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    • 8. 发明授权
    • 기판처리장치
    • 基板处理设备
    • KR101534517B1
    • 2015-07-07
    • KR1020090106785
    • 2009-11-06
    • 주식회사 원익홀딩스
    • 위규용
    • H01L21/205H01L21/3065
    • 본발명은기판처리장치에관한것으로서, 상세하게는기판의표면을증착, 식각하는등 기판에대한처리공정을수행하는기판처리장치에관한것이다. 본발명은기판을지지하는기판지지대가설치되며상측에개구가형성된챔버본체와; 상기챔버본체의개구에결합되어상기처리공간내로가스를분사하는샤워헤드조립체를포함하는기판처리장치로서, 상기샤워헤드조립체는상기챔버본체의개구에결합되며하나이상의가스주입구가형성된탑플레이트와; 다수개의분사구들이상하로관통형성되며상기탑플레이트의저면에간격을두고결합되는제1플레이트와; 다수개의분사구들이상하로관통형성되며상기제1플레이트와간격을두고설치되는제2플레이트를포함하며, 상기제1플레이트및 상기제2플레이트중 적어도어느하나는상기탑플레이트에복수개의제1지지볼트들에의하여결합될수 있도록복수개의고정결합공들이형성되며, 상기고정결합공들은상기제1지지볼트가상기제1플레이트또는상기제2플레이트의중심을기준으로상기제1플레이트또는상기제2플레이트에대하여상대이동이가능하도록형성된것을특징으로하는기판처리장치를개시한다.
    • 本发明涉及一种基板处理装置,尤其涉及用于在基板上执行的处理过程中,诸如沉积,蚀刻所述衬底的所述表面的基板处理装置。 本发明提供一种等离子体处理装置,其特征在于,具备:腔室主体,其具有用于支撑基板的基板支撑体,在其上侧形成有开口部; 耦接至该腔室主体的开口中,包括用于将气体注入所述处理空间中的喷头组件的基板处理装置,和该喷头组件被联接到所述腔室主体的开口,所述顶板是形成至少一个气体喷射口; 第一板,其具有多个注入开口,所述注入开口垂直地形成并间隔地连接至顶板的底表面; 其中,第一板和第二板中的至少一个包括多个第一支撑螺栓和多个第一支撑螺栓, 其中第一固定螺栓和第二固定螺栓相对于第一支撑螺栓虚拟板或第二板的中心固定到第一板或第二板, 所以相对运动是可能的。