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81. 发明专利

JP2010079827A Mass flow controller 有权
标题翻译：质量流量控制器
公开(公告)号：JP2010079827A
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：JP2008250349
申请日：2008-09-29
申请人： Horiba Stec Co Ltd , 株式会社堀場エステック
发明人： YASUDA TADAHIRO , YONEDA YUTAKA
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/00 , G05D16/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mass flow controller, with which flow rate of a secondary side is less liable to be readily influenced, even if the pressure on the primary side changes rapidly.
SOLUTION: The mass flow controller includes: a flow rate sensor which measures flow rate of fluid flowing inside of a flow channel and outputs a flow-rate measurement signal which shows a measured value; a flow rate control valve prepared upstream or downstream in the flow rate sensor; and a calculation section which calculates a control value to the flow rate control valve. There are a change period which is a period when a primary side pressure measurement value which is a measured value of the pressure of the fluid in the upstream of the mass flow controller has changed more than a predetermined amount, and a stable period which is a period other than the change period. The calculation section calculates a stable time control value, by performing a predetermined arithmetic operation to the deviation of a flow measurement value indicated by a flow-rate measurement signal and a flow-rate setting value which is a target value in the stable period; and calculates a change time control value, by performing a predetermined arithmetic operation to a deviation of the primary side-pressure measurement value and the change amount of the primary side-pressure measurement value in the change period.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：即使初级侧的压力快速变化，提供二次侧流量较少容易受到影响的质量流量控制器。质量流量控制器包括：流量传感器，其测量在流路内流动的流体的流量，并输出显示测量值的流量测量信号; 流量控制阀，其设置在所述流量传感器的上游或下游; 以及计算部分，其计算对流量控制阀的控制值。存在作为质量流量控制器的上游侧的流体的压力的测量值的初级侧压力测量值变化超过规定量的期间的变化期间，作为期间除变更期外。计算部通过对由流量测量信号表示的流量测量值和作为稳定期间中的目标值的流量设定值的偏差进行规定的算术运算来计算稳定的时间控制值; 并且通过对所述一次侧压力测量值和所述一次侧压力测量值在所述变化周期中的变化量的偏差执行预定的算术运算来计算变化时间控制值。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

82. 发明专利

JPWO2008041769A1 液体材料気化装置有权
公开(公告)号：JPWO2008041769A1
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：JP2008537562
申请日：2007-10-05
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：一朗西川 , 一朗西川 , 武志河野 , 武志河野
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/448 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4486 , B01B1/005 , B01B1/06
摘要：原料劣化の防止及び残渣の低減を図るとともに、閉塞リスクの低減を期待でき、しかも気化流量の増大化が容易な気化装置を提供する。そのために液相又は気液混合相状態にある原料を導入するための導入ポートP1と、その導入ポートP1の下流に設けられて前記原料を気化する気化部3と、この気化部3で気化した原料を導出する導出ポートP2とを備えてなるものにおいて、前記気化部3が、前記原料を噴霧するノズル31とそのノズル31の下流に連続して設けた加熱路32とからなる流路状のものであり、その気化部3を、前記導入ポートP1と導出ポートP2との間に並列に複数設けて、各気化部3が互いに独立して原料を流通させるように構成した。

83. 发明专利

JP4368432B2 Mass flow sensor as well as a mass flow meter and a mass flow controller using the same 失效
公开(公告)号：JP4368432B2
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：JP34857397
申请日：1997-12-02
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：則之木村 , 哲夫清水 , 泰弘笹井
IPC分类号： G01F1/68 , G01F1/696 , G01F15/04

84. 发明专利

JP4354059B2 Standard gas generator 有权
公开(公告)号：JP4354059B2
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：JP31737799
申请日：1999-11-08
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：正守佐仲 , 洋西里
IPC分类号： G01N1/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reference gas generator capable of providing a reference gas using many kinds of liquid materials as raw materials and continuously providing the reference gas over a wide concentration range. SOLUTION: A liquid material supplying line 2 having a liquid flowmeter 8 for measuring the flow rate of a liquid material LM and a first diluted gas line 3 having a gas flow controller 14 for controlling the flow rate of a diluted gas DG1 having the function as a carrier gas are connected in parallel to an evaporator 1 for evaporating a liquid. A generated gas line 4 for carrying a gas G generated therein together with the diluted gas DG1 is connected to the evaporator 1. This generated gas line 4 is provided with a gas flow controller 19, and a second diluted gas line 20 having a gas flow controller 23 for controlling the flow rate of a diluted gas DG2 is connected to the downstream from the gas flow controller 19 of the generated gas line 4.

85. 发明专利

JP2009229139A Gas analyzer 审中-公开
标题翻译：气体分析仪
公开(公告)号：JP2009229139A
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：JP2008072298
申请日：2008-03-19
申请人： Horiba Stec Co Ltd , 株式会社堀場エステック
发明人： ISODA MASAHIRO , SHIMIZU TAKESHI
IPC分类号： G01N27/62 , H01J49/26
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To easily grasp visually a change with time of a global measurement results by displaying the change with time of measurement results of sample gas over a wide range. SOLUTION: An analyzer includes a sensor part 21 for ionizing the sample gas, and detection the ion; an analysis part 31 for analyzing the sample gas based on a detection signal from the sensor part 21; and a display control part 33 for displaying a three-dimensional graph using a value based on the measurement results by the analysis part 31, a time, and a value indicating a component in the sample gas respectively as each axis on a screen, and displaying the three-dimensional graph rotatably. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过在宽范围内显示样品气体的测量结果随时间的变化，轻松掌握全局测量结果随时间的变化。解决方案：分析仪包括用于离子化样品气体的传感器部分21，并检测离子; 基于来自传感器部21的检测信号来分析样本气体的分析部31; 以及显示控制部33，用于使用基于分析部31的测量结果的值，时间和指示样品气体中的分量的值作为屏幕上的每个轴显示三维图，并且显示三维图形可旋转。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

86. 发明专利

JP4308356B2 Nozzle diagnostic methods of the nozzle diagnostic mechanism and the pressure type flow rate controller of the pressure type flow rate controller 有权
公开(公告)号：JP4308356B2
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：JP1601299
申请日：1999-01-25
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：桂一郎山本 , 亨一石川
IPC分类号： G05B23/02 , G05D7/06
CPC分类号： G01F25/0007 , G05D7/0635

87. 发明专利

JP4287935B2 The flow control valve driving unit structure of the piezo system 有权
公开(公告)号：JP4287935B2
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：JP793199
申请日：1999-01-14
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：英顕宮本
IPC分类号： F16K27/00 , F16K31/02

88. 发明专利

JP4146746B2 Mass flow controller 有权
公开(公告)号：JP4146746B2
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：JP2003074014
申请日：2003-03-18
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：正巳西川
IPC分类号： G05D7/06

89. 发明专利

JP4088010B2 Mass flow controllers and the gas supply line of integrated type 有权
公开(公告)号：JP4088010B2
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：JP36547199
申请日：1999-12-22
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：美良木村 , 敏正田
IPC分类号： G05D7/06

90. 发明专利

JP4063601B2 Sample supply device with a vaporizer 有权
公开(公告)号：JP4063601B2
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：JP2002181597
申请日：2002-06-21
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：嘉浩江畑
IPC分类号： G01N1/10 , G01N21/73 , B01J4/00 , G01N21/31

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