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1. 发明申请

WO2008104485A1 OPTICAL COMPONENT MADE FROM SYNTHETIC QUARTZ GLASS WITH ENHANCED RADIATION RESISTANCE, AND METHOD FOR PRODUCING THE COMPONENT 审中-公开
标题翻译：具有增强耐辐射性的合成石英玻璃制成的光学元件及其制造方法
公开(公告)号：WO2008104485A1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/EP2008/052045
申请日：2008-02-20
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan , WEBER, Juergen
发明人： KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan , WEBER, Juergen
IPC分类号： C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/10 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/40 , C03C3/06 , C03C2201/10 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/3411 , C03C2201/3441 , C03C2201/40 , G03F7/70958
摘要： To provide an optical component of quartz glass for use in a projection objective for immersion lithography at an operating wavelength below 250 nm, which component is optimized for use with linearly polarized UV laser radiation and particularly with respect to compaction and birefringence induced by anisotropic density change, it is suggested according to the invention that the quartz glass should contain hydroxyl groups in the range of from 1 wtppm to 60 wtppm and chemically bound nitrogen, and that the mean hydrogen content of the quartz glass should be in the range of 5 x 10 15 molecules/cm 3 to 1 x 10 17 molecules/cm 3 .
摘要翻译：为了提供石英玻璃的光学部件，用于在250nm以下的工作波长下用于浸没式光刻的投影物镜，该成分被优化用于线偏振UV激光辐射，特别是关于由各向异性密度变化引起的压实和双折射根据本发明，建议石英玻璃应含有1wt％至60wtppm的羟基和化学键合的氮，并且石英玻璃的平均氢含量应在5×10 分子/ cm 3至1×10 17分子/ cm 3以上。

2. 发明申请

WO2011104257A1 ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译： BRUTE钛掺杂的，高二氧化硅玻璃镜基底FOR USE IN EUV光刻AND METHOD FOR PRODUCTION
公开(公告)号：WO2011104257A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/EP2011/052650
申请日：2011-02-23
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan
发明人： KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/23 , G02B5/0891
摘要： Es ist bekannt zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das Ti-dotierte Kieselglas mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen zu erzeugen und anschließend in dem Ti-dotierten Kieselglas einen vorgegebenen Wasserstoffgehalt einzustellen. Um hiervon ausgehend eine möglichst weitgehende Unempfindlichkeit der Oberfläche gegenüber Verwerfungen und Verformungen bei Bestrahlung mit EUV- Laserstrahlung zu erreichen, wird erfindungsgemäß ein Verfahrensweise vorgeschlagen, bei dem durch Flammenhydrolyse ein Sootkörper aus mit Titan dotiertem SiO 2 erzeugt wird, der Sootkörper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150 °C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkörper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert wird, und das Ti-dotierte Kieselglas mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 x 10 16 Molekülen/cm 3 einstellt.
摘要翻译：它是在将Ti掺杂的二氧化硅玻璃已知的用于生产含钛原料和用于在EUV光刻中使用的镜基板以产生由硅和火焰水解的Ti掺杂的石英玻璃制成的掺杂钛的高二氧化硅玻璃的坯料然后一个调整预定的氢含量。向该基础实现表面相反在用EUV激光辐射照射失真和变形的最大可能的免疫力，提出一种方法，与其中通过加热由掺杂钛的SiO 2，烟灰体的微粉体的火焰水解产生的的温度下，本发明至少1150℃在真空下干燥，从而使小于150质量ppm的平均羟基含量，将干燥的烟炱体烧结以形成钛 - 掺杂的二氧化硅玻璃的预成型体，并在Ti掺杂的二氧化硅玻璃中装入氢使得至少1×10 16的平均氢含量调整分子/立方厘米。

3. 发明申请

WO2011039159A1 ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译： BRUTE钛掺杂的，高二氧化硅玻璃镜基底FOR USE IN EUV光刻AND METHOD FOR PRODUCTION
公开(公告)号：WO2011039159A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/064317
申请日：2010-09-28
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , KUEHN, Bodo
发明人： KUEHN, Bodo
IPC分类号： C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06
CPC分类号： C03B23/20 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/42 , G02B5/10 , G03F7/708 , Y10T428/22 , Y10T428/24612
摘要： Um ausgehend von einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas (Glas) für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das einen zu verspiegelnden und beim bestimmungsgemäßen Einsatz des Spiegelsubstrats als hochbelastete Zone spezifizierten Oberflächenbereich aufweist, der eine Außenkontur hat, einen Rohling bereit zu stellen, der kostengünstig herstellbar ist und der dennoch hohen Anforderungen bezüglich Homogenität, Blasen- und Schlierenfreiheit genügt, wird eine Verfahrensweise vorgeschlagen, die folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Erzeugen eines Frontkörpers aus Titan-dotiertem Glas hoher Qualität und mit Abmessungen, die die Außenkontur mit Übermaß umschließen, (b) Erzeugen eines zylinderförmigen Stützkörpers aus Titan-dotiertem Glas, (c) Verbinden von Frontkörper und Stützkörper unter Bildung eines Verbundkörpers, und (d) Bearbeitung des Verbundkörpers zum Spiegelsubstrat-Rohling, wobei das Erzeugen des Frontkörpers einen Homogenisierungsprozess umfasst, der ein Verdrillen eines durch Flammenhydrolyse einer siliziumhaltigen Verbindung erhaltenen stangenförmigen Ausgangskörpers zu einem Frontkörperrohling umfasst, und dass der Stützkörper als monolithischer Glasblock mit geringerer Homogenität als der Frontkörper ausgebildet ist.
摘要翻译：为了从用于制造由掺杂钛的高硅玻璃（玻璃），用于在EUV光刻中，它具有利用一个镜基板的空白公知的方法开始被mirrorized和打算使用的镜基板的指定为高负载区的表面积的外轮廓具有提供一种可以经济地和关于满足从条纹仍要求高的均匀性，膀胱和自由地制造，过程中提出，下面的处理步骤的空白：（a）形成的高掺杂钛的玻璃的前体质量和其与筛上，（b）中包围的外轮廓成形接合前体和支撑体上以形成复合体，而复合体的（d）中处理，以将镜基板ř钛掺杂玻璃的圆筒状支承体，（C）的尺寸 Ohling，其中所述前体的所述生成包括均质化处理，其包括加捻由含硅化合物棒状起始体的火焰水解反应前体坯而获得的信号，并且所述支撑体被形成为具有比前体的下部均匀性的单片玻璃块。

4. 发明申请

WO2009106134A1 METHOD FOR PRODUCING AN OPTICAL COMPONENT OF QUARTZ GLASS 审中-公开
标题翻译：用于生产QUARTZ玻璃的光学部件的方法
公开(公告)号：WO2009106134A1
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：PCT/EP2008/052370
申请日：2008-02-27
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , TROMMER, Martin , OCHS, Stefan , ZWARG, Steffen , KUEHN, BODO
发明人： TROMMER, Martin , OCHS, Stefan , ZWARG, Steffen , KUEHN, BODO
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C4/0085 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , Y02P40/57
摘要： To provide a method for the reproducible and reliable production of synthetic, UV- radiation resistant quartz glass which has a predetermined hydroxyl group content and containshardly any chlorine and oxygen defect centers, if possible, the present invention suggests a method which comprises the following steps: (a) producing an SiO 2 soot body, (b) drying the soot body such that a mean hydroxyl group content of less than 60 wtppm is obtained, and (c) vitrifying the soot body with formation of a cylindrical quartz glass blank which is further processed into the optical component, wherein prior to vitrification according to method step (c) the soot body is subjected to a conditioning treatment which comprises a treatment with a nitrogen containing gas, preferably a nitrogen oxide,or a sequence of treatments with ammonia and an oxidizing agent.
摘要翻译：为了提供一种可重复且可靠地生产具有预定羟基含量并且包含任何氯和氧缺陷中心的合成耐紫外线辐射石英玻璃的方法，如果可能，本发明提出了一种方法，包括以下步骤：（a）生产SiO2烟灰体，（b）干燥烟灰体，使得得到小于60重量ppm的平均羟基含量，和（c）使形成圆柱形石英玻璃坯料的烟灰体玻璃化，其进一步加工成光学部件，其中根据方法步骤（c）在玻璃化之前，对烟灰体进行调理处理，其包括用含氮气体，优选氮氧化物的处理，或用氨和氧化剂。

5. 发明申请

WO2006108766A1 HALTER AUS QUARZGLAS FÜR DIE PROZESSIERUNG VON HALBLEITERWAFERN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES HALTERS 审中-公开
标题翻译： HOLDER QUARZGLAS用于加工半导体晶片和制造方法的持有者
公开(公告)号：WO2006108766A1
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：PCT/EP2006/061192
申请日：2006-03-30
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WEBER, Juergen , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , KUEHN, Bodo , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
发明人： WEBER, Juergen , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , KUEHN, Bodo , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , H01L21/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
摘要： Ein ideales Quarzglas für einen Wafer-Halter zum Einsatz in ätzend wirkender Umgebung zeichnet sich sowohl durch hohe Reinheit als auch durch eine hohe Trockenätzbeständigkeit aus. Um ein Quarzglas anzugeben, das diese Anforde rungen weitgehend erfüllt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Quarz glas mindestens in einem oberflächennahen Bereich mit Stickstoff dotiert ist, einen mittleren Gehalt an metastabilen Hydroxylgruppen von weniger als 30 Gew.-ppm aufweist, und dass seine fiktive Temperatur unterhalb von 1250 °C und seine Vis kosität bei einer Temperatur von 1200°C mindestens 1013 dPas betragen. Ein wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglases umfasst folgende Verfahrensschritte: Erschmelzen eines SiO2-Rohstoffs zu einem Quarz- glas-Rohling, wobei der SiO2-Rohstoff oder der Quarzglas-Rohling einer Entwäs serungsmaßnahme unterzogen werden, ein Erhitzen des SiO2-Rohstoffs oder des Quarzglas-Rohlings auf eine Nitridierungstemperatur im Bereich zwischen 1050°C und 1850 °C unter einer Ammoniak enthaltenden Atmosphäre, eine Temperatur behandlung, mittels der das Quarzglas des Quarzglas-Rohlings auf eine fiktive Temperatur von 1250 °C oder weniger eingestellt wird, und eine Oberflächenbe handlung des Quarzglas-Rohlings unter Bildung des Quarzglas-Halters.
摘要翻译：用于在腐蚀性环境中使用的晶片保持器的理想的石英玻璃的演技由两个高纯度和高耐干蚀性区分。为了提供一个石英玻璃，其支柱很大程度上满足这些Anforde，本发明提出的是，石英玻璃至少与氮的近表面区域掺杂，具有按重量计小于30ppm的亚稳定羟基的平均含量，且其虚拟以下1250℃，粘度温度由显示是在1200℃的温度下为至少1013 dPa·s相当。用于制造这样的石英玻璃的经济的方法包括下列步骤：形成SiO 2原料的熔融，以获得石英玻璃坯料中，SiO 2原材料或石英玻璃坯料的Entwässerungsmaßnahme进行SiO 2的原料的加热或石英玻璃 Döhring添加包含在氨气氛下1050℃和1850℃之间的范围内的氮化温度下，通过该石英玻璃坯料中石英玻璃被设置为1250℃或更低的温度处理的假想温度的装置，和一个治疗Oberflächenbe 该石英玻璃坯料与形成在石英玻璃夹具的。

6. 发明申请

WO2005102950A3 QUARTZ GLASS COMPONENT FOR A UV RADIATION SOURCE AND METHOD FOR PRODUCING AND TESTING THE APTITUDE 审中-公开
标题翻译：石英玻璃部件，用于诊断的生产性和适用性UV辐射源和方法
公开(公告)号：WO2005102950A3
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005003549
申请日：2005-04-05
申请人： HERAEUS QUARZGLAS , SHINETSU QUARTZ PROD , SCHREIBER ANDREAS , KUEHN BODO , SCHILLING FRANZ-JOSEF , ARNOLD ERICH , WITZKE HANS-DIETER
发明人： SCHREIBER ANDREAS , KUEHN BODO , SCHILLING FRANZ-JOSEF , ARNOLD ERICH , WITZKE HANS-DIETER
IPC分类号： C03B19/01 , C03B19/14 , C03B32/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , H01J61/30 , G01N21/64
CPC分类号： C03B19/01 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03C3/06
摘要： A conventional method for producing a quartz glass component for a UV radiation source includes melting SiO 2 containing grains. The aim of the invention is to provide an improved and inexpensive method which allows for the production of a quartz glass component that is characterized by high radiation resistance. For this purpose, synthetically produced quartz crystals are smelted to give an initial product that consists of quartz glass, and contains hydroxyl groups in a number greater than the number of SiH groups. In order to remove the SiH groups, the initial product is subjected to a tempering step at a temperature of at least 850 °C, thereby obtaining the quartz glass component. The inventive quartz glass component is characterized in that the quartz glass is smelted from synthetically produced quartz crystals and has an SiH group content of less than 5 x 10 17 molecules/cm 3 . The invention also relates to a method for testing the aptitude of a quartz glass component for the use thereof with a UV radiation source.
摘要翻译：在已知的处理的石英玻璃部件的制造中的SiO _{2 砂砾的熔化进行一个用于含UV辐射源。要指定此基础上具有成本效益的方法，通过其获得石英玻璃元件，其特征是高耐辐射性，本发明提出的是合成产生的熔融石英的晶体，以形成一个初步的产品，它由石英玻璃含有以羟基数比SiH基团的数量越多，并且进行消除SiH基团，所述前体的退火在至少850℃的温度，而获得石英玻璃元件。在本发明的石英玻璃元件，合成产生的石英晶体的石英玻璃被熔化并具有小于5×10 ^{17 分子/ cm ^{3 到的SiH基团的含量，对于石英玻璃元件的适用性使用用UV辐射的源的诊断方法也被要求保护。}}}

7. 发明申请

WO2005114328A2 QUARTZ GLASS BLANK AND METHOD FOR PRODUCING SAID BLANK 审中-公开
标题翻译：石英玻璃坯料和方法生产同样
公开(公告)号：WO2005114328A2
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：PCT/EP2005005059
申请日：2005-05-11
申请人： HERAEUS QUARZGLAS , SHINETSU QUARTZ PROD , ENGLISCH WOLFGANG , TAKKE RALF , KUEHN BODO , UEBBING BRUNO , KOEPPLER RAINER
发明人： ENGLISCH WOLFGANG , TAKKE RALF , KUEHN BODO , UEBBING BRUNO , KOEPPLER RAINER
IPC分类号： C03B19/01 , C03B19/14 , C03C3/06 , G03F7/00
CPC分类号： C03B19/1469 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42
摘要： The invention relates to a quartz glass blank for an optical component for transmitting radiation with a wavelength of 15 nm and shorter. Said blank consists of a highly pure quartz glass, doped with titanium and/or fluorine, which is characterised by an extremely high degree of homogeneity. The homogeneity relates to the following characteristics: a) micro-inhomogeneities caused by a local variance of the TiO2 distribution ( in relation to the mean value of the TiO2 content), b) an absolute, maximum inhomogeneity in the thermal expansion coefficient Deltaalpha in the main functional direction (
摘要翻译：本发明涉及一种石英玻璃坯料的光学组件，用于发射波长为15nm和更短的高纯度的的辐射，与钛和/或氟掺杂的石英玻璃，其特点是非常高的均匀性。均一性是指以下特征：a）通过在TiO 2分布的局部方差微不均匀性（<0.05％的TiO 2，平均超过（5微米的体积元素）<3>相比TiO2Gehalts的平均值），b）中的绝对最大不均匀性在主工作方向（<5ppb的/ K）的热膨胀德尔塔阿尔法的系数，c）中具有超过最大0.4 ppb的/（K'cm）的的石英玻璃坯料的可用表面的热膨胀系数的径向变化; D）在最大为2纳米/厘米的主要功能，特定历史，以及e）根据（b）中德尔塔阿尔法光学表面上的平均的特定路线的方向633nm的应力双折射（SDB）。此石英玻璃坯料是仅获得由通过火焰水解而得到的产物和含钛和/或含氟化合物掺杂的石英玻璃的形状为大体积的含硅基，棒状起始体进入由若干成形步骤和均化装置空白的均匀的石英玻璃。

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