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1. 发明公开

KR20180072799A 광학 시스템용 제어기 审中-公开
公开(公告)号：KR20180072799A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：KR20187014584
申请日：2016-10-20
申请人： CYMER LLC
发明人： AGGARWAL TANUJ
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70041 , G03F7/70558
摘要： 리소그래피시스템은, 펄스형광 빔을방출하도록구성되는광학소스; 광학시스템을포함하는리소그래피장치로서, 상기광학시스템은상기광학시스템의제 1 측에서상기광학소스로부터상기펄스형광 빔을수광하고, 상기펄스형광 빔을상기광학시스템의제 2 측에서방출하도록위치되는, 리소그래피장치; 및상기광학소스및 광학리소그래피장치에커플링된제어시스템을포함하고, 상기제어시스템은, 상기광학시스템의제 2 측에서상기펄스형광 빔내의에너지량의표시를수신하고, 에너지오차를결정하며, 상기광학소스와연관된초기제어시퀀스에액세스하고, 결정된에너지오차및 상기초기제어시퀀스에기초하여제 2 제어시퀀스를결정하며, 상기제 2 제어시퀀스를상기광학소스에적용하도록구성된다.

2. 发明公开

KR20180006621A 펄스형 광 빔의 스펙트럼 특징 계측 审中-公开
标题翻译：测量脉冲光束的光谱特性
公开(公告)号：KR20180006621A
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：KR20177035969
申请日：2016-05-12
申请人： CYMER LLC
发明人： THORNES JOSHUA JON
IPC分类号： G01J3/26 , G01J3/02 , G01J3/18 , G01J3/28 , G01J9/00
CPC分类号： G01J3/26 , G01J3/027 , G01J3/18 , G01J3/2803 , G01J9/00
摘要： 계측시스템은펄스형광 빔의경로에있고펄스형광 빔과상호작용하며펄스형광 빔의스펙트럼성분에대응하는복수개의공간성분을출력하도록구성되는광학주파수분리장치; 출력공간성분을수광하고감지하는복수개의감지지역; 및각각의감지지역의출력에연결되는제어시스템을포함한다. 제어시스템은: 각각의감지지역출력에대해, 하나이상의펄스에대한광학주파수분리장치로부터의출력공간성분의특성을측정하고; 측정된특성을평균화하여펄스형광 빔의스펙트럼특징의추정치를계산하는것을포함하여, 측정된특성을분석하며; 펄스형광 빔의추정된스펙트럼특징이스펙트럼특징의값의수락가능한범위내에있는지여부를결정하도록구성된다.
摘要翻译：其中计量系统被配置为输出脉冲荧光束的路径中的多个空间分量，空间分量与脉冲荧光束相互作用并对应于脉冲荧光束的光谱分量; 多个用于接收和感测输出空间分量的感测区域; 还有一个控制系统连接到每个感应区域的输出。该控制系统包括：对于每个检测区域输出，测量来自光学分频器的输出空间分量对于一个或多个脉冲的特性; 平均测量的特性以计算脉冲荧光光束的光谱特性的估计值; 并且确定脉冲荧光光束的估计光谱特性是否在光谱特性值的可接受范围内。

3. 发明专利

JP2019091064A ウェーハベースの光源パラメータ制御审中-公开
公开(公告)号：JP2019091064A
公开(公告)日：2019-06-13
申请号：JP2019012713
申请日：2019-01-29
申请人： CYMER LLC
发明人： IVAN LALOVIC , OMAR ZURITA , GREGORY ALLEN RECHTSTEINER , PAOLO ALAGNA , HSIEH WEI-AN , ROSTISLAV ROKITSKI , JIANG RUI , JASON J LEE
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/00
摘要：【課題】ウェーハベースの光源パラメータ制御を提供する。【解決手段】フォトリソグラフィ方法は、光学源に命令してパルス光ビームを発生させることと、リソグラフィ露光装置のウェーハを横断してパルス光ビームをスキャンし、パルス光ビームでウェーハを露光することと、ウェーハを横断するパルス光ビームのスキャンの際にウェーハにおけるパルス光ビームの特性を受信することと;特定のパルス光ビーム特性についてウェーハの物性の決定値を受信することと、スキャンの際に受信したパルス光ビーム特性と物性の受信した決定値とに基づいて、ウェーハを横断するスキャンの際のパルス光ビームの性能パラメータを変更することと、を含む。【選択図】図1

4. 发明专利

JP2014160670A Lpp euv light source drive laser system 审中-公开
标题翻译： LPP EUV光源驱动激光系统
公开(公告)号：JP2014160670A
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：JP2014084934
申请日：2014-04-16
申请人： Cymer LLC , サイマーリミテッドライアビリティカンパニー
发明人： ERSHOV ALEXANDER I , ALEXANDER N BYKANOV , OLEH V KHODYKIN , FOMENKOV IGOR V
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser produced plasma (LPP) extra ultraviolet (EUV) light source.SOLUTION: An apparatus and method is disclosed which may comprise an LPP EUV system which may comprise: a drive laser producing a drive laser beam; a drive laser beam first path having a first axis; a drive laser redirecting mechanism transferring the drive laser beam from the first path to a second path having a second axis; an EUV collector optical element having a centrally located aperture; and a focusing mirror, in the second path, positioned within the aperture and focusing the drive laser beam onto a plasma initiation site located along the second axis. The device and method may comprise that the drive laser beam is produced by the drive laser having a wavelength such that focusing on an EUV target droplet of about 100 μm or less at effective plasma production energy if not practical in the constrains of the geometries involved utilizing a focusing lens.
摘要翻译：要解决的问题：提供激光产生的等离子体（LPP）超紫外（EUV）光源。解决方案：公开了一种可以包括LPP EUV系统的装置和方法，LPP EUV系统可以包括：产生驱动激光束的驱动激光; 具有第一轴线的驱动激光束第一路径; 驱动激光重定向机构，其将所述驱动激光束从所述第一路径传递到具有第二轴线的第二路径; 具有中心定位的孔的EUV收集器光学元件; 以及位于第二路径内的聚焦镜，位于孔内并将驱动激光束聚焦到沿着第二轴定位的等离子体起始位置。该装置和方法可以包括：驱动激光束由具有波长的驱动激光器产生，使得在有效的等离子体产生能量下聚焦在约100μm或更小的EUV靶液滴上，如果在所涉及的几何形状的约束条件下聚焦镜头。

5. 发明专利

JP2013201433A Multi-chambered excimer or molecular fluorine gas discharge laser fluorine injection control 审中-公开
标题翻译：多层离子注射器或分子荧光体排放激光器氟注射控制
公开(公告)号：JP2013201433A
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2013077923
申请日：2013-04-03
申请人： Cymer LLC , サイマーリミテッドライアビリティカンパニー
发明人： HERVE A BESAUCELE , WAYNE J DUNSTAN , ISHIHARA TOSHIHIKO , ROBERT N JACQUES , TRINTCHAWK FEDO B
IPC分类号： H01S3/225 , H01S3/036 , H01S3/131 , H01S3/134 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/225 , H01S3/2316 , H01S3/2366
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multi-chambered excimer or molecular fluorine gas discharge laser system amplified in a master oscillator-power amplifier (MOPA) configuration fluorine injection controller and method.SOLUTION: An embodiment comprises a halogen gas consumption estimator, and a halogen gas injection controller. The halogen gas consumption estimator is configured to: estimate the amount of halogen gas that has been consumed in one of an oscillator chamber and an amplifier chamber on the basis of a first operating parameter of the one of the oscillator chamber and the amplifier chamber and on the basis of the difference in a second operating parameter between the oscillator chamber and the amplifier chamber; estimates the amount of halogen gas that has been consumed in the other of the oscillator chamber and the amplifier chamber on the basis of a third operating parameter of the other of the oscillator chamber and the amplifier chamber; and present the halogen gas consumption amounts. The halogen gas injection controller determines the amount of halogen gas injection for the oscillator chamber and the amplifier chamber on the basis of the output of the estimated fluorine consumption amounts from the fluorine consumption estimator and a cost function including a plurality of weighted injection decision determinations.
摘要翻译：要解决的问题：提供在主振荡器功率放大器（MOPA）配置氟注入控制器和方法中放大的多室准分子或分子氟气放电激光系统。解决方案：一个实施方案包括卤素气体消耗估计器和卤素气体注入控制器。卤素气体消耗估计器被配置为：基于振荡器室和放大器室中的一个的第一操作参数来估计已经在振荡器室和放大器室之一中消耗的卤素气体的量，并且基于振荡器室和放大器室之间的第二操作参数的差异的基础; 基于振荡器室和放大器室中的另一个的第三操作参数来估计在另一个振荡器室和放大器室中消耗的卤素气体的量; 并提供卤素气体消耗量。卤素气体注入控制器基于来自氟消耗量估计器的估计氟消耗量的输出和包括多个加权喷射判定确定的成本函数来确定振荡器室和放大器室的卤素气体注入量。

6. 发明专利

JP2014096610A Very high repetition rate narrow band gas discharge laser system 有权
标题翻译：非常高的重复率窄带带隙放电激光系统
公开(公告)号：JP2014096610A
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：JP2014027965
申请日：2014-02-17
申请人： Cymer LLC , サイマーリミテッドライアビリティカンパニー
发明人： STEIGER THOMAS D , HOLTAWAY EDWARD P , MOOSMAN BRYAN G , RAO RAJASEKHAR M
IPC分类号： H01S3/104 , H01S3/00 , H01S3/038 , H01S3/097 , H01S3/10 , H01S3/13 , H01S3/22 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0057 , H01S3/07 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/2333
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas discharge laser used for supplying narrow band light for integrated circuit lithography application.SOLUTION: A method and apparatus for producing a very high repetition rate gas discharge laser system in a MOPA configuration is disclosed which may comprise: a master oscillator gas discharge laser system producing a beam of oscillator laser output light pulses at a very high pulse repetition rate; and at least two power amplification gas discharge laser systems receiving laser output light pulses from the master oscillator gas discharge laser system, each of the at least two power amplification gas discharge layer systems amplifying some of the received laser output light pulses at a pulse repetition that is a fraction of the very high pulse repetition rate equal to one over the number of the at least two power amplification gas discharge laser systems to form an amplified output laser light pulse beam at the very high pulse repetition rate, which may be positioned in series with respect to the oscillator laser output light pulse beam.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于为集成电路光刻应用提供窄带光的气体放电激光器。公开了一种用于产生MOPA配置的非常高重复率气体放电激光器系统的方法和装置，其可以包括：主振荡器气体放电激光系统以非常高的脉冲重复频率产生振荡器激光输出光脉冲束; 以及至少两个功率放大气体放电激光器系统，其从所述主振荡器气体放电激光系统接收激光输出光脉冲，所述至少两个功率放大气体放电层系统中的每一个以脉冲重复放大所接收的激光输出光脉冲中的一些，是等于至少两个功率放大气体放电激光器系统的数量之一的非常高的脉冲重复率的一部分，以形成非常高的脉冲重复频率的放大的输出激光脉冲束，其可以被串联相对于振荡器激光输出光脉冲光束。

7. 发明专利

TWI683490B 用於兩腔室氣體放電雷射系統中之自動氣體最佳化之系統及方法有权
简体标题：用于两腔室气体放电激光系统中之自动气体最优化之系统及方法
公开(公告)号：TWI683490B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW104124758
申请日：2015-07-30
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文 , O'BRIEN, KEVIN , 索恩斯約書亞 , THORNES, JOSHUA , 伯瑞洛麥可 , BORRELLO, MICHAEL
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/134

8. 发明专利

TW201947266A 控制光學系統之方法审中-公开
简体标题：控制光学系统之方法
公开(公告)号：TW201947266A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108136059
申请日：2017-08-04
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：畢比湯瑪士費德列克艾倫二世 , BIBBY, THOMAS FREDERICK ALLEN JR , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G02B6/43 , G02F1/025
摘要：用於控制一光學系統之技術包括：存取自該光學系統發射之一脈衝式光束之一特定脈衝之一性質的一量測值，該性質與該光束之同調性之一數量有關；比較該光束之該性質的該量測值與該性質的一目標值；基於該比較而判定是否產生一控制信號；以及若基於該比較而產生一控制信號，則藉由基於該控制信號修改該光學系統之一態樣來調整該光束中之同調性之該數量，以減小在該特定脈衝之後的一脈衝之同調性之一數量。
简体摘要：用于控制一光学系统之技术包括：存取自该光学系统发射之一脉冲式光束之一特定脉冲之一性质的一量测值，该性质与该光束之同调性之一数量有关；比较该光束之该性质的该量测值与该性质的一目标值；基于该比较而判定是否产生一控制信号；以及若基于该比较而产生一控制信号，则借由基于该控制信号修改该光学系统之一态样来调整该光束中之同调性之该数量，以减小在该特定脉冲之后的一脉冲之同调性之一数量。

9. 发明专利

TW201903369A 自空間輸出恢復光譜形狀审中-公开
简体标题：自空间输出恢复光谱形状
公开(公告)号：TW201903369A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107111739
申请日：2018-04-03
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：金布萊恩艾德華 , KING, BRIAN EDWARD
IPC分类号： G01J3/45 , G01J3/28
摘要：本發明執行一種用於估計一光束之光譜的方法。該方法包括：將該光束投影至一光譜儀之相異空間區域上，其中每一空間區域接收該光譜之一不同經濾波版本；在該光譜儀之該等相異空間區域中之每一者處偵測該所投影光束之一特性；接收一二維矩陣，其中該矩陣之每一項提供一或多個空間區域與每一光譜特徵之間的一關係，其中該二維矩陣與該光譜儀之輸入-輸出關係相關；及基於使用該等偵測到之光束特性與該接收到之二維矩陣兩者的一分析而估計該光束之該光譜。
简体摘要：本发明运行一种用于估计一光束之光谱的方法。该方法包括：将该光束投影至一光谱仪之相异空间区域上，其中每一空间区域接收该光谱之一不同经滤波版本；在该光谱仪之该等相异空间区域中之每一者处侦测该所投影光束之一特性；接收一二维矩阵，其中该矩阵之每一项提供一或多个空间区域与每一光谱特征之间的一关系，其中该二维矩阵与该光谱仪之输入-输出关系相关；及基于使用该等侦测到之光束特性与该接收到之二维矩阵两者的一分析而估计该光束之该光谱。

10. 发明专利

TWI645451B 脈衝光束的光譜特徵之控制有权
简体标题：脉冲光束的光谱特征之控制
公开(公告)号：TWI645451B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW106135285
申请日：2017-10-16
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：康利維爾拉厄爾 , CONLEY, WILLARD EARL , 梅森艾瑞克安德爾斯 , MASON, ERIC ANDERS , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

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