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1. 发明专利

JP2006216951A System and method for performing imaging emphasizing by calculating customized optimum pupil field and lighting mode 有权
标题翻译：通过计算定制的最佳PUPIL场和照明模式执行成像的系统和方法
公开(公告)号：JP2006216951A
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：JP2006023567
申请日：2006-01-31
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： LATYPOV AZAT M , CEBUHAR WENCESLAO A , HINTERSTEINER JASON D
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and a method that does not limit performance of a dynamic patterning device based upon the restrictions in which generated pattern data are applied to only a static patterning device. SOLUTION: The method comprises steps of: receiving a data set based upon a field distribution on a pupil plane corresponding to an image; generating a corrected data set representing a desired field distribution on the pupil plane by correcting the data set; converting the corrected data set to a state of a pixel positioned by a dynamic pattern generator; setting the state of the pixel of the dynamic pattern generator according to the state determined in the previous step; patterning a radiation beam by the dynamic pattern generator; and projecting the patterned beam on a target part of a substrate. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基于将生成的图案数据仅应用于静态图案形成装置的限制而不限制动态图案形成装置的性能的系统和方法。解决方案：该方法包括以下步骤：基于对应于图像的光瞳平面上的场分布接收数据集; 通过校正所述数据集来生成表示所述瞳孔平面上的期望场分布的校正数据集; 将校正的数据集转换为由动态模式生成器定位的像素的状态; 根据在前一步骤中确定的状态来设置动态模式发生器的像素的状态; 通过动态图案发生器构图辐射束; 并将图案化的光束投影到基板的目标部分上。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

2. 发明专利

JP2006165554A System and method 有权
标题翻译：系统与方法
公开(公告)号：JP2006165554A
公开(公告)日：2006-06-22
申请号：JP2005348134
申请日：2005-12-01
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： RAVAL PANKAJ , AUGUSTYN WALTER H
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7084 , G03F9/7003 , G03F9/7065 , G03F9/7088
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern. SOLUTION: Visible light and infrared light after entering a first alignment pattern and a second alignment pattern are focused on a detector by a focusing device and an object is aligned for the following feature pattern based on the detected first alignment pattern and second alignment pattern. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够测量或检测在形成下一特征图案之前形成的上层和一个或多个层的对准图案的系统和方法。解决方案：进入第一对准图案和第二对准图案之后的可见光和红外光通过聚焦装置聚焦在检测器上，并且基于检测到的第一对准图案和第二对准，物体对准以下特征图案模式。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

3. 发明专利

JP2006511967A Lithographic printing with polarized light 有权
公开(公告)号：JP2006511967A
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：JP2005501718
申请日：2004-02-23
申请人：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人：クロイツァージャスティン , ババ−アリナビラ , セウェルハリー
IPC分类号： H01L21/027 , G03B27/54 , G03B27/72 , G03C5/00 , G03F20060101 , G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B27/28 , G03F7/2006
摘要：本発明は偏光された光による改善されたリソグラフィ印刷のためのシステムおよび方法を提供する。本発明の実施形態では、偏光された光（放射状または接線方向に偏光された）が位相シフトマスク（ＰＳＭ）を照射し、露光ビームを形成するのに用いられる。その後、ネガティブなホトレジスト層が露光ビーム中の光によって露光される。クロムレスＰＳＭを使用することもできる。本発明の別の実施形態では、放射状に偏光された光がマスクを照射し、露光ビームを形成するのに用いられる。その後、ポジティブなホトレジスト層が露光ビーム中の光によって露光される。このマスクは、ハーフトーン型ＰＳＭまたはバナリーマスクでもよい。低いｋを使用して可変ピッチでコンタクトホールを印刷する場合にも、非常に高いイメージクオリティが得られる。

5. 发明专利

JP2006165547A Optical patterning method and optical patterning system 有权
标题翻译：光学图案和光学绘图系统
公开(公告)号：JP2006165547A
公开(公告)日：2006-06-22
申请号：JP2005346834
申请日：2005-11-30
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： LATYPOV AZAT M , BLEEKER ARNO JAN , CHEN JANG FUNG , TROOST KARS ZEGER
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70441 , G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To take a format of a dynamic patterning device into consideration in such a manner that pattern data is not restricted by a parameter which is necessary in a static patterning device environment, and unnecessary in a dynamic patterning device environment in a system and method for generating patterning data used by the dynamic patterning device.
SOLUTION: The method and system are characterized in that (a) a pattern data set based on a reticle pattern is received, in that (b) the pattern data set is modified by a parameter corresponding to the format of dynamic pattern generator used for a patterning of radiation beam, in that (c) a pattern is formed by the dynamic pattern generator using a modified pattern data set, in that (d) the radiation beam is patternized by the dynamic pattern generator having the pattern generated in the above-mentioned step (c), and in that (e) a patternized beam is projected to a target portion of object.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：考虑到以图案数据不受静态图案形成装置环境中所需的参数的限制，并且在动态图案形成装置环境中不必要的方式来考虑动态图案形成装置的格式在用于产生由动态图案形成装置使用的图案形成数据的系统和方法中。方法和系统的特征在于：（a）接收基于标线图案的图案数据集，其中（b）通过与动态图案生成器的格式对应的参数来修改图案数据集用于辐射束的图案化，其中（c）由动态图案发生器使用修改的图案数据集形成图案，其中（d）辐射束被动态图案生成器图案化，其具有在上述步骤（c），并且（e）将图案化的光束投射到物体的目标部分。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

6. 发明专利

JP2006140504A Active faceted mirror system for lithography 有权
标题翻译：主动面向镜像系统
公开(公告)号：JP2006140504A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：JP2005328740
申请日：2005-11-14
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： LOOPSTRA ERIK , ROUX STEPHEN
IPC分类号： H01L21/027 , G02B17/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0977 , G02B7/1827 , G02B27/0905 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70291
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active faceted mirror system for use in a lithography system which can be adjusted with good cost efficiency to meet a variety of lithography manufacturing demands. SOLUTION: The active faceted mirror system includes a set of active facet mirror devices, a base plate 205, and a set of pins 340. Each of the active facet mirror devices includes a mirror substrate 310 with a reflective surface, a bearing hole 330, actuator targets 315, a jewel bearing 335, and a flexure 320 for supporting the mirror substrate. A set of facet controllers control the positioning of the active facet mirror devices to produce a desired illumination effect. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于光刻系统的主动刻面镜系统，其可以以良好的成本效率调节以满足各种光刻制造需求。主动分面反射镜系统包括一组有源分面镜装置，底板205和一组销340.活性刻面镜装置中的每一个包括具有反射表面的反射镜基板310，轴承孔330，致动器目标315，宝石轴承335和用于支撑镜面基板的挠曲件320。一组小面控制器控制有源分面镜装置的定位以产生期望的照明效果。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

7. 发明专利

JP2006135332A Lithography system and device manufacturing method 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHY系统和器件制造方法
公开(公告)号：JP2006135332A
公开(公告)日：2006-05-25
申请号：JP2005321293
申请日：2005-11-04
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： LIPSON MATTHEW , LATYPOV AZAT M
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70283
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and a method in which the optical performance of a mask-less lithography system is improved. SOLUTION: The lithography system 1 comprises an illumination system IL that supplies radiation beams and a projection system PS. The projection system PS comprises an optical system and a patterning device PD located at a pupil plane. The patterning device PD patterns the radiation beams and the optical system projects the patterned radiation beams onto the target of a substrate W. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：解决的问题：提供一种提高无掩模光刻系统的光学性能的系统和方法。解决方案：光刻系统1包括提供辐射束的照明系统IL和投影系统PS。投影系统PS包括位于光瞳平面处的光学系统和图案形成装置PD。图案形成装置PD对辐射束进行成像，并且光学系统将图案化的辐射束投射到衬底W的靶上。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

8. 发明专利

JP2006126838A System and method for utilizing electrooptic modulator 有权
标题翻译：利用电化学调节剂的系统和方法
公开(公告)号：JP2006126838A
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：JP2005310111
申请日：2005-10-25
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： TSACOYEANES JAMES G , GOVIL PRADEEP K
IPC分类号： G02F1/03
CPC分类号： G02F1/3551 , G02F1/0018 , G03F7/70141 , G03F7/70258
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and method utilizing an electrooptic modulator capable of transmitting a radiation beam at a desired wavelength with little or not absorption or attenuation or with the attenuation within a desired permissible range. SOLUTION: The system and method have an optical element and an electrical field generator. The electrical field generator generates an electrical field to be applied to the optical element and an index of refraction is changed in at least one direction within the optical element by the applied electrical field. The optical element is formed to exhibit characteristics, such that all the beams of radiation having wavelength above 155 nanometers are transmitted through the optical element. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种使用电光调制器的系统和方法，该电光调制器能够以很少或不吸收或衰减或衰减在期望的允许范围内以期望的波长传输辐射束。解决方案：该系统和方法具有光学元件和电场发生器。电场发生器产生要施加到光学元件的电场，并且通过施加的电场在光学元件内的至少一个方向上改变折射率。光学元件被形成为具有如下特征，使得具有155纳米以上的波长的所有辐射束通过光学元件透射。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

9. 发明专利

JP2006514441A Aberration measuring method and apparatus of the reflection type diffraction element is adjusted for Euv lithography system 有权
$Aberration measuring method and apparatus of the reflection type diffraction element is adjusted for Euv lithography system$
公开(公告)号：JP2006514441A
公开(公告)日：2006-04-27
申请号：JP2005507696
申请日：2004-01-14
申请人：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人：ケイプルトニーシャーマン
IPC分类号： H01L21/027 , G01J9/02 , G01M11/02 , G02B5/18 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G01J9/0215 , G02B5/1838
摘要：本発明は、電磁放射源を有する波面測定システムから成る。結像系は電磁放射を対物面へ配向し、これを均一に照明する。第１の格子は対物面内に配置されており、投影光学系の入射瞳面に達する照明光が調整される。投影光学系は第１の格子の像を焦点面へ投影する。第２の格子は放射源の回折像を受け取る焦点面に配置されており、シアリング干渉計を形成している。ＣＣＤ検出器は投影光学系および第２の格子を介して第１の格子の像を受け取り、投影光学系に収差があるときには干渉縞を形成する。干渉縞の位相シフトは第１の格子をラテラル方向へステップ運動させ、各フレームをＣＣＤ検出器で検出することにより読み出される。第１の格子は複数の反射ドットから成る複数の反射線を含む。

10. 发明专利

JP2006105991A System and method for measuring refractive index 有权
$System and method for measuring refractive index$
标题翻译：用于测量折射率的系统和方法
公开(公告)号：JP2006105991A
公开(公告)日：2006-04-20
申请号：JP2005287120
申请日：2005-09-30
申请人： Asml Holding Nv , エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップASML Holding N.V.
发明人： DOWNEY TODD R
IPC分类号： G01N21/27
CPC分类号： G01N21/553 , G01N21/431
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and a method for measuring refractive index of a sample, using surface plasmon resonance.
SOLUTION: This system comprises a light emitting diode; a 1st reference fiber which receives beam from the light-emitting diode and not to be in contact with the sample; a sensing fiber; an additional reference fiber; a 1st detector for sensing outputs from both the 1st reference fiber and the additional reference fiber; and a 2nd detector for sensing output from the sensing fiber. Each fiber of the sensing fiber has a plasmon sensor of differential shape each other, contacts the sample, and receives beam from the light-emitting diode. Each fiber of the additional reference fiber has a plasmon sensor of the shape, suitable for the one associated with the sensing fiber, and each additional reference fiber receives beam from this light-emitting diode. Any additional reference fiber will not contact the sample.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供使用表面等离子体共振来测量样品的折射率的系统和方法。解决方案：该系统包括发光二极管; 第一参考光纤，其从发光二极管接收光束并且不与样品接触; 传感纤维; 额外的参考光纤; 用于感测来自第一参考光纤和附加参考光纤的输出的第一检测器; 以及用于感测来自感测光纤的输出的第二检测器。传感光纤的每个光纤具有彼此差分形状的等离子体传感器，与样品接触并接收来自发光二极管的光束。附加参考光纤的每个光纤具有形状的等离子体传感器，适合于与感测光纤相关的等离子体传感器，并且每个附加参考光纤从该发光二极管接收光束。任何额外的参考光纤将不接触样品。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

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