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    • 5. 发明专利
    • クエチアピンを含む徐放性医薬組成物
    • 持续释放含有QUETIAPINE的药物组合物
    • JP2014196334A
    • 2014-10-16
    • JP2014125631
    • 2014-06-18
    • ルピン・リミテッドLupin LimitedLupin Ltdルピン・リミテッドLupin Limited
    • VELHAL AVINASH KRISHNAJIMIRAJKAR SUNIL ANANTRAOVIRENDRA RAMKRUPAL KURILRAGHAVAN VINEETHNINAD DESHPANDAY
    • A61K31/554A61K9/16A61K9/22A61K9/30A61K47/32A61K47/38A61P25/18A61P25/24
    • A61K9/2027A61K9/2054A61K9/2846A61K9/2866A61K31/554
    • 【課題】実質的に同じ用量のクエチアピンを含み従来の剤形より小さなサイズになる高用量のクエチアピンを含む剤形であり、制御放出剤形および/または徐放性剤形である改良型クエチアピン剤形の提供【解決手段】クエチアピン又はその薬学的に許容される塩及び1つ以上の放出制御材料を含む第1の造粒と、前記第1の造粒の1つ以上の放出制御材料と同じか又は異なる1つ以上の放出制御材料及び任意にはクエチアピン又はその薬学的に許容される塩とを含む第2の造粒と、を含む持続放出剤形。第1の造粒及び第2の造粒に続いて粉砕することと、第2の造粒後の前記粉砕された顆粒と潤滑剤とを混合した後、圧縮して徐放性剤形を形成する徐放性剤形の調製方法。クエチアピン又はその薬学的に許容される塩及び1つ以上の薬学的に許容される添加剤を含む即効型コアと、1つ以上の非ゲル化放出制御材料を含む徐放性コーティングとを含む徐放性剤形。【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供一种改进的喹硫平剂型,其是含有基本上相同剂量的喹硫平并且变得小于常规剂型的高剂量喹硫平,并且其是控释剂型和/或持续释放 剂型:缓释剂型包括:含有喹硫平或其药学上可接受的盐和一种或多种控释材料的第一次造粒; 第二颗粒含有一种或多种与第一​​颗粒的一种或多种控制释放材料相同或不同的控制释放材料,以及任选的喹硫平或其药学上可接受的盐。 在缓释剂型的制备方法中,在第一次造粒后的粉碎后,第二次造粒,第二次造粒后的粉碎后的颗粒与润滑剂进行混合,将混合物压缩形成持续释放剂型。 持续释放剂型包括:含有喹硫平或其药学上可接受的盐和一种或多种药学上可接受的添加剂的速效核心剂,以及含有一种或多种非糊化控制释放材料的缓释涂层。