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1. 发明专利

JP2005057297A Holding device for disk-like object 有权
标题翻译：用于盘式对象的保持装置
公开(公告)号：JP2005057297A
公开(公告)日：2005-03-03
申请号：JP2004232027
申请日：2004-08-09
申请人： Nanophotonics Ag , ナノフォトニクス・アーゲーNanoPhotonics AG
发明人： SIEBERT SONKE , SCHWEIGER MICHAEL , LANG ANDREAS
IPC分类号： H01L21/683 , B01L9/00 , B23Q3/00 , B25B11/00 , H01L21/68 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68707 , Y10T279/1291 , Y10T279/18 , Y10T279/1961 , Y10T279/1966 , Y10T279/33
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a holding device which is capable of being easily incorporated into any manufacturing equipment, as it is formed in a manner which is as space-saving as possible as well as assuring firmly holding an object in stoppage or in rotation. SOLUTION: At least one opening mechanism (100) and at least one pretension element (12) are incorporated into a holding arm fixing means (2) positioned at center and/or holding arms (7). COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：解决的问题：提供一种能够容易地结合到任何制造设备中的保持装置，因为其以尽可能节省空间的方式形成，并且确保牢固地保持物体停止或旋转。解决方案：至少一个打开机构（100）和至少一个预张紧元件（12）被结合到位于中心和/或保持臂（7）的保持臂固定装置（2）中。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

2. 发明申请

US20030193671A1 Measurement box 失效
标题翻译：测量盒
公开(公告)号：US20030193671A1
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：US10120639
申请日：2002-04-11
申请人： NANOPHOTONICS AG
发明人： Michael Abraham
IPC分类号： G01B011/28
CPC分类号： H01L21/67288 , H01L21/67253
摘要： A measurement box which can be integrated into existing wafer processing equipment. The measurement box comprises an enclosure which contains a measurement module for measuring objects such as the surfaces of wafers. The measurement module is equipped with a miniaturized measuring device and has a displaceable measuring head and a plane table with a rotatable wafer holder. The enclosure has at least one loading opening for the wafer to pass through as well as a ventilation device.
摘要翻译：可以集成到现有的晶圆加工设备中的测量盒。测量盒包括一个包含用于测量诸如晶片表面的物体的测量模块的外壳。测量模块配备有小型化的测量装置，并具有位移测量头和具有可旋转晶片支架的平台。外壳具有用于晶片通过的至少一个装载开口以及通风装置。

3. 发明申请

US20030193666A1 Device for measuring surface defects 有权
标题翻译：测量表面缺陷的装置
公开(公告)号：US20030193666A1
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：US10237909
申请日：2002-09-09
申请人： NANOPHOTONICS AG
发明人： Michael Abraham , Andreas Lang , Michael Schweiger
IPC分类号： G01N021/00
CPC分类号： G01F23/284 , G01N21/211 , G01N21/47 , G01N21/9501
摘要： In view of the miniaturization of semiconductor components, the prevention of particles and other defects on the wafer surface during production is of great importance. The inspection should proceed as process-oriented as possible. For this purpose, devices are needed which on the one hand, are of very compact construction, while on the other hand, they still are equipped with measuring systems meeting the highest requirements. The device according to the invention for measuring surface defects, comprising a sample holder, a rotation drive for the sample holder, wherein the rotational axis runs perpendicular to the sample surface to be measured, an optical measuring system (10) for measuring scattered light, as well as at least one linear drive (23) for the measuring system, wherein the rotational direction is radial to the rotational axis of the sample holder, is capable of scanning the entire sample surface (16). By moving not only the sample, but also the measuring system, the need for space as a whole is reduced and the total device can be constructed with a more compact design.
摘要翻译：鉴于半导体部件的小型化，在生产中防止晶片表面上的颗粒和其它缺陷是非常重要的。检查应尽可能以过程为导向。为此，需要一种非常紧凑的结构的设备，另一方面它们仍然配备了满足最高要求的测量系统。根据本发明的用于测量表面缺陷的装置，包括样品保持器，用于样品保持器的旋转驱动器，其中旋转轴线垂直于待测量的样品表面延伸，光学测量系统（ 10 ），以及用于测量系统的至少一个线性驱动（ 23 ），其中旋转方向与样本保持器的旋转轴线径向，能够扫描整个样品表面（ 16 ）。通过不仅移动样品，而且移动测量系统，整体上减少了对空间的需求，并且可以以更紧凑的设计构建整个装置。

4. 发明申请

US20030193660A1 Measuring module 失效
标题翻译：测量模块
公开(公告)号：US20030193660A1
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：US10120641
申请日：2002-04-11
申请人： NANOPHOTONICS AG
发明人： Michael Abraham
IPC分类号： G01N021/00
CPC分类号： G01F23/284 , G01N21/211 , G01N21/47 , G01N21/9501
摘要： The present invention relates to a measuring module, whose measuring device comprises a measuring head equipped with a miniaturized measuring unit, and a spatially separately arranged control and evaluation unit, and wherein the measuring head is arranged so as to be able to slide linearly by means of a sliding drive.
摘要翻译：本发明涉及一种测量模块，其测量装置包括配备有小型化测量单元的测量头和空间上分开设置的控制和评估单元，其中测量头被布置成能够通过装置线性地滑动的滑动驱动器。

5. 发明专利

JP4401894B2 Holding device for a disk-shaped object 有权
公开(公告)号：JP4401894B2
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：JP2004232027
申请日：2004-08-09
申请人：ナノフォトニクス・アーゲーNanoPhotonics AG
发明人：アンドレアス・ラング , ゼンケ・ジーベルト , ミヒャエル・シュバイガー
IPC分类号： H01L21/683 , B01L9/00 , B23Q3/00 , B25B11/00 , H01L21/68 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68707 , Y10T279/1291 , Y10T279/18 , Y10T279/1961 , Y10T279/1966 , Y10T279/33

6. 发明专利

JPH11344436A METHOD AND DEVICE FOR AUTOMATICALLY ADJUSTING SAMPLE FOR ELLIPTICAL POLARIMETER 失效
公开(公告)号：JPH11344436A
公开(公告)日：1999-12-14
申请号：JP11116099
申请日：1999-04-19
申请人： NANOPHOTONICS AG
发明人： ABRAHAM MICHAEL , DEPNER OLIVER , EBERHARDT MATTHIAS DR
IPC分类号： G01B11/00 , G01B11/26 , G01J4/00 , G01J4/04 , G01N21/01 , G01N21/13 , G01N21/21
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for automatically and relatively adjusting a sample and an elliptical polarimeter without requiring any repetitive measurement. SOLUTION: A sample position recognition system 20 can be interlocked to an elliptical polarimeter, recognizes the interval between a sample 1 and the coordinate origin of an elliptical polarimeter 10, and a sample position recognition system 20 for recognizing the tilting of the sample 1 at two axial lines that orthogonally cross each other is formed, and an adjustment means acts on a sample table 2 and/or an entire device 43 comprising the sample position recognition system 20 and the elliptical polarimeter 10.

7. 发明专利

JP2004527109A measuring device 审中-公开
公开(公告)号：JP2004527109A
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：JP2002565341
申请日：2001-12-27
申请人：インフィネオンテクノロジーズアクチェンゲゼルシャフト , ナノフォトニクス・アーゲーNanoPhotonics AG
发明人：マイケルアブラハム， , エカードマークス，
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/677 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67253 , H01L21/67772
摘要：製造設備において可動測定を提供するために、測定デバイス（１）すなわち計量ツールおよび運搬手段（２）が組み合わされる。例えば、半導体の製造におけるＦＯＵＰのデバイス移送ユニット（３）、例えば、ＰＣ、モニタおよびキーボードを有する電子制御システム（５）、ならびに選択的に真空ポンプ（９）といった周辺機器も運搬手段（２）のモジュールフレームにて提供される。測定装置は、特に、例えば、半導体製造設備の高速の立ち上げ段階において、加工ツール（４０）の機器を適格化する際に障害となる状態を低減し、これによってコストを節減する。構成は、ＰＧＶまたはＡＧＶに基づき、直接、加工ツール（４０）の場所で高速動作することを可能にする。電源またはオペレータによる制御を可能な例外として、測定装置は、完全に自律的に動作し得る。
【選択図】図１

8. 发明专利

JP2000097776A MICRO POLARIMETER AND ELLIPTIC POLARIMETER 失效
公开(公告)号：JP2000097776A
公开(公告)日：2000-04-07
申请号：JP26221899
申请日：1999-09-16
申请人： NANOPHOTONICS AG
发明人： ABRAHAM MICHAEL , EBERHARDT MATTHIAS DR
IPC分类号： G01J4/04 , G01N21/21 , G02B5/18 , G02B5/30
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compact micro polarimater and elliptic polarimeter wherein characteristics of a sample is measured by a simple method by constituting a retarder as an integral retarder array comprising pixels. SOLUTION: A retarder is an integral retarder array comprising at least one pixel group while the pixel group is provided with at least three pixels 23 comprising lined-up main axes 24 which are distributed across the angular range of 360 deg.. These pixels 23 are formed of two lattices. The main axis 24 with lined-up lattice has different angle. A lattice structure body comprises a transparent material, forming a single unit together with a transparent retarder substrate 22. These lattices of the pixel 23 are manufactured by an electron beam lithography coupled with an ion beam etching method. After the lattice is manufactured, a lattice substrate unit is bonded and combined with an analyzer 5 which is combined with a CCD detector 7.

9. 发明专利

TWI270157B 測量裝置 MEASUREMENT ARRANGEMENT 有权
简体标题：测量设备 MEASUREMENT ARRANGEMENT
公开(公告)号：TWI270157B
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW091100775
申请日：2002-01-18
申请人：億恒科技公司 INFINEON TECHNOLOGIES AG , 微光子技術公司 NANOPHOTONICS AG
发明人：麥可艾柏拉漢 MICHAEL ABRAHAM , 艾克哈德馬克斯 ECKHARD MARX
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67253 , H01L21/67772
摘要：一種測量裝置(1)，即一度量工具及一車輛(2)，其結合來提供在一製造設施中的活動性度量。週邊設備，例如一裝置轉換單元(3)，可用於例如半導體製造中的FOUPs，一電子控制系統(5)具有例如一個人電腦，監視器及鍵盤，及選擇性的一真空泵(9)，其亦可提供在該車輛(2)的模組架構中。該測量配置特別可以降低例如像是在半導體製造設施的快速設置階段期間，製程工具(40)的設備驗證中的瓶頸狀況，藉此來節省成本。該架構係基於PGVs或AGVs，並允許直接在一製程工具(40)的位置處進行快速操作。除了可能的電源供應或操作者控制之例外狀況，該測量配置可以完全獨立地操作。
简体摘要：一种测量设备(1)，即一度量工具及一车辆(2)，其结合来提供在一制造设施中的活动性度量。周边设备，例如一设备转换单元(3)，可用于例如半导体制造中的FOUPs，一电子控制系统(5)具有例如一个人电脑，监视器及键盘，及选择性的一真空泵(9)，其亦可提供在该车辆(2)的模块架构中。该测量配置特别可以降低例如像是在半导体制造设施的快速设置阶段期间，制程工具(40)的设备验证中的瓶颈状况，借此来节省成本。该架构系基于PGVs或AGVs，并允许直接在一制程工具(40)的位置处进行快速操作。除了可能的电源供应或操作者控制之例外状况，该测量配置可以完全独立地操作。

10. 发明申请

WO2010015696A1 INSPEKTIONSVORRICHTUNG- UND VERFAHREN FÜR DIE OPTISCHE UNTERSUCHUNG VON OBJEKTOBERFLÄCHEN, INSBESONDERE EINER WAFERNOTCH 审中-公开
标题翻译： INSPEKTIONSVORRICHTUNG-和方法适合对象曲面的光学调查成果，特别是在晶片NOTCH
公开(公告)号：WO2010015696A1
公开(公告)日：2010-02-11
申请号：PCT/EP2009/060255
申请日：2009-08-06
申请人： NANOPHOTONICS AG , DREWS, Dietrich , GUCKES, Manfred , NIKOLOV, Mladen
发明人： DREWS, Dietrich , GUCKES, Manfred , NIKOLOV, Mladen
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N21/8806 , G01N2021/8822 , G01N2021/8825
摘要： Die Erfindung betrifft eine Inspektionsvorrichtung und ein Inspektionsverfahren für die optische Untersuchung von Objektoberflächen im Bereich eines Strukturmerkmals einer Kante des Objekts, insbesondere für die optische Untersuchung der Notch eines Wafers. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird ein digitales Bild von einer Objektkante wenigstens im Bereich eines Strukturmerkmals mittels einer Digitalkamera unter Dunkeifeldbeleuchtung aufgenommen und aus Bildpunktinformationen des Dunkelfeldbildes wenigstens ein typischer Reflex des Strukturmerkmals unter Dunkelfeldbeleuchtung identifiziert. Nach einem anderen Aspekt der Erfindung wird das digitale Bild so aufgenommen, dass eine Hauptfläche in der Kantenumgebung unter Hellfeldbeleuchtung und die Objektkante im Dunkelfeld liegt. Während des Aufnehmens ist eine Hintergrund beleuchtung auf der der Digitalkamera abgewandten Seite des Objekts zugeschaltet, deren Licht in Richtung der Digitalkamera abstrahlt und teilweise von dem Objekt abgeschattet wird. Aus Bildpunktinformationen des Hellfeldbildes wird anhand eines Kontrastunterschiedes zwischen der Hauptfläche und der Objektkante und/oder zwischen der Objektkante und der Hintergrundbeleuchtung wenigstens die Form des Strukturmerkmals identifiziert.
摘要翻译：本发明涉及的检查装置和用于物体的表面的在所述物体的边缘的结构特征的区域中的光学检查用于晶片的凹口的光学检查的检查方法，尤其如此。在本发明方法的对象的边缘的一个数字图像中的结构特征的区域中至少采取由Dunkeifeldbeleuchtung下的数码相机的装置和从至少在暗视场照明的功能的典型的反射的暗场图像的像素信息来标识。根据本发明的另一个方面，数字图像被记录，使得在所述边缘环境的一个主要表面低于明视场照明，并在暗视场中物体边缘。当记录一个背景照明是在物体的数字照相机侧的相反侧被切换，这在数字照相机的方向上发射光，并通过该对象被部分遮挡。所述亮场图像的像素信息的，该特征的形状由所述主表面和所述物体之间和/或所述对象边缘和背光至少的边缘之间的对比度差来标识。

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