专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 外观设计

USD599759S1 Television set 有权
公开(公告)号：USD599759S1
公开(公告)日：2009-09-08
申请号：US29333507
申请日：2009-03-11
申请人： Hiroshi Chino
设计人： Hiroshi Chino

2. 发明授权

US6124210A Method of cleaning surface of substrate and method of manufacturing semiconductor device 失效
标题翻译：清洗基板表面的方法和制造半导体器件的方法
公开(公告)号：US6124210A
公开(公告)日：2000-09-26
申请号：US317163
申请日：1999-05-24
申请人： Hiroshi Chino , Setsu Suzuki , Hideya Matsumoto , Shoji Ohgawara
发明人： Hiroshi Chino , Setsu Suzuki , Hideya Matsumoto , Shoji Ohgawara
IPC分类号： B08B7/00 , C23C16/02 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/31 , H01L21/316 , H01L21/322 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02046 , C23C16/0209 , C23C16/0236 , H01L21/02164 , H01L21/02271 , H01L21/02312 , H01L21/02315 , H01L21/31612 , Y10S438/906 , Y10S438/974
摘要： The present invention relates to a method of cleaning a surface of a substrate employed prior to film formation by using the CVD method which uses a reaction gas containing an ozone containing gas which contains ozone (O.sub.3) in oxygen (O.sub.2) and tetraethylorthosilicate (TEOS). The substrate surface cleaning method comprises the steps of oxidizing particles 13 by contacting a pre-process gas containing ozone 15 to a surface 12 of a substrate 11 on which the particles 13 are present, and removing the particles 13 by heating the substrate 11 to exceed a decomposition point of oxide 13a of the particles 13.
摘要翻译：本发明涉及一种清洗在成膜前使用的基板的表面的方法，该方法是使用含有含氧气（O 2）中的臭氧（O 3）和原硅酸四乙酯（TEOS）的含臭氧气体的反应气体的CVD法，。基板表面清洁方法包括以下步骤：通过将含臭氧15的预处理气体与其上存在颗粒13的基板11的表面12接触来氧化颗粒13，并通过加热基板11去除颗粒13以超过颗粒13的氧化物13a的分解点。

3. 发明授权

US5589001A Apparatus for forming a film on a wafer 失效
标题翻译：用于在晶片上形成薄膜的装置
公开(公告)号：US5589001A
公开(公告)日：1996-12-31
申请号：US159127
申请日：1993-11-30
申请人： Kazuo Maeda , Kouichi Ohira , Hiroshi Chino
发明人： Kazuo Maeda , Kouichi Ohira , Hiroshi Chino
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/44 , C23C16/458 , H01L21/00 , H01L21/304 , C23C16/00
CPC分类号： H01L21/67115 , C23C16/4407 , C23C16/4584
摘要： An apparatus for forming a film by the CVD method allows reaction products to be easily removed from a gas discharge surface without decreasing the uptime/downtime ratio, and includes a gas distributor having a gas discharge surface for discharge of a reaction gas for forming a film on a substrate. A wafer holder has a wafer mounting surface facing the gas discharge surface. A cleaner has a suction head and a brush formed at the entrance of the suction head. A rotary shaft supports the cleaner for movement between the gas discharge surface and a stand-by position and brings the brush of the cleaner onto the gas discharge surface. A vertical positioner moves the wafer holder or gas distributor upward or downward, whereby the wafer holder approaches the gas discharge surface for forming a film and is spaced from the gas discharge surface when cleaning the gas discharge surface by movement of the cleaner on the gas discharge surface.
摘要翻译：通过CVD法形成膜的装置允许反应产物容易地从气体放电表面除去而不减少正常运行时间/停机时间比，并且包括具有用于排出形成膜的反应气体的气体放电表面的气体分配器在基板上。晶片保持器具有面向气体排出表面的晶片安装表面。吸尘器在吸头的入口处形成有吸头和刷子。旋转轴支撑清洁器，用于在排气表面和待机位置之间移动，并将清洁器的刷子带到排气表面上。垂直定位器向上或向下移动晶片保持器或气体分配器，由此晶片保持器靠近气体排出表面以形成膜，并且通过清洁器在气体放电上的移动来清洁气体排出表面时与气体排出表面间隔开表面。

4. 外观设计

USD666164S1 Television set 有权
公开(公告)号：USD666164S1
公开(公告)日：2012-08-28
申请号：US29367257
申请日：2010-08-05
申请人： Yoshiteru Oda , Hiroshi Chino , Takumi Kibushi
设计人： Yoshiteru Oda , Hiroshi Chino , Takumi Kibushi

5. 外观设计

USD601526S1 Television set 有权
公开(公告)号：USD601526S1
公开(公告)日：2009-10-06
申请号：US29333514
申请日：2009-03-11
申请人： Hiroshi Chino , Takumi Kibushi
设计人： Hiroshi Chino , Takumi Kibushi

6. 发明授权

US6164470A Hermetic seal and wide-mouthed bottle sealed by the seal 失效
标题翻译：密封和密封的密封瓶密封
公开(公告)号：US6164470A
公开(公告)日：2000-12-26
申请号：US254788
申请日：1999-05-11
申请人： Hiroshi Chino
发明人： Hiroshi Chino
IPC分类号： B65D41/20 , B65D51/18 , B65D51/20 , B65D53/00 , B65D79/00 , B65D39/00
CPC分类号： B65D79/005 , B65D51/20 , B65D2251/0018 , B65D2251/0093
摘要： A hermetic seal for sealing a mouth of a wide-mouthed bottle having a body portion thinly formed by stretch blow molding, and a wide-mouthed bottle a mouth of which is sealed by the hermetic seal. A synthetic resin laminated sheet comprising an aluminum sheet or an aluminum foil as a base is punched into the same shape as a mouth of the wide-mouthed bottle to form the hermetic seal. The sheet is formed into a flat peripheral portion and a bellows inside the flat portion to have alternate multiple mountain and valley portions by press molding concurrently with the punching. The bellows is formed in a concentrical state or in a spiral state to prevent the deformation of the body portion caused by a reduced pressure inside the bottle resulting from cooling
摘要翻译： PCT No.PCT / JP98 / 03092 Sec。 371日期：1998年5月11日 102（e）日期1998年5月11日PCT提交1998年7月10日PCT公布。出版物WO99 / 02418 日期1999年1月21日用于密封具有通过拉伸吹塑成型而形成的主体部分的宽口瓶的口的气密密封件，以及通过气密密封密封口的宽口瓶。将包含铝板或铝箔作为基底的合成树脂层压片材冲压成与宽口瓶子的口相同的形状以形成气密密封。该片材在平坦部分内形成平坦的周边部分和波纹管，通过与冲压同时的冲压成型具有交替的多个山谷部分。波纹管形成为同心圆状或螺旋状，以防止由冷却引起的瓶内减压引起的主体部分变形

7. 外观设计

USD331919S Computer 失效
公开(公告)号：USD331919S
公开(公告)日：1992-12-22
申请号：US592497
申请日：1990-10-03
申请人： Hajime Sekino , Shinya Haraga , Joji Kitakaze , Hiroshi Chino
设计人： Hajime Sekino , Shinya Haraga , Joji Kitakaze , Hiroshi Chino

8. 外观设计

USD685336S1 Television set 有权
公开(公告)号：USD685336S1
公开(公告)日：2013-07-02
申请号：US29389029
申请日：2011-04-06
申请人： Hiroshi Chino , Yoshiteru Oda
设计人： Hiroshi Chino , Yoshiteru Oda

9. 外观设计

USD668237S1 Television set 有权
标题翻译：电视机
公开(公告)号：USD668237S1
公开(公告)日：2012-10-02
申请号：US29411400
申请日：2012-01-20
申请人： Hiroshi Chino , Yoshiteru Oda , Toshio Hara
设计人： Hiroshi Chino , Yoshiteru Oda , Toshio Hara

10. 外观设计

USD633062S1 Television set 有权
公开(公告)号：USD633062S1
公开(公告)日：2011-02-22
申请号：US29367270
申请日：2010-08-05
申请人： Hiroshi Chino , Yoshiteru Oda
设计人： Hiroshi Chino , Yoshiteru Oda

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式