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1. 发明申请

WO02077589A3 METHOD AND APPARATUS FOR ENDPOINT DETECTION USING PARTIAL LEAST SQUARES 审中-公开
标题翻译：使用部分最小二乘法进行端点检测的方法和装置
公开(公告)号：WO02077589A3
公开(公告)日：2002-11-14
申请号：PCT/US0209073
申请日：2002-03-25
申请人： TOKYO ELECTRON LTD , YUE HONGYU , FATKE DAVID
发明人： YUE HONGYU , FATKE DAVID
IPC分类号： H01L21/3065 , H01J37/32 , H01L21/66 , G01J3/457
CPC分类号： H01L22/20 , H01J37/32935 , H01J37/32963 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： An apparatus and method for detection of a feature etch completion within an etching reactor. The method includes determining a correlation matrix by recording first measured data regarding a first etch process over successive time intervals to form a first recorded data matrix (110), assembling a first endpoint signal matrix using target endpoint data for a specific etch process, performing a partial least squares analysis (130) on the recorded data matrix and the first endpoint signal matrix to refine the recorded data matrix, and computing a correlation matrix (180) based upon the refined recorded data matrix and the first endpoint signal matrix. The method further includes performing a second etch process to form a second recorded data matrix. The correlation matrix and the second recorded data matrix are analyzed to determine whether an endpoint of the second etch process has been achieved.
摘要翻译：用于检测蚀刻反应器内的特征蚀刻完成的装置和方法。该方法包括通过在连续时间间隔上记录关于第一蚀刻工艺的第一测量数据来形成相关矩阵，以形成第一记录数据矩阵（110），使用用于特定蚀刻工艺的目标端点数据组装第一端点信号矩阵，执行对所记录的数据矩阵和第一端点信号矩阵进行偏最小二乘法分析（130）以细化所记录的数据矩阵，以及基于精细记录的数据矩阵和第一端点信号矩阵来计算相关矩阵（180）。该方法还包括执行第二蚀刻工艺以形成第二记录数据矩阵。分析相关矩阵和第二记录数据矩阵以确定是否已经实现了第二蚀刻工艺的端点。

2. 发明申请

WO2004074952A3 METHOD FOR AUTOMATIC CONFIGURATION OF A PROCESSING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：一种加工系统的自动配置方法
公开(公告)号：WO2004074952A3
公开(公告)日：2005-02-24
申请号：PCT/US2004004175
申请日：2004-02-12
申请人： TOKYO ELECTRON LTD , LAM HIEU A , CHAMNESS KEVIN ANDREW , YUE HONGYU , FATKE DAVID , HARADA SATOSHI , HUME EDWARD CARL III , WILLIS JAMES EDWARD
发明人： LAM HIEU A , CHAMNESS KEVIN ANDREW , YUE HONGYU , FATKE DAVID , HARADA SATOSHI , HUME EDWARD CARL III , WILLIS JAMES EDWARD
IPC分类号： G05B19/418 , G06F19/00 , H01L21/66
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B19/41845 , G05B2219/31334 , G05B2219/32191 , G05B2219/45031 , Y02P90/16 , Y02P90/185 , Y02P90/20 , Y02P90/22 , Y02P90/86
摘要： A method of automatically configuring an Advanced Process Control (APC) system for a semiconductor manufacturing environment in which an auto-configuration script is generated for executing an auto-configuration program. The auto-configuration script activates default values for input to the auto-configuration program. The auto-configuration script is executed to generate an enabled parameter file output from the auto-configuration program. The enabled parameter file identifies parameters for statistical process control (SPC) chart generation.
摘要翻译：一种自动配置用于半导体制造环境的高级过程控制（APC）系统的方法，其中生成用于执行自动配置程序的自动配置脚本。自动配置脚本激活自动配置程序输入的默认值。执行自动配置脚本以生成从自动配置程序输出的启用参数文件。启用的参数文件识别统计过程控制（SPC）图生成的参数。

3. 发明授权

US2709022A Paint can cover 失效
标题翻译：油漆可以覆盖
公开(公告)号：US2709022A
公开(公告)日：1955-05-24
申请号：US35684253
申请日：1953-05-22
申请人： FATKE DAVID F
发明人： FATKE DAVID F
IPC分类号： B44D3/12
CPC分类号： B44D3/128

4. 发明申请

WO2004074952A2 METHOD FOR AUTOMATIC CONFIGURATION OF A PROCESSING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：自动配置加工系统的方法
公开(公告)号：WO2004074952A2
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：PCT/US2004/004175
申请日：2004-02-12
申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED , LAM, Hieu, A. , CHAMNESS, Kevin, Andrew , YUE, Hongyu , FATKE, David , HARADA, Satoshi , HUME, Edward, Carl, III. , WILLIS, James, Edward
发明人： LAM, Hieu, A. , CHAMNESS, Kevin, Andrew , YUE, Hongyu , FATKE, David , HARADA, Satoshi , HUME, Edward, Carl, III. , WILLIS, James, Edward
IPC分类号： G05B19/4093
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B19/41845 , G05B2219/31334 , G05B2219/32191 , G05B2219/45031 , Y02P90/16 , Y02P90/185 , Y02P90/20 , Y02P90/22 , Y02P90/86
摘要： A method of automatically configuring an Advanced Process Control (APC) system for a semiconductor manufacturing environment in which an auto-configuration script is generated for executing an auto-configuration program. The auto-configuration script activates default values for input to the auto-configuration program. The auto-configuration script is executed to generate an enabled parameter file output from the auto-configuration program. The enabled parameter file identifies parameters for statistical process control (SPC) chart generation.
摘要翻译：一种自动配置用于半导体制造环境的高级过程控制（APC）系统的方法，其中生成用于执行自动配置程序的自动配置脚本。自动配置脚本激活自动配置程序输入的默认值。执行自动配置脚本以生成从自动配置程序输出的已启用参数文件。启用的参数文件标识统计过程控制（SPC）图生成的参数。

5. 发明申请

WO2002077589A2 METHOD AND APPARATUS FOR ENDPOINT DETECTION USING PARTIAL LEAST SQUARES 审中-公开
标题翻译：使用部分最小二乘法进行端点检测的方法和装置
公开(公告)号：WO2002077589A2
公开(公告)日：2002-10-03
申请号：PCT/US2002/009073
申请日：2002-03-25
申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED , FATKE, David , YUE, Hongyu
发明人： FATKE, David , YUE, Hongyu
IPC分类号： G01J
CPC分类号： H01L22/20 , H01J37/32935 , H01J37/32963 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： An apparatus and method for detection of a feature etch completion within an etching reactor. The method includes determining a correlation matrix by recording first measured data regarding a first etch process over successive time intervals to form a first recorded data matrix, assembling a first endpoint signal matrix using target endpoint data for a specific etch process, performing a partial least squares analysis on the recorded data matrix and the first endpoint signal matrix to refine the recorded data matrix, and computing a correlation matrix based upon the refined recorded data matrix and the first endpoint signal matrix. The method further includes performing a second etch process to form a second recorded data matrix. The correlation matrix and the second recorded data matrix are analyzed to determine whether an endpoint of the second etch process has been achieved.
摘要翻译：用于检测蚀刻反应器内的特征蚀刻完成的装置和方法。该方法包括通过在连续时间间隔上记录关于第一蚀刻处理的第一测量数据来形成相关矩阵以形成第一记录数据矩阵，使用用于特定蚀刻工艺的目标端点数据组装第一端点信号矩阵，执行偏最小二乘法对所记录的数据矩阵和第一端点信号矩阵进行分析以细化记录的数据矩阵，以及基于精细记录的数据矩阵和第一端点信号矩阵来计算相关矩阵。该方法还包括执行第二蚀刻工艺以形成第二记录数据矩阵。分析相关矩阵和第二记录数据矩阵以确定是否已经实现了第二蚀刻工艺的端点。

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