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1. 发明申请

WO2022118647A1 光周波数コム装置および計測装置审中-公开
公开(公告)号：WO2022118647A1
公开(公告)日：2022-06-09
申请号：PCT/JP2021/041937
申请日：2021-11-15
申请人：パナソニックホールディングス株式会社 , ユニフェルジテイト・ヘント , アイメック・ヴェーゼットウェー
发明人：中村　將 , 稲田　安寿 , チェルマン　ヨン , クイケン　バート , ガッセ　キャスパー　ヴァン , ヘルマンス　アルトゥール
IPC分类号： H01S5/125 , G01S17/34 , G02F1/015 , G02F1/025 , G02F2/00
摘要：光周波数コム装置（１０Ａ）は、光導波路（１３ｗ）と、光導波路（１３ｗ）の第１位置に設けられたミラー（１３ｍ１）と、光導波路（１３ｗ）の、第１位置とは異なる第２位置に設けられたミラー（１３ｍ２）と、ミラー（１３ｍ１）とミラー（１３ｍ２）との間に設けられたゲイン媒質（１３ｇ）および可飽和吸収体（１３ｓａ）と、光導波路（１３ｗ）の端部から出力される光周波数コムの繰り返し周波数およびキャリアエンベロープオフセット周波数の一方を固定し、かつ、他方を変化させる制御部と、を備える。

2. 发明专利

JP2012092366A Method of electrodepositing copper 审中-公开
标题翻译：电沉积铜的方法
公开(公告)号：JP2012092366A
公开(公告)日：2012-05-17
申请号：JP2010238428
申请日：2010-10-25
申请人： Imec , Univ Gent , アイメックImec , ユニフェルジテイト・ヘントUniversiteit Gent
发明人： VEREECKEN PHILIPPE M , ATANASOVA TANYA A , NAGAR MARGALIT , RADISIC ALEKSANDER
IPC分类号： C25D7/12 , C25D3/38 , H01L21/288 , H01L21/3205 , H01L23/52
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrodeposition method for filling an opening such as a trench or a via having a width smaller than about 100 nm, preferably about 70 nm, more preferably about 50 nm, and further preferably about 35 nm specifically in the field of manufacturing a semiconductor integrated circuit (IC) device.SOLUTION: Copper deposition is electrodeposited by immersing a substrate into an electrodeposition bath having a copper ion concentration between 0.5 mmol land 50 mmol land an acid concentration between 0.05% and 10% per volume of the electrodeposition bath.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于填充宽度小于约100nm，优选约70nm，更优选约50nm，更优选约35nm的宽度的沟槽或通孔的开孔的电沉积方法具体地在制造半导体集成电路（IC）装置领域。
解决方案：通过将基底浸入电沉积浴中电沉积铜沉积，其中铜沉积浴的铜离子浓度为0.5 mmol / L，50 mmol l SP SP =“POST” “> -1

3. 发明专利

JP2011192826A All-optical 2r regeneration 有权
标题翻译：全光2R再生
公开(公告)号：JP2011192826A
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010058091
申请日：2010-03-15
申请人： Imec , Univ Gent , アイメックImec , ユニフェルジテイト・ヘントUniversiteit Gent
发明人： MORTHIER GEERT , HUYBRECHTS KOEN
IPC分类号： H01S5/50 , H01S5/125
CPC分类号： H01S5/5063 , H01S5/06209 , H01S5/0658 , H01S5/12 , H01S5/4025 , H04B10/299
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a signal regenerating method with less power consumption to reduce a bit error rate.
SOLUTION: A method for all-optical regeneration of an optical signal intensity-modulated with a DFB laser diode is proposed. The DFB laser diode is selected to have a gain-bandwidth covering the signal wavelength, while the signal wavelength is located at the outside of the stopped bandwidth of the DFB laser diode. Moreover, the DFB laser diode is selected to have bistable amplification characteristic for the signal wavelength. The bistable amplification characteristic shows a hysteresis including ascending branch and descending branch wherein the ascending branch is located at a higher input power level than that of the descending branch. The DFB laser diode is driven to operate under the condition of bistable amplification. The descending branch in the hysteresis curve is located at a higher input power level than the lower power level of an optical signal pulse, while the ascending branch in the hysteresis curve is located at a lower input power level than the higher power level of the optical signal pulse.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供具有较少功耗的信号再生方法以减少误码率。解决方案：提出了一种用DFB激光二极管进行强度调制的光信号全光再生的方法。选择DFB激光二极管具有覆盖信号波长的增益带宽，而信号波长位于DFB激光二极管的停止带宽的外部。此外，DFB激光二极管被选择为具有信号波长的双稳态放大特性。双稳态放大特性示出了包括上升支路和下行支路的滞后，其中上升支路位于比下行支路更高的输入功率电平。驱动DFB激光二极管在双稳态放大条件下工作。迟滞曲线中的下降分支位于比光信号脉冲的较低功率电平更高的输入功率电平，而滞后曲线中的上升支路位于比光学器件的较高功率电平更低的输入功率电平信号脉冲。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

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