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热词
    • 2. 发明专利
    • トレーラー用ジャッキ
    • 拖车拖车
    • JP2015054576A
    • 2015-03-23
    • JP2013188196
    • 2013-09-11
    • 聰 永井Satoshi Nagai聰 永井
    • NAGAI SATOSHI
    • B60S9/21B60D1/06B62D53/00B62D61/12
    • 【課題】トレーラー、牽引式キャンピングカーの自動車等の連結において、肉体的苦痛を伴うことなく連結作業ができるトレーラー用ジャッキを提供する。【解決手段】ジャッキ用フレーム8にエアーシリンダー7を装着し、車輪上下用フレーム9をリンク上11とリンク下12でジャッキ用フレーム8と連結します。ガスダンパー13をジャッキ用フレームに装着し、リンク上11と連結します。エアーシリンダーの動作により、リンク上11、リンク下12が回転し、車輪上下用フレーム9が下降し、ガスダンパー13によりリンク上11、リンク下12が回転し、車輪上下用フレーム9が上昇できる機能を備えたトレーラー用ジャッキとする。【選択図】図7
    • 要解决的问题:提供一种能够执行耦合操作的拖车的千斤顶,而不会在车辆与拖车,牵引式露营车等联接时产生物理困扰。解决方案:在拖车的千斤顶中,气缸7是 安装到用于插座的框架8,并且车轮升降架9联接到具有上连杆11和下连杆12的插座的框架8上。气体阻尼器13安装到用于插座的框架上并且联接到 上连杆11.通过气缸的操作,上连杆11和下连杆12旋转,并且车轮升降架9下降。 通过气体阻尼器13,上连杆11和下连杆12旋转,并且车轮升降架9上升。
    • 3. 发明专利
    • Multipurpose trailer
    • 多用途拖车
    • JP2014065447A
    • 2014-04-17
    • JP2012213457
    • 2012-09-27
    • Satoshi Nagai聰 永井
    • NAGAI SATOSHI
    • B62D53/06
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multipurpose trailer capable of safely carrying in and out a motor cycle, a self-propelled agricultural machine, or the like and easily transporting the machine during the transportation of the machine.SOLUTION: Wheel support frames 2 and air cylinders 3 are attached to both side surface parts of a load carrying platform 1, and a tire assembly 5 is attached to each wheel support frame 2. A multipurpose trailer has a function for rotating the wheel support frames 2 and moving the load carrying platform 1 in a vertical direction through operation of the air cylinders 3.
    • 要解决的问题:提供能够安全地进出马达循环的多功能拖车,自走式农业机械等,并且在运输机器期间容易地运送机器。解决方案:车轮支撑架2和 气缸3安装在承载平台1的两个侧面部分,轮胎组件5安装在每个车轮支撑框架2上。多功能拖车具有使车轮支撑架2旋转并使承载平台移动的功能 1通过气缸3的操作沿垂直方向。
    • 6. 发明申请
    • LITHOGRAPHY TOOL ALIGNMENT CONTROL SYSTEM
    • LITHOGRAPHY工具对齐控制系统
    • US20130090877A1
    • 2013-04-11
    • US13268248
    • 2011-10-07
    • Satoshi Nagai
    • Satoshi Nagai
    • G06F19/00
    • G03F7/70633G03F9/7034
    • Described herein are methods and systems for aligning a wafer using a wafer leveling map with alignment marks. A set of alignment marks can be selected to create overlay correction parameters to realign the wafer. Alignment marks that are near wafer leveling hotspots, or alignment marks that have poor reproducibility are not selected for realignment purposes. The wafer leveling data is used to determine which alignment marks have poor reproducibility and can create an unstable offset. The wafer leveling data identifies areas on the wafer that are uneven. Only alignment marks which have a stable offset are used to calculate the associated overlay correction parameters.
    • 这里描述了使用晶片调平图与对准标记对准晶片的方法和系统。 可以选择一组对准标记来创建重叠校正参数以重新对准晶片。 靠近晶片调平热点的对准标记或重复性差的对准标记未被选择用于重新对准。 晶圆调平数据用于确定哪些对准标记具有差的再现性,并可能产生不稳定的偏移。 晶片调平数据识别晶片上不均匀的区域。 仅使用具有稳定偏移的对准标记来计算相关联的重叠校正参数。
    • 7. 发明申请
    • Polishing apparatus
    • 抛光设备
    • US20070032174A1
    • 2007-02-08
    • US10555004
    • 2004-04-28
    • Satoshi Nagai
    • Satoshi Nagai
    • B24B7/30B24B1/00
    • B24B37/16
    • The present invention relates to a polishing apparatus for polishing a workpiece such as a semiconductor wafer to form a flat surface thereon. The polishing apparatus includes a polishing table (20), a polishing tool (1) attached to an upper surface of the polishing table (20), and a fluid passage (40) having openings on the upper surface of the polishing table (20). The apparatus is operable to bring a workpiece (W) into sliding contact with the polishing tool (1) to polish the workpiece while supplying a polishing liquid onto the polishing tool (1). The polishing tool (1) is fixed to the polishing table (20) by a vacuum produced in the fluid passage (40).
    • 本发明涉及一种抛光装置,用于抛光诸如半导体晶片的工件以在其上形成平坦表面。 抛光装置包括:研磨台(20),安装在研磨台(20)的上表面的研磨工具(1)和在研磨台(20)的上表面上具有开口的流体通道(40) 。 该装置可操作以使工件(W)与抛光工具(1)滑动接触,以在将抛光液体供应到抛光工具(1)上时抛光工件。 抛光工具(1)通过在流体通道(40)中产生的真空固定在抛光台(20)上。