPIECES IN LOW PRESSURED PLASMA 审中-公开
标题翻译：设备，用于低压等离子体处理WORKPIECES
公开(公告)号：WO9928520A3
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：PCT/DE9803514
申请日：1998-11-24
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG , WINKLER TORSTEN , GOEDICKE KLAUS , FIETZKE FRED , SCHILLER SIEGFRIED , KIRCHHOFF VOLKER
发明人： WINKLER TORSTEN , GOEDICKE KLAUS , FIETZKE FRED , SCHILLER SIEGFRIED , KIRCHHOFF VOLKER
IPC分类号： C23G5/00 , H01J37/32 , C23C14/02
CPC分类号： H01J37/32018 , C23G5/00 , H01J37/32036 , H01J37/3266 , H01J37/32761
摘要： One disadvantage of known plasma processing devices is that the current density and etching rate cannot be increased as desired if productivity is to be improved. Said devices are also operated at a high gas pressure. Devices operating at a high gas pressure are not suitable for processing ferromagnetic or thick workpieces. The inventive device consists of a device which generates a magnetic field. The workpiece is mounted as an electrode for low pressure discharge. The counter electrode is arranged outside the magnetic field. A pulsed current is applied to the workpiece and the counter electrode. The device is used for plasma-processing of workpieces with respect to material, form and thickness. A high erosion rate can be obtained at low gas pressure, resulting in high productivity.
摘要翻译：用于等离子体处理的已知装置具有的缺点是，电流密度，因此蚀刻速度不能无限地增加，以增加生产率。此外，它们具有高的气体压力下操作。具有高的气体压力的工作设施不适合于治疗铁磁或厚的工件。那的应用领域受到限制。根据本发明，该装置包括一磁场产生装置的，将工件连接作为低压放电的电极，所述反电极布置在磁场到工件和对置电极的外部，一个脉冲电流被施加。该装置用于相对于材料，形状和材料厚度的等离子体处理的任何工件。它是实现除去率高，在低气压和高生产率。

10. 发明申请

WO1997030468A1 PROCESS FOR CONTROL OF THE ENERGY DISTRIBUTION IN BIPOLAR LOW-PRESSURE GLOW PROCESSES 审中-公开
标题翻译：方法用于控制双极低压配电GLIMMPROZESSEN
公开(公告)号：WO1997030468A1
公开(公告)日：1997-08-21
申请号：PCT/DE1997000266
申请日：1997-02-07
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , KOPTE, Torsten , WINKLER, Torsten , KIRCHHOFF, Volker
发明人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32018 , H01J37/32027 , H01J37/32036 , H01J37/32045 , H01J37/3299
摘要： The known processes require a considerable amount of apparatus for low-pressure glow discharges in order to distribute the generator output to the two electrodes and to control it statically and dynamically. Up until now it has not been possible to achieve this control for high energies and over a great range of frequencies. A process variable measured in-situ should be controllable and adjustable. According to the invention, the direct voltage is produced by means of a four-quadrant d.c. power supply. For this the d.c. power supply is decoupled on the alternating voltage side and connected with one pole to the alternating power supply and with the other pole to an electrode of the bipolar glow device. The direct voltage is set dependent upon a process variable of the glow discharge so that a specific ratio in the power distribution between the two electrodes results. The invention is applicable in plasma treatment of surfaces, deposition of coatings from the plasma and plasma enhanced surface cleaning.
摘要翻译：现有技术的方法需要在低压辉光放电装置上高支出来划分发电机输出到两个电极，并控制的静态和动态的。这是不可能的，尤其是到目前为止，实现这种控制的高性能和很宽的频率范围。甲测量原位工艺变量进行控制和调节。根据本发明，由一个四个象限直流电压供应装置产生的直流电压。的DC电压供给被去耦，以交替的电压以及连接到所述交流电源的一个极与另一极与双极Glimmeinrichtung的电极。该DC电压是响应于所述辉光放电的过程变量调节，使得两个电极之间的功率分配的一个具体比率被设置。本发明在表面的等离子体处理中使用，在沉积等离子体和等离子体辅助表面清洁的层。

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