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71. 发明公开

KR1020080075100A 포토레지스트용 감광성 성분 无效
标题翻译：光敏元件在光电中的使用
公开(公告)号：KR1020080075100A
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：KR1020087010507
申请日：2006-11-06
申请人： 메르크 퍼포먼스 마테리알스 게엠베하
发明人： 잔,울프강 , 그로텐뮬러,랄프 , 바그너,디터
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/0233 , C07C309/76 , C08K5/42 , G03F7/0381 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/0382
摘要： A compound of the formula (I) where the symbols and indices are each defined as follows: A is A', R or O-R; where R is a straight-chain, branched or cyclic, saturated or unsaturated aliphatic radical having 1-8 carbon atoms; A' is the same or different and is (Formula Ia), B is a bond,-O-C(O)-,-C(O)-O-,-O-C(O)-,-C(O)-NH-,-NH-C(O)-,-C(O)-O-CH2-CH(OH)-CH2-O,-0-CH2-CH(OH)-CH2-O-(O)C-,-0-C(O)-O-,-0-C(O)-NH-or-NH-C(O)-O-; R1 is H or OH; m is 1, 2, 3, 4 or 5; Y is Formulae (II), (III), (IV), (V), n is a positive rational number >= 3; E is the same or different and is-CH-CHR2-,-CHR2-CH2-,-CH2-CHR2-O-,-O-CHR2-CH2-,-(CH2)t-O-or-0-(CH2)-; R2 is H or CH3 and r is 1 or 4, is suitable as a light-sensitive component for photoresists.
摘要翻译：符号和指数各自定义如下：式（I）的化合物：A是A'，R或O-R; 其中R是具有1-8个碳原子的直链，支链或环状饱和或不饱和的脂族基团; A'相同或不同，为（式Ia），B为键，-OC（O） - ， - C（O）-O - ， - OC（O） - ， - C（O），-NH-C（O） - ， - C（O）-O-CH 2 CH（OH）-CH2-O - ， - O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O-（O）C - ， - 0-C（O）-O - ， - O-C（O）-NH-或-NH-C（O）-O-; R1是H或OH; m为1,2,3,4或5; Y是式（II），（III），（IV），（V），n是正有理数> = 3; E是相同或不同的，是-CH-CHR 2 - ， - CHR 2 -CH 2 - ， - CH 2 -CH 2 -O - ， - O-CHR 2 -CH 2 - ， - （CH 2）t O-或-O-（CH 2） ; R2是H或CH3，r是1或4，适用作光致抗蚀剂的光敏组分。

72. 发明公开

KR1020060099415A 네가티브-형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：负型感光性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020060099415A
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020060020181
申请日：2006-03-02
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 아라오케이 , 노무라마코토
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0381
摘要： 실리콘 웨이퍼 또는 인쇄 배선판상에 층간 유전층을 형성하는데 사용될 수 있는 네가티브-형 감광성 수지 조성물이 제공된다. 이 조성물은 비닐페놀 수지, 비페닐-페놀 수지 및 에폭시-함유 물질을 포함한다. 또한 이러한 조성물을 사용하여 패턴화 유전체 필름을 형성하는 방법이 제공된다. 수지 조성물은, 예를 들어 층간 유전층으로서 웨이퍼-레벨 칩-스케일 패키지 및 LSI 제조에 사용될 수 있다.
없음
摘要翻译：提供可用于在硅晶片或印刷线路板上形成层间介电层的负型光敏树脂组合物。该组合物包含乙烯基酚醛树脂，联苯酚醛树脂和含环氧材料。还提供了使用这种组合物形成图案化电介质膜的方法。例如，树脂组合物可以用作晶片级芯片级封装和LSI制造中的层间介电层。

73. 发明公开

KR20180013778A 화합물, 수지 및 포토레지스트 조성물 审中-公开
标题翻译：复合树脂和光致抗蚀剂组合物
公开(公告)号：KR20180013778A
公开(公告)日：2018-02-07
申请号：KR20170095661
申请日：2017-07-27
IPC分类号： C08G75/20 , C07C323/13 , C07C323/53 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/16
CPC分类号： G03F7/0381 , C08G81/025 , C08G81/027
摘要： 화학식 (I0)로나타낸구조단위를포함하는수지:[화학식 (I0)에서, A, A및 A은각각독립적으로 C2-C18 2가탄화수소기를나타내고, R, R, R및 R는각각독립적으로수소원자또는 C1-C6 포화탄화수소기를나타내며, X및 X는각각독립적으로 *-O-CO-, -O-CO-O- 또는 -O-를나타내고, *는 A또는 A과의결합위치를나타냄].
摘要翻译：其中A，A和A各自独立地为C2-C18二价烃基，并且R，R，R和R各自独立地为氢（C1-C18） X和X各自独立地表示-O-CO - ， - O-CO-O-或-O-，并且*表示与A或A的结合位置。。

74. 发明公开

KR1020160079319A 네가티브형 포토레지스트 조성물 审中-实审
标题翻译：负型型光电组合物
公开(公告)号：KR1020160079319A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：KR1020140190527
申请日：2014-12-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 조용환 , 최화섭 , 김상태 , 황상만
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/0381
摘要： 본발명은네가티브형포토레지스트조성물에관한것으로, 보다상세하게는알칼리가용성수지, 광중합성화합물, 광중합개시제, 광산발생제, 및분자구조내 적어도하나의에폭시기, 옥세탄기또는비닐에테르기를갖는단관능화합물을포함하는네가티브형포토레지스트조성물에관한것이다. 상기조성물은비노광부의물성제어가아닌노광부의물성을제어하는것으로, 노광부의현상성을저하시켜감도를향상시킬수 있고, 포스트베이크공정이후경화도의지나친증가가없어종래가교에의해딱딱해지는문제(brittle)을해소하고, 유연성이요구되는분야에바람직하게적용이가능하다.
摘要翻译：本发明涉及负型光致抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及含有碱溶性树脂，光聚合性化合物，光聚合引发剂，光致酸产生剂和具有至少一个的单官能化合物的负型光致抗蚀剂组合物环氧基，氧杂环丁烷基或乙烯基醚基。该组合物不控制非曝光部件的物理性质，而是控制曝光部件的物理性质。组合物能够通过降低曝光部分的显影性能来提高敏感性。该组合物解决了由于常规交联而使曝光部分结块的脆性问题，并且由于在进行后烘烤处理之后固化程度不会过度增加，因此能够适用于要求柔软性的场合。

75. 发明公开

KR1020160069510A 이온성 화합물을 포함하는 포토레지스트 审中-实审
标题翻译：包含离子化合物的光电
公开(公告)号：KR1020160069510A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：KR1020160070133
申请日：2016-06-07
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 포레르스게르하르트 , 류콩 , 수쳉-바이 , 우춘이
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/0381 , G03F7/0382 , G03F7/0387 , G03F7/265 , H01L21/0273
摘要： 조사선-비민감성이온성화합물을포함하는성분을함유하는신규포토레지스트조성물이제공된다. 본발명의바람직한포토레지스트는광산-불안정기를갖는수지; 광산발생제화합물; 및포토레지스트코팅층의비노광영역으로부터바람직하지않은광발생된-산의확산을감소시키도록기능할수 있는조사선-비민감성이온성화합물을포함할수 있다.
摘要翻译：提供了一种新颖的光致抗蚀剂组合物，其含有包含辐射不敏感的离子化合物的成分。本发明的光致抗蚀剂包括：具有光酸不稳定基团的树脂; 光致酸发生剂化合物; 和辐射不敏感的离子化合物，以减少不期望的光产酸从光致抗蚀剂涂层的未曝光区域的扩散。

76. 发明公开

KR1020150003852A 광학재료용 영구막의 제조 방법, 이것에 의해 제작한 경화막, 이것을 사용한 유기 EL 표시 장치 및 액정 표시 장치 无效
标题翻译：制造用于光学材料的永久性膜的方法，由其制造的固化膜，使用其的有机EL显示装置以及液晶显示装置
公开(公告)号：KR1020150003852A
公开(公告)日：2015-01-09
申请号：KR1020147032577
申请日：2013-04-25
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 사타케료 , 안도타케시 , 야마시타시에 , 나카무라히데유키
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/039 , H01L27/32 , G03F7/038 , G03F7/40
CPC分类号： H01L27/3258 , G03F1/32 , G03F7/0233 , G03F7/40 , G03F7/0381 , G03F7/0392
摘要： 감광성 수지 조성물을 노광해서 상기 노광부를 제거하고, 그 잔부를 경화시켜서 영구막으로 하는 광학재료용 영구막의 제조 방법으로서, 상기 감광성 수지 조성물은 (A)특정 가교성 중합체와, (B)1,2-퀴논디아지드 화합물과, (C)용제를 함유하고, 상기 감광성 수지 조성물에 g선, h선, 및 i선 중에서 선택되는 활성 방사선을 위상 시프터부에 있어서의 투과율 0.1% 이상 50% 이하의 하프톤 위상차 마스크를 통해 조사하고, 상기 수지를 노광하는 광학재료용 영구막의 제조 방법.

77. 发明公开

KR1020140005858A 단환식 지방족 탄화수소환을 갖는 에폭시 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：具有单环芳烃环氧树脂的环氧树脂组合物
公开(公告)号：KR1020140005858A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：KR1020137005541
申请日：2011-07-27
申请人： 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
发明人： 타케야마,토시아키 , 엔도,유키 , 야나기사와,사요코
IPC分类号： C08G59/24 , C07D301/14 , C07D303/44 , C08G59/68 , G03F7/004 , G03F7/038 , C08L63/00
CPC分类号： G03F7/004 , C08G59/24 , C08G59/3218 , C08G59/68 , G03F7/038 , C07D301/14 , G03F7/0047 , G03F7/029 , G03F7/0381
摘要： [과제] 저점도이고 양이온 경화성이 높은 경화성 조성물을 제공한다.
[해결수단] 하기 식(1):

[식(1) 중, A는 에폭시기를 포함하고 있을 수도 있는 단환식 지방족 탄화수소기를 나타내고, R
1 , R
2 , R
3 및 R
4 는 각각 독립적으로 수소원자, 또는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, n1 및 n2는 각각 독립적으로 2 내지 6의 정수를 나타내고, n3 및 n4는 각각 2의 정수를 나타내고, n5 및 n6은 각각 1의 정수를 나타낸다.]로 표시되는 에폭시 화합물 및 산발생제를 포함하는 경화성 조성물. 식(1)의 A가 에폭시기 함유 시클로헥실기이다. 식(1)의 n1 및 n2가 각각 2이고, R
1 , R
2 , R
3 및 R
4 가 각각 수소원자이다. 식(1)의 n1 및 n2가 각각 3이고, R
1 , R
2 , R
3 및 R
4 가 각각 수소원자이다. 식(1)의 n1 및 n2가 각각 4이고, R
1 , R
2 , R
3 및 R
4 가 각각 수소원자이다.

78. 发明公开

KR1020140000342A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 인쇄 배선판 有权
标题翻译：积极色素感光树脂组合物，干膜，固化产品和印刷线路板
公开(公告)号：KR1020140000342A
公开(公告)日：2014-01-02
申请号：KR1020137028706
申请日：2012-03-21
申请人： 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
发明人： 이와야마,겐토 , 미네기시,쇼지
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , H05K3/28
CPC分类号： H05K3/287 , G03F7/038 , H05K3/3452 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/0041 , G03F7/0381 , G03F7/0392 , H05K3/28
摘要： 본 발명은 종래의 포지티브형 수지 조성물과는 조성이 상이한 포지티브형 수지 조성물, 이를 이용한 드라이 필름 및 이들의 경화물과, 이들 경화물을 이용한 인쇄 배선판을 제공한다. 에폭시 수지와, 페놀 수지와, 광 양이온 중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물이며, 상기 에폭시 수지가 3급 아민 구조를 갖는 에폭시 수지이거나, 또는 복소환식 화합물을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물이다.

79. 发明公开

KR1020110024813A 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：敏感性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020110024813A
公开(公告)日：2011-03-09
申请号：KR1020090082966
申请日：2009-09-03
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 진성열 , 김용일 , 김성현
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/027 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/027 , G03F7/0381 , G03F7/0382 , H01L21/02115 , H01L21/02118 , Y10S430/1055
摘要： PURPOSE: A photosensitive resin composition is provided to easily form and control an embossing pattern and to be adapted as a negative type semi-transmitting organic insulating film. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition includes alkaline soluble copolymer, a photo-sensitive agent with quinine diazide group, a phenol-based compound, and a solvent. The photo-based compound is selected from compounds represented by chemical formulas 1 to 4. In chemical formulas 1 to 4, R1 represents H, OH, or COOH, R2 represents C1-C10 alkyl group, C1-C10 aryl group, C1-C10 benzyl group, C1-C10 alkyl benzyl group, C1-C10 aryl benzyl group, C1-C10 cyclic compound, C1-C10 cycloalkyl group, or C1-C10 cycloaryl group, and R3 represents OH.
摘要翻译：目的：提供感光性树脂组合物以容易地形成和控制压纹图案并适于作为负型半透明有机绝缘膜。构成：感光性树脂组合物包含碱溶性共聚物，具有奎宁重氮基的光敏剂，苯酚类化合物和溶剂。光化合物选自化学式1至4表示的化合物。在化学式1至4中，R 1表示H，OH或COOH，R 2表示C 1 -C 10烷基，C 1 -C 10芳基，C 1 -C 10 苄基，C1-C10烷基苄基，C1-C10芳基苄基，C1-C10环状化合物，C1-C10环烷基或C1-C10环芳基，R3表示OH。

80. 发明公开

KR1020040099326A 하드마스크 층에 사용하기 위한 반사방지 ＳｉＯ 함유조성물 失效
标题翻译：一种用于硬掩模层的含抗反射SiO的组合物
公开(公告)号：KR1020040099326A
公开(公告)日：2004-11-26
申请号：KR1020047014412
申请日：2003-04-01
申请人： 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
发明人： 페이퍼더크 , 앤젤로포울로스마리 , 바비치캐서리나 , 브록필립 , 후앙우-송 , 마호로왈라알판피 , 메데이로스데이비드알 , 수리야쿠마란라트남
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： H01L21/0276 , G03F7/0045 , G03F7/0757 , G03F7/091 , Y10S430/151 , G03F7/0381
摘要： 발색단 부위 및 투명 부위를 갖는 SiO 함유 중합체가 존재한다는 것을 특징으로 하는 본 발명의 반사방지 조성물은 리쏘그래픽 공정에서 유용한 반사방지 하드마스크 조성물이다. 이러한 조성물은 매우 우수한 광학적 특성, 기계적 특성 및 에칭 선택비 특성을 제공하며, 동시에 스핀-온 도포 기법을 이용하여 도포 가능한 특성을 제공한다. 유리하게도, 본 발명의 조성물은 보다 짧은 파장 리쏘그래픽 공정에 유용하고/유용하거나, 최소 잔류 산 함량을 보유한다.

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