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    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON ELEKTRISCH LEITENDEN KONTAKTEN AUF SOLARZELLEN SOWIE SOLARZELLE
    • 方法用于制造太阳能电池和太阳能电池导电联系
    • WO2012080428A2
    • 2012-06-21
    • PCT/EP2011/072978
    • 2011-12-15
    • SCHOTT SOLAR AGNAGEL, HenningSCHMIDT, Wilfried
    • NAGEL, HenningSCHMIDT, Wilfried
    • H01L31/18
    • H01L31/02021H01L31/022425H01L31/0288H01L31/068H01L31/1804Y02E10/547Y02P70/521
    • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen von aus elektrisch leitendem Material bestehenden Kontakten auf eine Gruppe von Solarzellen, wobei bei zumindest einer Solarzelle aus der Gruppe der Solarzellen zumindest die Verfahrensschritte zur Anwendung gelangen: a) ganzflächiges homogenes Aufbringen einer Dotierstoffquelle auf zumindest einer Seite eines aus kristallinem Silicium bestehenden Substrats, b) Ausbilden von Phosphorsilikatglas durch Eindiffundieren von Dotierstoff in das Substrat in einem ersten Temperaturschritt bei einer Temperatur T 1 über eine Zeit t 1 , c) lokale Beaufschlagung des Substrats mit Laserstrahlung in Bereichen, in denen das elektrisch leitende Material zur Ausbildung des elektrisch leitenden Kontakts aufzubringen ist, wobei das Phosphorsilikatglas vor oder nach Beaufschlagung der Laserstrahlung entfernt wird, d) Messen des im dotierstoffquellenseitigen Oberflächenbereich des Substrats ausgebildeten Schichtwiderstands ρ SH sowohl im als auch seitlich außerhalb von dem gelaserten Bereich in Abhängigkeit von Pulsenergiedichte des das Substrat beaufschlagenden Laserstrahls, e) Aufbringen des elektrisch leitenden Materials auf die gelaserten Bereiche, f) Messen des spezifischen Kontaktwiderstandes zwischen dem gelaserten Bereich und dem auf diesem aufgebrachten elektrisch leitenden Material in Abhängigkeit von Pulsenergiedichte des das Substrat beaufschlagenden Laserstrahls, g) Ermitteln eines Pulsenergiedichtebereichs des Laserstrahls aus den gemessenen Werten, bei denen der Schichtwiderstand ρ SH im gelaserten Bereich zwischen 0 % und 30 % im Vergleich zum Schichtwiderstand außerhalb des gelaserten Bereichs reduziert ist und der spezifische Kontaktwiderstand zwischen dem gelaserten Bereich und dem auf diesem aufgebrachten elektrisch leitendem Material zur Bildung des elektrisch leitenden Kontakts zwischen 0 mΩcm 2 und 10 mΩcm 2 liegt, h) Beaufschlagen der restlichen Solarzellen aus der Gruppe nach Durchführen zumindest der Verfahrensschritte a) und b) in den zu kontaktierenden Bereichen der Solarzellen mit einer Laserstrahlung, deren Pulsenergiedichte innerhalb des ermittelten Pulsenergiedichtebereichs liegt.
    • 本发明涉及一种方法,用于对一组太阳能电池,其特征在于,在从所述组太阳能电池的太阳能电池至少到达产生的导电材料的现有联系人,至少被施加的处理步骤:掺杂剂的至少一个侧上的)整个区域的均匀沉积 现有的结晶硅衬底,b)通过在温度T1为时间t1扩散掺杂剂到衬底中的第一温度阶段形成磷硅酸盐玻璃,C)在区域与激光辐射在衬底的局部暴露,其中导电材料,以 在形成导电接触的将被应用,其中,所述磷硅酸盐玻璃之前或激光辐射的暴露之后,D移除)测量形成在基片电阻的表面区域中的dotierstoffquellenseitigen?SH无论是在和s eitlich激光刻入区域作为基板的脉冲能量密度的函数外偏压激光束,电子)应用中的导电材料的所述激光照射的区域中,f)测量所述激光照射的区域之间的比接触电阻所施加到该导电材料作为脉冲能量密度的函数 衬底偏置激光束,g)确定从测量值的激光束,其中,所述薄层电阻SH在激光刻入范围相对于激光照射的区域外的薄层电阻和所述光刻之间的比接触电阻减小为0%和30%之间的脉冲能量密度范围的 涂敷了用于形成导电接触mOcm2 mOcm2 0之间和10是中,h)通过执行使所述组的太阳能电池的休息区并在此导电材料至少 过程步骤a)和b)的脉冲能量密度是在区域被接触太阳能电池与所确定的脉冲能量密度范围内的激光辐射。