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    • 1. 发明申请
    • アクリルアミド誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物
    • 丙烯酰胺衍生物,聚合物化合物和光电组合物
    • WO2012043102A1
    • 2012-04-05
    • PCT/JP2011/069213
    • 2011-08-25
    • 株式会社クラレ荒谷 一弘福本 隆司
    • 荒谷 一弘福本 隆司
    • C08F20/56C07D307/93C07D327/04C07D493/18C07D497/18G03F7/039H01L21/027
    • G03F7/004C07D307/93C07D327/04C07D493/18C07D497/18C08F20/56G03F7/0397
    •  フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位となり得るアクリル酸アミド誘導体、該アクリル酸アミド誘導体を含有する原料を重合することにより得られる高分子化合物、および該高分子化合物を含有する、従来よりもLWRが改善されて高解像度のレジストパターンが形成されたフォトレジスト組成物を提供する。具体的には、下記一般式(1) {式中、R 1 は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Wは、炭素数1~10のアルキレン基または炭素数3~10のシクロアルキレン基を表す。R 2 は、下記一般式(2) (式中、Xは、酸素原子、または>N-R 3 を表し、R 3 は、水素原子または炭素数1~5のアルキル基を表す。Yは、>C=Oまたは>S(=O)nを表し、nは、0~2の整数を表す。)で表される環形成原子数3~20の環状基を示す。}で表されるアクリルアミド誘導体を提供する。
    • 提供可以作为光致抗蚀剂组合物中包含的高分子化合物的结构单元的丙烯酰胺衍生物,通过聚合含有所述丙烯酰胺衍生物的原料而获得的高分子化合物和含有所述LWR已经被加入的所述高分子化合物的光致抗蚀剂组合物 改进了以前的抗蚀剂,并且已经形成了高分辨率抗蚀剂图案。 具体地,提供由式(1)表示的丙烯酰胺衍生物。 (1)[式中,R 1表示氢原子,甲基或三氟甲基。 W表示C1-10亚烷基或C3-10亚环烷基。 R 2表示由式(2)表示的具有3〜20个成环原子的环状基团。 (2)(式中,X表示氧原子或> N-R3,R3表示氢原子或C1-5烷基,Y表示> C = O或> S(= O)n,n表示 0-2的整数)]。