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71. 发明专利

TW201418923A 可變流孔型壓力控制式流量控制器审中-公开
简体标题：可变流孔型压力控制式流量控制器
公开(公告)号：TW201418923A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102112367
申请日：2013-04-08
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0647 , F16K7/16 , F16K31/04 , F16K31/52491 , Y10T137/87917
摘要：本發明課題為針對可變流孔型壓力控制式流量控制器，實現可瞬間執行可變流孔之流孔開度轉換的流量控制範圍轉換，且可大幅縮短小流區域之流量控制的流量下降時間。其解決手段為可變流孔型壓力控制式流量控制器，具備壓力控制部及可變流孔部，以Qp1=KP1(但P1為流孔上游側壓力，K為常數)對流通在可變流孔部之流孔的流體流量進行運算，並且將上述流孔為由直接接觸型隔膜閥之閥座和隔膜間的環狀間隙所形成的流孔，其構成為藉由對上述壓力控制部之流量運算控制部改變設定流量訊號(Qs)及對可變流孔部之流孔開度運算控制部改變流孔開度設定訊號(Qz)就可執行流量控制範圍的轉換以及於該流量控制範圍之流量控制，於該可變流孔型壓力控制式流量控制器中，上述可變流孔部是由流孔開度運算控制部，和根據來自於流孔開度運算控制部的流孔控制訊號驅動的步進馬達，及由步進馬達驅動轉動的偏心凸輪，以及經由偏心凸輪隔著膜片壓件控制閥開度的直接接觸型金屬隔膜閥所構成。
简体摘要：本发明课题为针对可变流孔型压力控制式流量控制器，实现可瞬间运行可变流孔之流孔开度转换的流量控制范围转换，且可大幅缩短小流区域之流量控制的流量下降时间。其解决手段为可变流孔型压力控制式流量控制器，具备压力控制部及可变流孔部，以Qp1=KP1(但P1为流孔上游侧压力，K为常数)对流通在可变流孔部之流孔的流体流量进行运算，并且将上述流孔为由直接接触型隔膜阀之阀座和隔膜间的环状间隙所形成的流孔，其构成为借由对上述压力控制部之流量运算控制部改变设置流量信号(Qs)及对可变流孔部之流孔开度运算控制部改变流孔开度设置信号(Qz)就可运行流量控制范围的转换以及于该流量控制范围之流量控制，于该可变流孔型压力控制式流量控制器中，上述可变流孔部是由流孔开度运算控制部，和根据来自于流孔开度运算控制部的流孔控制信号驱动的步进马达，及由步进马达驱动转动的偏心凸轮，以及经由偏心凸轮隔着膜片压件控制阀开度的直接接触型金属隔膜阀所构成。

72. 发明专利

TWI437401B 混合氣體供應裝置有权
简体标题：混合气体供应设备
公开(公告)号：TWI437401B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW099139990
申请日：2010-11-19
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/00 , H01L21/3065
CPC分类号： B01J4/02 , G05D11/132 , H01L21/67017 , Y10T137/87249

73. 发明专利

TW201405269A 半導體製造裝置之氣體分流供應裝置审中-公开
简体标题：半导体制造设备之气体分流供应设备
公开(公告)号：TW201405269A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102112366
申请日：2013-04-08
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0641 , G05D7/0664 , Y10T137/87772
摘要：本發明的課題為實現半導體製造裝置之氣體分流供應裝置的大幅小型化，並且對同時進行並行之相同處理的複數處理室，可從一個氣體供應源將製程氣體以高精度流量控制的同時加以分流供應。其解決手段為該半導體製造裝置之氣體分流供應裝置，具備：連接在製程氣體入口(11)之壓力式流量控制部(1a)構成用的控制閥(3)；連通於控制閥(3)下游側的氣體供應主管(8)；以並列狀連接在氣體供應主管(8)下游側的複數分岐管路(9a、9n)；間設在各分岐管路(9a、9n)的分岐管路開閉閥(10a、10n)；設置在分岐管路開閉閥(10a、10n)下游側的節流孔(6a、6n)；設置在上述控制閥(3)和節流孔(6a、6n)之間的製程氣體通路附近的溫度感測器(4)；設置在上述控制閥(3)和節流孔(6a、6n)之間的製程氣體通路的壓力感測器(5)；設置在上述節流孔(6a、6n)出口側的分流氣體出口(11a、11n)；及被輸入有來自於上述壓力感測器(5)的壓力訊號及來自於溫度感測器(4)的溫度訊號，對流通在上述節流孔(6a、6n)的製程氣體之總流量(Q)進行運算的同時，對閥驅動部(3a)輸出使上述控制閥(3)朝運算出之流量值與流量設定值的差值之減少方向開閉動作的控制訊號(Pd)之壓力式流量運算控制部(7a)所成的運算控制部(7)，構成為由壓力式流量控制部(1a)執行流量控制。
简体摘要：本发明的课题为实现半导体制造设备之气体分流供应设备的大幅小型化，并且对同时进行并行之相同处理的复数处理室，可从一个气体供应源将制程气体以高精度流量控制的同时加以分流供应。其解决手段为该半导体制造设备之气体分流供应设备，具备：连接在制程气体入口(11)之压力式流量控制部(1a)构成用的控制阀(3)；连通于控制阀(3)下游侧的气体供应主管(8)；以并列状连接在气体供应主管(8)下游侧的复数分岐管路(9a、9n)；间设在各分岐管路(9a、9n)的分岐管路开闭阀(10a、10n)；设置在分岐管路开闭阀(10a、10n)下游侧的节流孔(6a、6n)；设置在上述控制阀(3)和节流孔(6a、6n)之间的制程气体通路附近的温度传感器(4)；设置在上述控制阀(3)和节流孔(6a、6n)之间的制程气体通路的压力传感器(5)；设置在上述节流孔(6a、6n)出口侧的分流气体出口(11a、11n)；及被输入有来自于上述压力传感器(5)的压力信号及来自于温度传感器(4)的温度信号，对流通在上述节流孔(6a、6n)的制程气体之总流量(Q)进行运算的同时，对阀驱动部(3a)输出使上述控制阀(3)朝运算出之流量值与流量设置值的差值之减少方向开闭动作的控制信号(Pd)之压力式流量运算控制部(7a)所成的运算控制部(7)，构成为由压力式流量控制部(1a)运行流量控制。

74. 发明专利

TW201336007A 半導體製造裝置之氣體分流供給裝置审中-公开
简体标题：半导体制造设备之气体分流供给设备
公开(公告)号：TW201336007A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101140130
申请日：2012-10-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 森崎和之 , MORISAKI, KAZUYUKI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： G05D7/0641 , G05D7/0664 , Y10T137/2544
摘要：本發明之課題在於謀求半導體製造裝置之氣體分流供給裝置的大幅小型化，同時往併行相同製程而同時進行的複數製程室，由一個氣體供給源高精度地流量控制製程氣體同時可以分流供給。本發明之解決手段係具備：形成連接於製程氣體入口(11)的壓力式流量控制部(1a)的控制閥(3)、連通至控制閥(3)的下游側之氣體供給主管(8)、設於控制閥(3)的下游側之氣體供給主管(8)的孔口(6)、並列狀地連接於氣體供給主管(8)的下游側之複數分歧管路(9a)、(9n)、中介設於各分歧管路(9a)、(9n)的分歧管路開閉閥(10a)、(10n)、設於前述控制閥(3)與孔口(6)之間的製程氣體通路之壓力感測器(5)、設於前述各分歧管路(9a)、(9n)的出口側的分流氣體出口(11a)、(11n)、被輸入來自前述壓力感測器(5)的壓力訊號，演算流通過前述孔口(6)的製程氣體的總流量(Q)，往此演算流量值與設定流量值之差減少的方向使前述控制閥(3)進行開閉動作的控制訊號(Pd)往閥驅動部(3a)輸出，同時輸出往前述分歧管路開閉閥(10a)、(10n)輸出使各分歧管路開閉閥(10a)、(10n)分別依序開放一定時間後將此閉鎖之開閉控制訊號(Od1)、(Odn)的演算控制部(7)；藉由前述壓力式流量控制部(1a)進行通過孔口(6)的製程氣體的流量控制，同時為藉由前述分歧管路開閉閥(10a)、(10n)的開閉將製程氣體進行分流供給的構成。
简体摘要：本发明之课题在于谋求半导体制造设备之气体分流供给设备的大幅小型化，同时往并行相同制程而同时进行的复数制程室，由一个气体供给源高精度地流量控制制程气体同时可以分流供给。本发明之解决手段系具备：形成连接于制程气体入口(11)的压力式流量控制部(1a)的控制阀(3)、连通至控制阀(3)的下游侧之气体供给主管(8)、设于控制阀(3)的下游侧之气体供给主管(8)的孔口(6)、并列状地连接于气体供给主管(8)的下游侧之复数分歧管路(9a)、(9n)、中介设于各分歧管路(9a)、(9n)的分歧管路开闭阀(10a)、(10n)、设于前述控制阀(3)与孔口(6)之间的制程气体通路之压力传感器(5)、设于前述各分歧管路(9a)、(9n)的出口侧的分流气体出口(11a)、(11n)、被输入来自前述压力传感器(5)的压力信号，演算流通过前述孔口(6)的制程气体的总流量(Q)，往此演算流量值与设置流量值之差减少的方向使前述控制阀(3)进行开闭动作的控制信号(Pd)往阀驱动部(3a)输出，同时输出往前述分歧管路开闭阀(10a)、(10n)输出使各分歧管路开闭阀(10a)、(10n)分别依序开放一定时间后将此闭锁之开闭控制信号(Od1)、(Odn)的演算控制部(7)；借由前述压力式流量控制部(1a)进行通过孔口(6)的制程气体的流量控制，同时为借由前述分歧管路开闭阀(10a)、(10n)的开闭将制程气体进行分流供给的构成。

75. 发明专利

TW201321079A 氣化器审中-公开
简体标题：气化器
公开(公告)号：TW201321079A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： [課題]提供一種可使氣化器內的壓力的行動安定的氣化器。[解決手段]本發明之氣化器係具備有：具備流入口及流出口的腔室；將該腔室內加熱的加熱裝置；被設在該腔室內，將該腔室內的液體材料區分成複數劃區的間隔壁構造體(13)；及被設在間隔壁構造體(13)的下部，容許以間隔壁構造體(13)所被區分的各劃區間的液體流通的液體流通部(20)，前述間隔壁構造體係具有格子狀、蜂巢狀、網孔狀、或管狀的間隔壁。
简体摘要： [课题]提供一种可使气化器内的压力的行动安定的气化器。[解决手段]本发明之气化器系具备有：具备流入口及流出口的腔室；将该腔室内加热的加热设备；被设在该腔室内，将该腔室内的液体材料区分成复数划区的间隔壁构造体(13)；及被设在间隔壁构造体(13)的下部，容许以间隔壁构造体(13)所被区分的各划区间的液体流通的液体流通部(20)，前述间隔壁构造体系具有格子状、蜂嵌套、网孔状、或管状的间隔壁。

76. 发明专利

TW201305765A 附帶監測器壓力式流量控制裝置與使用該流量控制裝置之流體供應系的異常檢測方法及監測流量異常時之處置方法审中-公开
简体标题：附带监测器压力式流量控制设备与使用该流量控制设备之流体供应系的异常检测方法及监测流量异常时之处置方法
公开(公告)号：TW201305765A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101114154
申请日：2012-04-20
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI
IPC分类号： G05D7/06 , F16K37/00 , G01F1/34
CPC分类号： G05D7/0623 , F16K37/0083 , G01F1/36 , G01F1/363 , G01F1/50 , G01F1/6842 , G01F1/6965 , G01F5/00 , G01F15/005 , G01F25/0007 , G05D7/0617 , G05D7/0635 , Y10T137/0368 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要： [發明課題]以附加有可使利用節流口之壓力式流量控制裝置所保持之優異流量控制特性充分活用的簡單構成，就能夠容易並且正確又適宜地實時監測控制流體之實際流量的同時，根據流量自我診斷的結果正確判斷附帶監測器壓力式流量控制裝置本身的異常，於監測流量異常時能夠迅速執行適當的處理。[解決手段]附帶監測器壓力式流量控制裝置，是由下述構件構成：流體的入口側通道(8)；連接在入口側通道(8)下游側之壓力式流量控制部(1a)構成用的控制閥(3)；連接在控制閥(3)下游側的熱式流量感測器(2)；設置在連通於熱式流量感測器(2)下游側之流體通道(10)途中的節流口(6)；設置在上述控制閥(3)和節流口(6)之間之流體通道(10)附近的溫度感測器(4)；設置在上述控制閥(3)和節流口(6)之間之流體通道(10)的壓力感測器(5)；連通於上述節流口(6)的出口側通道(9)；及由壓力式流量運算控制部(7a)和流量感測控制部(7b)所構成的控制部(7)，該壓力式流量運算控制部(7a)輸入有來自於上述壓力感測器(5)的壓力訊號及來自於溫度感測器(4)的溫度訊號，可對流通在節流口(6)之流體的流量值(Q)進行運算並且可對閥驅動部(3a)輸出使上述控制閥(3)朝所運算之流量值和設定流量值的差值減少方向動作成開閉的控制訊號(Pd)，該流量感測控制部(7b)輸入有來自於上述熱式流量感測器(2)的流量訊號(2c)可根據該流量訊號(2c)運算顯示出流通在節流口(6)的流體流量。
简体摘要： [发明课题]以附加有可使利用节流口之压力式流量控制设备所保持之优异流量控制特性充分活用的简单构成，就能够容易并且正确又适宜地实时监测控制流体之实际流量的同时，根据流量自我诊断的结果正确判断附带监测器压力式流量控制设备本身的异常，于监测流量异常时能够迅速运行适当的处理。[解决手段]附带监测器压力式流量控制设备，是由下述构件构成：流体的入口侧信道(8)；连接在入口侧信道(8)下游侧之压力式流量控制部(1a)构成用的控制阀(3)；连接在控制阀(3)下游侧的热式流量传感器(2)；设置在连通于热式流量传感器(2)下游侧之流体信道(10)途中的节流口(6)；设置在上述控制阀(3)和节流口(6)之间之流体信道(10)附近的温度传感器(4)；设置在上述控制阀(3)和节流口(6)之间之流体信道(10)的压力传感器(5)；连通于上述节流口(6)的出口侧信道(9)；及由压力式流量运算控制部(7a)和流量传感控制部(7b)所构成的控制部(7)，该压力式流量运算控制部(7a)输入有来自于上述压力传感器(5)的压力信号及来自于温度传感器(4)的温度信号，可对流通在节流口(6)之流体的流量值(Q)进行运算并且可对阀驱动部(3a)输出使上述控制阀(3)朝所运算之流量值和设置流量值的差值减少方向动作成开闭的控制信号(Pd)，该流量传感控制部(7b)输入有来自于上述热式流量传感器(2)的流量信号(2c)可根据该流量信号(2c)运算显示出流通在节流口(6)的流体流量。

77. 发明专利

TWI651606B 流體控制裝置，流體控制裝置的控制方法，及流體控制系統有权
简体标题：流体控制设备，流体控制设备的控制方法，及流体控制系统
公开(公告)号：TWI651606B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106114119
申请日：2017-04-27
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 滝本昌彦 , TAKIMOTO, MASAHIKO , 西野功二 , NISHINO, KOUJI
IPC分类号： G05D16/20 , H01L21/67

78. 发明专利

TWI642910B 流量控制機器、流量控制機器的流量校正方法、流量測定機器及使用流量測定機器的流量測定方法有权
简体标题：流量控制机器、流量控制机器的流量校正方法、流量测定机器及使用流量测定机器的流量测定方法
公开(公告)号：TWI642910B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106122260
申请日：2017-07-03
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F15/04 , G05D7/06 , H01L21/67

79. 发明专利

TW201841090A 壓力式流量控制裝置及流量控制方法审中-公开
简体标题：压力式流量控制设备及流量控制方法
公开(公告)号：TW201841090A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107110227
申请日：2018-03-26
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 平田薫 , HIRATA, KAORU , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 滝本昌彦 , TAKIMOTO, MASAHIKO , 今井嵩浩 , IMAI, TAKAHIRO , 小川慎也 , OGAWA, SHINYA
IPC分类号： G05D7/06 , G05D16/20
摘要：壓力式流量控制裝置，具備：孔徑部、及設於孔徑部的上游側之控制閥、及檢測孔徑部與控制閥之間的壓力之上游壓力感測器、及連接至控制閥及上游壓力感測器之演算處理電路，構成為基於上游壓力感測器的輸出來進行控制閥之控制，藉此做流量控制，演算處理電路，當為了使流過孔徑部的流體的流量降低而進行將控制閥關閉之動作時，是藉由反饋控制來進行將控制閥關閉之動作，該反饋控制是將比氣體從孔徑部流出時的壓力下降特性資料還和緩的指數函數訂為目標值。
简体摘要：压力式流量控制设备，具备：孔径部、及设于孔径部的上游侧之控制阀、及检测孔径部与控制阀之间的压力之上游压力传感器、及连接至控制阀及上游压力传感器之演算处理电路，构成为基于上游压力传感器的输出来进行控制阀之控制，借此做流量控制，演算处理电路，当为了使流过孔径部的流体的流量降低而进行将控制阀关闭之动作时，是借由反馈控制来进行将控制阀关闭之动作，该反馈控制是将比气体从孔径部流出时的压力下降特性数据还和缓的指数函数订为目标值。

80. 发明专利

TWI633294B 濃度測定裝置有权
简体标题：浓度测定设备
公开(公告)号：TWI633294B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW105126104
申请日：2016-08-16
申请人：國立大學法人德島大學 , TOKUSHIMA UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：出口祥啓 , DEGUCHI, YOSHIHIRO , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 河嶋将慈 , KAWASHIMA, MASAYOSHI , 田中一輝 , TANAKA, KAZUTERU
IPC分类号： G01N21/33 , G01N21/03

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