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1. 发明公开

KR20200143275A 수치 보정기 및 다중 전자 빔 조사 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20200143275A
公开(公告)日：2020-12-23
申请号：KR20200070054
申请日：2020-06-10
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： INOUE KAZUHIKO , OGASAWARA MUNEHIRO
IPC分类号： H01J37/153
摘要： 본발명의실시예는수차보정기및 다중전자빔 조사장치에관한것이다. 수차보정기는, 제1 구멍직경을갖고다중전자빔을통과시키는복수의제1 통과구멍이내부에형성되고, 각각이복수의제1 통과구멍의각각을위한, 제1 통과구멍을둘러싸는 4개이상의극의복수의전극인복수의전극세트가위에배열되어있는하부전극기판, 및다중전자빔을통과시키고, 상부전극기판의상부로부터상부전극기판의후방측으로의경로의중간까지의크기가제2 구멍직경이며, 중간으로부터후방측까지의크기가제1 및제2 구멍직경의각각보다큰 제3 구멍직경인복수의제2 통과구멍이내부에형성되어있는, 하부전극기판위의, 상부전극기판으로서, 복수의제2 통과구멍의내벽에차폐전극이형성되어있는, 상부전극기판을포함한다.

2. 发明公开

KR20210007847A 멀티 빔 묘화 방법 및 멀티 빔 묘화 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20210007847A
公开(公告)日：2021-01-20
申请号：KR20200077847
申请日：2020-06-25
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： MATSUMOTO HIROSHI
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/302
摘要： 실시형태는, 멀티빔 묘화방법및 멀티빔 묘화장치에관한것이다. 실시형태의멀티빔 묘화방법은, 기판을다중묘화하는멀티빔의빔 어레이를형성하는공정과, 상기묘화마다, 상기기판상의영역을분할한복수의서브스트라이프의각각에, 상기빔 어레이를분할한서브빔 어레이를할당하는공정과, 상기서브빔 어레이마다, 서브빔 어레이내의각 빔에적용되는조사시간변조율을산출하는공정과, 서로중첩되는상기서브스트라이프의그룹에각각대응하는상기서브빔 어레이에대하여, 상기서브빔 어레이내의빔의조사시간변조율에기초하여상기서브빔 어레이마다가중치를산출하여할당하는공정과, 각상기서브빔 어레이에할당된가중치를, 상기서브빔 어레이내의각 빔의조사시간을곱하고, 상기각 서브스트라이프를묘화하여, 각상기스트라이프를다중묘화하는공정을구비한다.

3. 发明公开

KR20180038964A 참조 화상 확인 방법, 마스크 검사 방법 및 마스크 검사 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20180038964A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：KR20170117681
申请日：2017-09-14
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： MATSUMOTO EIJI , ISOBE MANABU
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G06T7/001 , G03F1/36 , G03F1/84 , G06F17/30247 , G06T7/0008
摘要： 참조회로(24)가패턴을갖는마스크(2)의미리지정된제1 영역에있어서의마스크(2)의설계데이터와마스크(2)의광학화상의비교에기초하여참조화상을생성하고, 생성된참조화상의유효성유무를확인하고, 참조화상의유효성유무의확인은, 추가회로가, 참조화상의유효성유무를확인하는확인영역으로서, 미리확인영역으로설정되어있는제1 영역이외에, 마스크(2)의제2 영역을추가하고, 제1 영역및 제2 영역을포함하는확인영역에있어서참조화상의유효성유무를확인하는것을구비한다.

4. 发明公开

KR20150132049A 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 审中-公开
标题翻译：多电荷粒子束写入装置
公开(公告)号：KR20150132049A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：KR20150154376
申请日：2015-11-04
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： TOUYA TAKANAO , OGASAWARA MUNEHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/1474 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/1508
摘要： 멀티하전입자빔묘화장치는, 시료를재치하는스테이지와, 하전입자빔을방출하는방출부와, 복수의개구부가형성되고, 상기복수의개구부전체가포함되는개구부형성영역에상기하전입자빔의조사를받아, 상기복수의개구부를상기하전입자빔의일부가각각통과함으로써멀티빔을형성하는애퍼처부재와, 자장이반대방향인복수의전자렌즈와, 각전자렌즈의자장중에적어도 1개씩배치되고, 1개이상이멀티빔을상기시료상으로일괄하여편향하는편향기를겸한 3개이상의정전렌즈를구비한것을특징으로한다.
摘要翻译：多电荷粒子束写入装置包括：用于在其上安装样品的载物台; 用于发射带电粒子束的发射单元; 其中形成有多个开口的开口构件，并且通过在包括整个开口的孔径形成区域中接收带电粒子束的照射而形成多光束，并且一部分带电粒子束单独地穿过开口 ; 具有相反方向磁场的多个电子透镜; 和三个或更多个静电透镜，其中至少一个被布置在电子透镜的每个磁场中，并且其中一个或多个静电透镜也用作用于共同地将多光束偏转到样品上的偏转器。

5. 发明公开

KR20200130102A 하전 입자 빔 묘화 방법 및 하전 입자 빔 묘화 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20200130102A
公开(公告)日：2020-11-18
申请号：KR20200040063
申请日：2020-04-02
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： YASUI KENICHI , KATO YASUO
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304
摘要： 실시형태는, 하전입자빔 묘화방법및 하전입자빔 묘화장치에관한것이다. 실시형태에의한하전입자빔 묘화방법에서는, 기판의묘화영역을제1 메쉬사이즈로가상분할한제1 메쉬영역마다의패턴의면적밀도를산출하여제1 메쉬데이터를작성하고, 상기제1 메쉬데이터의메쉬사이즈를제1 메쉬사이즈보다큰 제2 메쉬사이즈로변환하여제2 메쉬데이터를작성하고, 상기제2 메쉬데이터와근접효과보정커넬과의합성곱연산을행하여제3 메쉬데이터를작성하고, 상기제3 메쉬데이터의메쉬사이즈를상기제1 메쉬사이즈로변환하여제4 메쉬데이터를작성하고, 상기제1 메쉬데이터와중거리효과보정커넬과의합성곱연산을행하여제5 메쉬데이터를작성하고, 상기제4 메쉬데이터와상기제5 메쉬데이터를가산하여상기제1 메쉬영역마다의하전입자빔의조사량을산출한다.

6. 发明公开

KR20180072545A 기상 성장 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180072545A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：KR20170165025
申请日：2017-12-04
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： TAKAHASHI HIDESHI , MIYANO KIYOTAKA , TSUKUI MASAYUKI , NAGO HAJIME , IYECHIKA YASUSHI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324
CPC分类号： C23C16/325 , C23C16/45504 , C23C16/45565 , C23C16/4584 , C23C16/46 , H01L21/02167 , H01L21/02271 , H01L21/02381 , H01L21/02447 , H01L21/02458
摘要： 실시형태의기상성장방법은, 기판상에기판과다른조성의막을형성하는기상성장방법이며, 1매의기판을자전시켜서제1 온도로가열하고, 기판의표면에대하여대략수직인방향의층류로서실리콘및 탄소를포함하는제1 프로세스가스를공급하고, 기판의표면에막 두께가 10㎚이상 200㎚이하인탄화규소막을형성한다.

7. 发明公开

KR20180042798A 멀티빔 초점 조정 방법, 멀티빔 초점 측정 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20180042798A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：KR20170124376
申请日：2017-09-26
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： NANAO TSUBASA
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/78
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/3177
摘要： 애퍼처부재(43)에마련된복수열의개구부(43A)를통해시료(62)에복수의빔열(201)을가지는멀티빔(20)을조사하여패턴을묘화하는하전입자빔묘화장치(1)에서멀티빔(20)의초점을조정하는멀티빔초점조정방법으로서, 소정위치에마련된마크(8)의가장자리(8a)에대한빔열(201)의회전각을취득하고, 취득된회전각에기초하여멀티빔(20) 중조정에이용될선택빔을결정하고, 마크(8)의가장자리(8a)에직교하는방향으로선택빔을조사하고, 마크(8)를주사함으로써취득된반사전자에기초하여멀티빔(20)의초점을조정한다.

8. 发明公开

KR20180030407A 하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법 审中-公开
标题翻译：带电粒子束写入装置和带电粒子束写入方法
公开(公告)号：KR20180030407A
公开(公告)日：2018-03-22
申请号：KR20180028670
申请日：2018-03-12
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： NAKAYAMADA NORIAKI , SUGANUMA MIZUNA
IPC分类号： G03F1/20 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/20 , G03F7/2063 , G03F7/70308 , G03F7/70508 , G03F7/70875 , H01L21/0274
摘要： 실시형태의하전입자빔묘화장치는, 패턴속성정보가대응된묘화데이터를보존하는묘화데이터기억부와, 묘화데이터를패턴속성정보가대응된샷 데이터로분할하는샷 분할부와, 패턴속성정보에대응되어전달열의근사계산시에계산상병합할보정구획영역을판정하는지표를보존하는지표기억부와, 샷데이터에기초하여묘화스케줄을작성하는묘화스케줄작성부와, 묘화스케줄과지표에기초하여묘화대상의샷 데이터에의해묘화될샷보다전에묘화되는다른샷으로부터의전달열의근사계산방법을결정하는근사계산방법결정부와, 근사계산방법에기초하여샷 데이터에의해묘화될샷보다전에묘화되는다른샷으로부터의전달열에의한온도상승량을계산하는열 확산계산부와, 온도상승량에기초하여샷 데이터에의해묘화될샷의대표온도를구하는샷 온도계산부와, 대표온도에기초하여샷 데이터에의해묘화될샷의조사량을변조하는조사량변조부와, 변조된조사량과묘화스케줄에기초하여묘화를행하는묘화부를구비한다.
摘要翻译：在本发明的一个实施例中，一种带电粒子束写入装置包括：写入数据存储单元，被配置为存储与图案特征信息相关联的写入数据; 镜头分割单元，被配置为将写入数据分割成与图案特征信息相关联的镜头数据; 坐标数据存储单元，被配置为存储坐标，所述坐标与所述图案特征信息相关联地确定被计算为在热量传递的近似计算中被合并的校正部分区域; 写入日程产生单元，被配置为基于所述拍摄数据创建写入日程; 近似计算方法确定单元，其被配置为基于写入时间表和坐标，确定写入对象的拍摄数据所写入的镜头之前写入的其他镜头的热量传递的近似计算方法; 热扩散计算单元，其被配置为基于近似计算方法来计算由要在由拍摄数据写入的镜头之前写入的其他镜头的热传递所引起的温度增加量; 拍摄温度计算单元，被配置为基于所述温度增加量来计算要由所述拍摄数据写入的所述拍摄的代表温度; 剂量调制单元，其被配置为基于所述代表性温度调制要由所述拍摄数据写入的所述镜头的剂量; 以及写入单元，被配置为基于调制剂量和写入时间表来执行写入。

9. 发明公开

KR20180016942A 멀티빔 검사용 애퍼처, 멀티빔용 빔 검사 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 审中-公开
标题翻译：用于多波束和多波带电粒子束写入装置的多波束检测装置的孔
公开(公告)号：KR20180016942A
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR20170095836
申请日：2017-07-28
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： YAMASHITA HIROSHI , OGASAWARA MUNEHIRO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3177
摘要： 본발명의일 형태에따른멀티빔검사용애퍼처는, 멀티빔묘화장치에있어서조사된멀티빔중 하나의빔을통과시키는멀티빔검사용애퍼처이며, 상기하나의빔이통과하는관통구멍이형성되고, 다른빔이산란되는산란층과, 상기관통구멍보다직경이큰 개구부가형성되고, 침입한빔의적어도일부를흡수하는흡수층을구비하는것이다.
摘要翻译：在一个实施例中，用于检查多光束的光圈允许在多光束写入设备中施加的多光束中的一个光束通过。该孔包括散射层和吸收层，该散射层设置有供一个光束穿过的通孔，并且通过该通孔散射其他光束，该吸收层设置有直径大于通孔直径的开口并且吸收至少一些进入它的光束。

10. 发明公开

KR20210007843A 멀티 빔 묘화 방법 및 멀티 빔 묘화 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20210007843A
公开(公告)日：2021-01-20
申请号：KR20200074902
申请日：2020-06-19
申请人： NUFLARE TECHNOLOGY INC
发明人： MATSUMOTO HIROSHI
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/302
摘要： 본발명은, 멀티빔 묘화방법및 멀티빔 묘화장치에관한것이다. 본발명의일 태양의멀티빔 묘화방법은, 멀티빔의각 빔을한꺼번에스테이지의이동에추종하도록, 빔편향에의한 k 회째(k는자연수)의트랙킹제어를행하고, k 회째의트랙킹제어를행하면서, 각빔이각각대응하는빔 간피치사이즈로둘러싸인직사각형의조사영역내를동시에시프트하면서복수회의빔 샷을행하고, k 회째의트랙킹제어기간이경과한후, k+1 회째의트랙킹제어의개시위치로서, 트랙킹위치를 k 회째의트랙킹제어가개시된트랙킹개시위치에, 빔간 피치사이즈의정수배의오프셋을더 붙인위치까지되돌리는것을특징으로한다.

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