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1. 发明申请

WO2012028704A1 SUBSTRATE HEATING DEVICE 审中-公开
标题翻译：基板加热装置
公开(公告)号：WO2012028704A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/EP2011/065168
申请日：2011-09-02
申请人： OERLIKON SOLAR AG, TRÜBBACH , DESPONT, Laurent , POPPELLER, Markus , SCHMOLL, Ralph
发明人： DESPONT, Laurent , POPPELLER, Markus , SCHMOLL, Ralph
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67103 , H01L21/67109
摘要： The invention relates to a susceptor for supporting a substrate (9) within a vacuum process chamber, comprising a flat surface (11) for placing the substrate (9) thereon such that the substrate (9) is in thermally conductive contact with the surface (11), whereby the susceptor (1) comprises at least three adjacent zones (5, 6, 8), an outer zone (8), a middle zone (6) and an inner zone (5), the zones (5, 6, 8) arranged concentrically around each other and extending along the surface (11), the outer zone (8) completely surrounds the middle zone (6) and the middle zone (6) completely surrounds the inner zone (5), the inner zone (5) comprises at least one inner heating element (13) affecting the inner zone (5), the outer zone (8) comprises at least one outer heating element (19) affecting the outer zone (8), the middle zone (6) exhibits a maximal thickness (15) that is smaller than the minimal thickness (12) of the inner zone (5) and smaller than the minimal thickness (16) of the outer zone (8), each thickness (12, 15, 16) extending perpendicular to the surface (11). Thus, the invention allows for providing a smooth temperature profile over the complete surface (11) area resulting in a highly uniform substrate (9) temperature and thus in an improved thickness (12, 15, 16) uniformity of a coating to be provided e.g. in a chemical vapour deposition process.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在真空处理室内支撑衬底（9）的感受体，包括用于将衬底（9）放置在其上的平坦表面（11），使得衬底（9）与表面导热接触由此，基座（1）包括至少三个相邻的区域（5,6,8），外部区域（8），中间区域（6）和内部区域（5），所述区域（5,6），8）彼此同心地布置并沿着表面（11）延伸，外部区域（8）完全包围中间区域（6），中间区域（6）完全包围内部区域（5），内部区域（5）包括影响内部区域（5）的至少一个内部加热元件（13），外部区域（8）包括影响外部区域（8）的至少一个外部加热元件（19），中间区域（6））表现出比内部区域（5）的最小厚度（12）更小并且小于外部区域的最小厚度（16）的最大厚度（15） e（8），垂直于表面（11）延伸的每个厚度（12,15,16）。因此，本发明允许在整个表面（11）区域上提供平滑的温度分布，导致高度均匀的基底（9）温度，从而提供例如提供的涂层的厚度（12,15,16）均匀性。在化学气相沉积工艺中。

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