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81. 发明专利

TW200537610A 用於加工平板的設備和方法 APPARATUS AND METHOD FOR TREATING A PANEL 审中-公开
简体标题：用于加工平板的设备和方法 APPARATUS AND METHOD FOR TREATING A PANEL
公开(公告)号：TW200537610A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：TW094109329
申请日：2005-03-25
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：朴庸碩 PARK, YONG-SEOK
IPC分类号： H01L
摘要：一種平板加工系統係包含：一裝載器用於從一卡匣裝載一平板到一製程生產線；一I型平板製程生產線用於(a)對該平板執行一去光阻製程，(b)藉由噴灑去離子水至該去光阻的平板上及移除去離子水來清潔該平板，以及(c)乾燥該清潔的平板：以及一卸載器用於從該平板製程生產線中卸載該平板。
简体摘要：一种平板加工系统系包含：一装载器用于从一卡匣装载一平板到一制程生产线；一I型平板制程生产线用于(a)对该平板运行一去光阻制程，(b)借由喷洒去离子水至该去光阻的平板上及移除去离子水来清洁该平板，以及(c)干燥该清洁的平板：以及一卸载器用于从该平板制程生产线中卸载该平板。

82. 发明专利

TWI238744B 用於平面顯示面板之潔淨設備 CLEANING APPARATUS FOR FLAT DISPLAY PANEL 有权
简体标题：用于平面显示皮肤之洁净设备 CLEANING APPARATUS FOR FLAT DISPLAY PANEL
公开(公告)号：TWI238744B
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：TW093121584
申请日：2004-07-20
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：朴庸碩 PARK, YONG-SEOK
IPC分类号： B08B
摘要：一種平面顯示面板之潔淨設備包括有：一個被安置成可與該面板之頂部及底部表面的至少一個表面相接觸的滾刷、一個用於固定該滾刷並調整該滾刷朝向或遠離該面板之該等表面的間隙調整器、以及一個用於使該滾刷旋轉的驅動單元。該間隙調整器包括有：一個用以固定該滾刷之驅動軸桿、用於支承該驅動軸桿之個別相對端部的第一及第二固定用托架、被分別固定在該第一及第二固定用托架上以可上下移動地支承該驅動軸桿的第一及第二旋轉板件、一個用於產生使該第一及第二旋轉板件旋轉之動力驅動源、以及一個用於將該驅動源之動力傳送至該等旋轉板件的動力傳送單元。
简体摘要：一种平面显示皮肤之洁净设备包括有：一个被安置成可与该皮肤之顶部及底部表面的至少一个表面相接触的滚刷、一个用于固定该滚刷并调整该滚刷朝向或远离该皮肤之该等表面的间隙调整器、以及一个用于使该滚刷旋转的驱动单元。该间隙调整器包括有：一个用以固定该滚刷之驱动轴杆、用于支承该驱动轴杆之个别相对端部的第一及第二固定用托架、被分别固定在该第一及第二固定用托架上以可上下移动地支承该驱动轴杆的第一及第二旋转板件、一个用于产生使该第一及第二旋转板件旋转之动力驱动源、以及一个用于将该驱动源之动力发送至该等旋转板件的动力发送单元。

83. 发明专利

TW200520849A 面板處理系統 PANEL PROCESSING SYSTEM 审中-公开
简体标题：皮肤处理系统 PANEL PROCESSING SYSTEM
公开(公告)号：TW200520849A
公开(公告)日：2005-07-01
申请号：TW093137905
申请日：2004-12-08
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：朴庸碩 PARK, YONG-SEOK
IPC分类号： B05B
摘要：一種面板處理系統包括有一個驅動組件、一個界定出一個面板處理區域及一個驅動區域的盆缸、座落在該面板處理區域中而用以藉著來自於該驅動組件的旋轉作用力來運送面板的面板運送軸桿、一個或多個用於支撐該等面板運送軸桿以及用於供應用於處理面板之流體的支撐塊體、以及一個對應於在該面板處理區域中之一個面板運送區段而座落、用以將流體噴塗被引導通過一個流體通過組件之面板的流體噴塗組件。
简体摘要：一种皮肤处理系统包括有一个驱动组件、一个界定出一个皮肤处理区域及一个驱动区域的盆缸、座落在该皮肤处理区域中而用以借着来自于该驱动组件的旋转作用力来运送皮肤的皮肤运送轴杆、一个或多个用于支撑该等皮肤运送轴杆以及用于供应用于处理皮肤之流体的支撑块体、以及一个对应于在该皮肤处理区域中之一个皮肤运送区段而座落、用以将流体喷涂被引导通过一个流体通过组件之皮肤的流体喷涂组件。

84. 发明专利

TW200516355A 使用真空的遮罩支持裝置、曝光系統和使用彼等的方法 MASK SUPPORTING APPARATUS USING VACUUM AND LIGHT EXPOSING SYSTEM, AND METHOD USING THE SAME 审中-公开
简体标题：使用真空的遮罩支持设备、曝光系统和使用彼等的方法 MASK SUPPORTING APPARATUS USING VACUUM AND LIGHT EXPOSING SYSTEM, AND METHOD USING THE SAME
公开(公告)号：TW200516355A
公开(公告)日：2005-05-16
申请号：TW093131545
申请日：2004-10-18
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：李昌原 LEE, CHANG-WON , 裴龍熙 BAE, YONG-HUI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/62
摘要：一種遮罩支持裝置，其包括有一個被提供有至少一真空孔洞的吸收玻璃、一個被提供有一預定圖案且被附著於吸收玻璃之一個底部表面上的遮罩、以及一個被配置於吸收玻璃與遮罩之間的吸收襯墊，用以界定出一個介於吸收玻璃與遮罩之間的空間部位。在該空間部位中的空氣係經由真空孔洞被排出，用以將遮罩牢牢地固定於該吸收玻璃上。
简体摘要：一种遮罩支持设备，其包括有一个被提供有至少一真空孔洞的吸收玻璃、一个被提供有一预定图案且被附着于吸收玻璃之一个底部表面上的遮罩、以及一个被配置于吸收玻璃与遮罩之间的吸收衬垫，用以界定出一个介于吸收玻璃与遮罩之间的空间部位。在该空间部位中的空气系经由真空孔洞被排出，用以将遮罩牢牢地固定于该吸收玻璃上。

85. 发明专利

TW200514622A 流體噴射噴嘴 FLUID INJECTION NOZZLE 审中-公开
简体标题：流体喷射喷嘴 FLUID INJECTION NOZZLE
公开(公告)号：TW200514622A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093115770
申请日：2004-06-02
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：許經憲 HEO, KYOUNG-HEON
IPC分类号： B05B
CPC分类号： B05C5/0254
摘要：一種用於處理一基板之流體噴射噴嘴，其包括一具有一第一尖端之第一板件，及一具有一第二尖端之第二板件，該第二尖端藉由一固緊件被耦合至該第一板件。該第一及第二板件界定出一流體通道，且該第一及第二尖端具有互不相同之長度。
简体摘要：一种用于处理一基板之流体喷射喷嘴，其包括一具有一第一尖端之第一板件，及一具有一第二尖端之第二板件，该第二尖端借由一固紧件被耦合至该第一板件。该第一及第二板件界定出一流体信道，且该第一及第二尖端具有互不相同之长度。

86. 发明专利

TW200502151A 用於在水平與垂直方向輸送基板的裝置 APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATE IN HORIZONTAL AND VERTICAL DIRECTIONS 审中-公开
简体标题：用于在水平与垂直方向输送基板的设备 APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATE IN HORIZONTAL AND VERTICAL DIRECTIONS
公开(公告)号：TW200502151A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW093115263
申请日：2004-05-28
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：朴庸碩 PARK, YONG-SEOK , 金京 KIM, KYUNG-CHUL , 孫台峰 SON, TAE-BONG
IPC分类号： B65G
摘要：一個基板傳送裝置，其包括有：一個框架、一個水平傳送構件、一個垂直傳送構件以及一個傳送單元，其中，該水平傳送構件藉由將一個基板定位在一個精確的位置處朝水平方向來傳送該基板，該水平傳送構件防止該基板下垂，並且將該基板轉動，而該水平傳送構件被裝設在該框架上；該垂直傳送構件，其用於從該水平傳送構件處接收該基板(或將該基板傳送到該水平傳送構件)，並且用於將該基板傳送到一個基板處理線(substra tetreating line)(或從該基板處理線接收該基板)；以及該傳送單元被配置在該垂直傳送構件與該基板處理線之間，以從該垂直傳送構件處接收該基板(或將該基板傳送到該垂直傳送構件)。
简体摘要：一个基板发送设备，其包括有：一个框架、一个水平发送构件、一个垂直发送构件以及一个发送单元，其中，该水平发送构件借由将一个基板定位在一个精确的位置处朝水平方向来发送该基板，该水平发送构件防止该基板下垂，并且将该基板转动，而该水平发送构件被装设在该框架上；该垂直发送构件，其用于从该水平发送构件处接收该基板(或将该基板发送到该水平发送构件)，并且用于将该基板发送到一个基板处理线(substra tetreating line)(或从该基板处理线接收该基板)；以及该发送单元被配置在该垂直发送构件与该基板处理线之间，以从该垂直发送构件处接收该基板(或将该基板发送到该垂直发送构件)。

87. 发明专利

TWI441255B 等離子反應內室之側部氣體噴射器失效
简体标题：等离子反应内室之侧部气体喷射器
公开(公告)号：TWI441255B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：TW099132297
申请日：2010-09-24
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD.
发明人：金珉植 , KIM, MIN-SHIK , 高誠庸 , KO, SUNG-YONG , 蔡煥國 , CHAE, HWAN-KOOK , 朴根周 , PARK, KUN-JOO , 金起鉉 , KIM, KEE-HYUN , 李元默 , LEE, WEON-MOOK
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/3244

88. 发明专利

TWI425109B 化學氣相沉積裝置有权
简体标题：化学气相沉积设备
公开(公告)号：TWI425109B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW100128953
申请日：2011-08-12
申请人： DMS有限公司 , DMS CO,. LTD
发明人：許閏成 , HUH, YUN-SUNG , 朴勝一 , PARK, SEUNG-IL
IPC分类号： C23C16/00

89. 发明专利

TWI416742B 形成太陽能電池之選擇性發射極的方法及擴散裝置有权
简体标题：形成太阳能电池之选择性发射极的方法及扩散设备
公开(公告)号：TWI416742B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW098127059
申请日：2009-08-12
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD
发明人：許閏成 , HUH, YUNSUNG , 朴勝一 , PARK, SEUNGIL , 李萬根 , LEE, MANGEUN
IPC分类号： H01L31/0224 , H01L31/18 , H01L21/24
CPC分类号： Y02P70/521

90. 发明专利

TWI413204B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI413204B
公开(公告)日：2013-10-21
申请号：TW099115090
申请日：2010-05-12
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD.
发明人：李昇垣 , LEE, SEUNG-WON
IPC分类号： H01L21/677

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