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1. 发明专利

JP2013209697A6 JP2013209697A6 - Film forming apparatus and a film forming method 失效
公开(公告)号：JP2013209697A6
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：JP2012079800A
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 三星ディスプレイ株式会社
发明人：健太郎鯉川 , 孝一柳澤 , 英昭小島 , 信弘韮沢 , 賢治弓場 , 載勳鄭 , 相雨李
摘要：【課題】有機ＥＬデバイスの蒸着膜を形成する際に、不要な斜面状の膜が生じないように、マスクと基板との間の隙間を無くしてマスクと基板とを密着させる。
【解決手段】成膜装置は、真空チャンバ内に搬入された有機ＥＬデバイス用基板にマスクを介して蒸着源から噴射される蒸着物質を成膜する。基板を垂直に保持する基板支持手段の基板に対向する表面を、基板側に凸の曲面で構成した。
【選択図】図１

2. 发明专利

JP2013211137A Vacuum evaporation method and apparatus of the same 审中-公开
标题翻译：真空蒸发方法及其设备
公开(公告)号：JP2013211137A
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：JP2012079798
申请日：2012-03-30
申请人： Samsung Display Co Ltd , 三星ディスプレイ株式会社
发明人： WAKABAYASHI MASA , ASADA MIKIO , CHENG JAE HUN , LEE SANG-WOO
IPC分类号： H05B33/10 , C23C14/24 , H01L51/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum evaporation apparatus of an organic EL device which improves the usage efficiency of a vapor deposition material in vapor deposition, and to provide a method of the vacuum evaporation apparatus.SOLUTION: In a vacuum evaporation apparatus of the organic EL device, in order to prevent radiant heat from a heater of an evaporation source from directly overheating a shadow mask, a water-cooling type cooling plate is provided between the heater and the shadow mask thereby narrowing a distance between the evaporation source and the shadow mask compared to a conventional vacuum evaporation apparatus. This structure increases a percentage of the organic EL material used for deposition on the substrate in the evaporated organic EL device thereby improving the usage efficiency of the vapor deposition material.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种有机EL装置的真空蒸发装置，其提高蒸镀材料中的蒸镀材料的使用效率，提供真空蒸发装置的方法。解决方案：在真空蒸镀装置有机EL器件，为了防止来自蒸发源的加热器的辐射热直接使荫罩过热，在加热器和荫罩之间设置水冷式冷却板，从而使蒸发源与阴罩之间的距离变窄荫罩相比传统的真空蒸发装置。这种结构增加了蒸发的有机EL器件中用于沉积在衬底上的有机EL材料的百分比，从而提高了蒸镀材料的使用效率。

3. 发明专利

JP2013211137A6 JP2013211137A6 - Vacuum deposition method and apparatus 失效
公开(公告)号：JP2013211137A6
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：JP2012079798A
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 三星ディスプレイ株式会社
发明人：雅若林 , 幹夫浅田 , 載勳鄭 , 相雨李
摘要：【課題】真空蒸着における蒸着材料の利用効率を高めた有機ＥＬデバイスの真空蒸着装置及びその方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの真空蒸着装置において、蒸発源のヒータからの輻射熱が直接シャドウマスクを過熱するのを防止するために、水冷式の冷却板をヒータとシャドウマスクとの間に設けることにより、蒸着源とシャドウマスクとの間隔を従来に比べて狭めることを可能にして、蒸発させた有機ＥＬ材料のうち基板上への成膜に使用される割合を高めて蒸着材料の利用効率を高めた。
【選択図】図５Ａ

4. 发明专利

JP2013209697A Film deposition apparatus and film deposition method 审中-公开
标题翻译：膜沉积装置和膜沉积方法
公开(公告)号：JP2013209697A
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：JP2012079800
申请日：2012-03-30
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ , Samsung Display Co Ltd , 三星ディスプレイ株式会社
发明人： KOIKAWA KENTARO , YANAGISAWA KOICHI , KOJIMA HIDEAKI , NIRASAWA NOBUHIRO , YUMIBA KENJI , JUNG JAE HOON , LEE SANG-WOO
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To bring a mask into close contact with a substrate by eliminating a gap between the mask and the substrate so as to prevent occurrence of an unnecessary bevel-like film when the vapor deposition film of an organic EL device is formed.SOLUTION: A film deposition apparatus deposits the film of a vapor-deposition substance which is injected from a vapor deposition source through a mask, on a substrate for an organic EL device carried into a vacuum chamber. A surface opposing to the substrate of a substrate supporting means supporting the substrate perpendicularly is constituted of a curved surface projected toward the substrate side.
摘要翻译：要解决的问题：通过消除掩模和基板之间的间隙来使掩模与基板紧密接触，以便当形成有机EL器件的气相沉积膜时，防止出现不必要的斜面状膜。解决方案：一种成膜装置将通过掩模从气相沉积源注入的气相沉积物质的膜沉积在携带到真空室中的有机EL器件的基板上。与支撑基板的基板的基板垂直地支撑的表面由朝向基板侧突出的弯曲表面构成。

5. 发明专利

JP2013209696A Vacuum deposition device and vapor deposition source of the same 审中-公开
标题翻译：真空沉积装置和蒸气沉积源
公开(公告)号：JP2013209696A
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：JP2012079799
申请日：2012-03-30
申请人： Samsung Display Co Ltd , 三星ディスプレイ株式会社
发明人： IZAKI MAKOTO , TAKEI TETSUYA , KITANI YUKA , JUNG JAE HOON , LEE SANG-WOO
IPC分类号： C23C14/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition source which suppresses a film in a slope state generated when forming a vapor deposition film in a vacuum deposition device.SOLUTION: In a vacuum deposition device, a vapor deposition film with a predetermined pattern is formed on a substrate via a mask. A vapor deposition source is arranged opposite to the substrate. The vapor deposition source includes a crucible, and a plurality of injection nozzles 33 which introduce a vaporized material contained in the crucible to the substrate. The injection nozzles are aligned. An upper diffusion prevention plate 31 and a lower diffusion prevention plate 32 are arranged on both sides of the row of the injection nozzles, and side diffusion prevention plates 34 are arranged between the respective injection nozzles. The vapor deposition source is moved in the vertical direction by a moving means.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种蒸镀源，其抑制在真空蒸镀装置中形成蒸镀膜时产生的倾斜状态的膜。解决方案：在真空蒸镀装置中，形成具有规定图案的蒸镀膜通过掩模在衬底上。蒸镀源与衬底相对配置。气相沉积源包括坩埚和将坩埚中包含的汽化材料引入基板的多个喷嘴33。注射喷嘴对齐。在喷射喷嘴列的两侧设置有上部扩散防止板31和下部扩散防止板32，在各喷射喷嘴之间配置有防侧壁扩散板34。气相沉积源通过移动装置在垂直方向上移动。

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