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1. 发明授权

US5790417A Method of automatic dummy layout generation 失效
标题翻译：自动虚拟布局生成方法
公开(公告)号：US5790417A
公开(公告)日：1998-08-04
申请号：US718735
申请日：1996-09-25
申请人： Ying-Chen Chao , Chia-Hsiang Chen , Jhy-Sheng Sheu
发明人： Ying-Chen Chao , Chia-Hsiang Chen , Jhy-Sheng Sheu
IPC分类号： G06F17/50 , H01L23/528
CPC分类号： G06F17/5068 , H01L23/528 , H01L2924/0002
摘要： A method is provided for producing a dummy pattern for an I.C. semiconductor device multi-layer interconnection metallurgy, having a planar global top surface with a dummy pattern for a circuit for use with conductor lines in the circuit pattern. Create a reverse pattern which is a complement of a widened conductor lines in the circuit pattern with openings about the location of the circuit pattern and provide a dummy cross grid pattern. A gridded dummy pattern is generated by creating a dummy grid pattern of the reverse pattern combining it with the negative of the dummy cross grid pattern leaving a cross grid of dummy elements and openings about the location of the circuit pattern. Provide a revised pattern by adding the circuit pattern to the gridded dummy pattern. Take the product of a contact layout pattern multiplied times the sizing operator multiplied times a separation parameter. Then subtract the sized and separated contact layout pattern from the gridded dummy pattern. Then multiply the dummy pattern times a function of sizing operators, and provide a revised contact and circuit pattern by adding the circuit pattern to the sized dummy pattern.
摘要翻译：提供了一种用于产生I.C.的虚拟图案的方法。半导体器件多层互连冶金，具有平面全局顶表面，其具有用于电路图案中的导线的电路的虚拟图案。创建一个反向图案，该反向图案是电路图案中的加宽导体线的补码，其中围绕电路图案的位置具有开口并提供虚拟的交叉格局图案。通过创建反向图案的虚拟网格图案来生成网格虚拟图案，其将虚拟网格图案与虚拟十字网格图案的负片组合，留下围绕电路图案的位置的虚拟元素和开口的十字网格。通过将电路图案添加到网格的虚拟图案中来提供修改的图案。将联系人布局图案乘以倍数乘以乘以分离参数的乘积。然后从网格虚拟模式中减去大小和分隔的联系人布局模式。然后将虚拟图案乘以尺寸操作符的函数，并通过将电路图案添加到大小的虚拟图案中来提供修改的接触和电路图案。

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