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    • 5. 发明申请
    • AlN結晶の製造方法
    • 生产AlN水晶的工艺
    • WO2008029827A1
    • 2008-03-13
    • PCT/JP2007/067265
    • 2007-09-05
    • タマティーエルオー株式会社大塚 寛治清宮 義博高木 健児杉田 薫
    • 大塚 寛治清宮 義博高木 健児杉田 薫
    • C30B29/38C01B21/072C30B15/02
    • C30B15/36C01B21/0722C30B15/00C30B29/403
    •  新規なAlN結晶の製造方法を提供する。本発明に係るAlN結晶の製造方法は、窒素雰囲気下に位置している溶融Al2に種結晶4を接触させ、種結晶4と溶融Al2の界面に、窒化物の生成自由エネルギーがAlより小さい元素(例えばB、Ca、又はSi)を供給し、この元素を触媒として溶融Al2に溶解した窒素と溶融Al2を反応させることにより、種結晶4にAlN結晶を成長させるものである。窒素雰囲気を4気圧以上にするのが好ましい。また溶融Al2と種結晶4の界面の温度を800°C以上にするのが好ましい。窒素雰囲気に、触媒となる元素を含む化合物の気体を混入させ、この気体を溶融Al2に溶かし込むことにより、触媒となる元素を種結晶4と溶融Al2の界面に供給してもよい。
    • 一种生产AlN晶体的新方法。 AlN晶体生产的方法包括使晶种(4)与位于含氮气氛中的熔融铝(2)接触,向晶种(4)和熔融铝(2)之间的界面供应具有 与铝(例如硼,钙或硅)相比,氮化物形成的自由能较小,并且使用该元素作为催化剂将溶解在熔融铝(2)中的氮与熔融铝(2)反应,以在Al 晶种(4)。 优选将氮气调节至4atm以上的压力。 熔融铝(2)和晶种(4)之间的界面的温度优选调节至800℃以上。 作为催化剂的元素可以通过将含有作为催化剂的元素的化合物的气体并入含氮气氛中而将其供应到晶种(4)和熔融铝(2)之间的界面,并将该气体溶解在 熔融铝(2)。
    • 10. 发明申请
    • キャパシタ型蓄電池
    • 电容存储单元
    • WO2009116668A1
    • 2009-09-24
    • PCT/JP2009/055697
    • 2009-03-23
    • 学校法人明星学苑古河電気工業株式会社大塚 寛治秋山 豊橋本 薫石渡 伸一服部 聡
    • 大塚 寛治秋山 豊橋本 薫石渡 伸一服部 聡
    • H01G4/12H01G4/33
    • H01G9/048H01G9/008H01G9/14
    •  本発明のキャパシタ型蓄電池は、第1導電膜又は第1半導体膜12と第1絶縁膜13とを積層する第1積層膜10を備え、第1積層膜10における第1絶縁膜13上で第1積層膜10の長尺方向に延在する第1導電路21と、第1絶縁膜13上で第1積層膜10の長尺方向に延在し第1導電路21に平行に設けられた第2導電路22とを備え、第1導電路21及び前記第2導電路22の外面上に第2絶縁膜31を備える。第1導電路21の外面上に設けた第2絶縁膜31と第2導電路22の外面上に設けた第2絶縁膜31とは連続していてもよい。連続してなる第2絶縁膜31は、第1絶縁膜上に、第1導電路及び第2導電路を覆うように設けられていても、第1積層膜に対向して設けられて、第1絶縁膜、第2絶縁膜、第1導電路及び第2導電路によって形成された空隙に第1絶縁物を充填してもよい。
    • 电容式存储单元设置有第一层叠膜(10),其中第一导电膜或第一半导体膜(12)和第一绝缘膜(13)层压; 在第一层叠膜(10)中的第一绝缘膜(13)上沿第一层压膜(10)的长度方向延伸的第一导电路径(21); 在第一绝缘膜(13)上沿第一层叠膜(10)的长度方向与第一导电路径(21)平行延伸的第二导电路径(22); 以及在第一导电路径(21)和第二导电路径(22)的外表面上的第二绝缘膜(31)。 布置在第一导电路径(21)的外表面上的第二绝缘膜(31)和布置在第二导电路径(22)的外表面上的第二绝缘膜(31)可以是连续的。 连续的第二绝缘膜(31)可以布置在第一绝缘膜上以覆盖第一导电路径,并且第二导电路径或连续的第二绝缘膜可以布置成面对第一层压膜,由第一绝缘膜形成的空间 绝缘膜,第二绝缘膜,第一导电路径和第二导电路径填充有第一绝缘材料。