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61. 发明专利

TW201006798A 醯亞胺化合物及含有其之化學增幅型抗蝕劑組合物 IMIDE COMPOUND AND CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：酰亚胺化合物及含有其之化学增幅型抗蚀剂组合物 IMIDE COMPOUND AND CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201006798A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：TW098124595
申请日：2009-07-21
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：武元一樹 , 增山達郎 , 平岡崇志
IPC分类号： C07D , G03F
CPC分类号： C07D221/04 , C07D207/46 , C07D209/48 , C07D209/76 , C07D217/22
摘要：本發明係關於一種由式(I)所表示之醯亞胺化合物：
其中R 1 表示C1-C20脂族烴基等，W 1 表示-CO-O-等，Q 1 及Q 2 各獨立地表示氟原子等，且A表示由式(I-1)所表示之基團：
其中A 1 表示-CH2-CH2-等；及一種含有其之化學增幅型抗蝕劑組合物。
简体摘要：本发明系关于一种由式(I)所表示之酰亚胺化合物：其中R 1 表示C1-C20脂族烃基等，W 1 表示-CO-O-等，Q 1 及Q 2 各独立地表示氟原子等，且A表示由式(I-1)所表示之基团：其中A 1 表示-CH2-CH2-等；及一种含有其之化学增幅型抗蚀剂组合物。

62. 发明专利

TWI490203B 醯亞胺化合物及含有其之化學增幅型抗蝕劑組合物有权
简体标题：酰亚胺化合物及含有其之化学增幅型抗蚀剂组合物
公开(公告)号：TWI490203B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW098124595
申请日：2009-07-21
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：武元一樹 , TAKEMOTO, ICHIKI , 增山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI
IPC分类号： C07D209/76 , C07D221/14 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： C07D221/04 , C07D207/46 , C07D209/48 , C07D209/76 , C07D217/22

63. 发明专利

JP2016527229A アモルファステコビリマット調製审中-公开
标题翻译：非晶杠杆拓垫准备
公开(公告)号：JP2016527229A
公开(公告)日：2016-09-08
申请号：JP2016526997
申请日：2014-07-11
申请人：シガ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド
发明人：シャンタクマール・アール・チャヴァナギマット , エヌ・ケー・ピーター・サミュエル , ジョセフ・パズ , イン・タン , デニス・イー・フルビー
IPC分类号： C07D209/76 , A61K31/403
CPC分类号： A61K31/4035 , A61K9/1694 , A61K47/10 , A61K47/32 , A61K47/38 , C07D209/70 , C07D209/76
摘要：ウイルス感染およびこれと関連する疾患、特にオルソポックスウイルスにより引き起こされるそれらのウイルス感染および関連疾患の治療または予防のための、アモルファスN−[(3aR,4R,4aR,5aS,6S,6aS)−3,3a,4,4a,5,5a,6,6a−オクタヒドロ−1,3−ジオキソ−4,6−エテノシクロプロプ[f]イソインドール−2(1H)−イル]−4−(トリフルオロメチル)−ベンズアミドの調製のための方法が開示される。N−[(3aR,4R,4aR,5aS,6S,6aS)−3,3a,4,4a,5,5a,6,6a−オクタヒドロ−1,3−ジオキソ−4,6−エテノシクロプロプ[f]イソインドール−2(1H)−イル]−4−(トリフルオロメチル)−ベンズアミドのアモルファス固体分散物の調製のための方法もまた、開示される。
摘要翻译：疾病相关的病毒感染和此，所造成的正痘病毒的治疗或预防的那些病毒感染和相关疾病，尤其是无定形的N - [（3AR，4R，4AR，5AS，6S，6AS）-3- ，3A，甲基-4,4a，氧基-5,5a，6,6a-八氢-1,3-二氧代-4,6-亚乙烯基乙氰菊酯触发器并[f]异吲哚-2（1H） - 基] -4-（三氟甲基） - 方法苯甲酰胺的制备被公开。 N - [（3AR，4R，4AR，5AS，6S，6AS）-3,3a，甲基-4,4a，氧基-5,5a，6,6a-八氢-1,3-二氧代-4,6-亚乙烯基环消虫触发器并[f ]异吲哚-2（1H） - 基] -4-（三氟甲基） - 为无定形固体分散体的苯甲酰胺的制备方法也公开了。

65. 发明专利

JP2010053121A Acid generator for chemically amplified photoresist composition, method for producing the acid generator, and the chemically amplified photoresist composition 审中-公开
标题翻译：用于化学放大光电组合物的酸发生器，生产酸生成器的方法和化学放大的光电组合物
公开(公告)号：JP2010053121A
公开(公告)日：2010-03-11
申请号：JP2009172871
申请日：2009-07-24
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： TAKEMOTO KAZUKI , MASUYAMA TATSURO , HIRAOKA TAKASHI
IPC分类号： C07D207/46 , C07B61/00 , C07D209/76 , C07D217/24 , C07D221/14 , C07D405/12 , C08F20/38 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D221/04 , C07D207/46 , C07D209/48 , C07D209/76 , C07D217/22
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an acid generator giving a chemically amplified photoresist composition forming good patterns and exhibiting high resolution.
SOLUTION: The acid generator is a compound represented by formula (I), wherein R
1 is a 1-20C aliphatic hydrocarbon group, a 5-10C aryl group or the like; W
1 is -CO-O-, -O-CO-, -CH
2 -O-, -O-CH
2 - or the like; Q
1 and Q
2 are each H, F, 1-6C alkyl or the like; A is a group of formula (I-1); and A
1 is -CH
2 -CH
2 -, -CH
2 -CH
2 -CH
2 -, -CH=CH- or -CH=CH-CH
2 -.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种产生化学放大光致抗蚀剂组合物的酸产生剂，其形成良好的图案并表现出高分辨率。解决方案：酸产生剂是由式（I）表示的化合物，其中R 1是一个1-20C的脂族烃基，一个5-10C的芳基等; W 1 是-CO-O-，-O-CO-，-CH -O-O-，-O-CH 2或类似; Q 1 和Q 2 分别为H，F，1-6C烷基等; A是式（I-1）的基团; 且A 1 是-CH 2 SB 2，-CH 2 SB 2， / SB> -CH

66. 发明专利

JP2003509492A Cycloalkyl bicycloheptenyl exhibition carboximidothioic de 审中-公开
公开(公告)号：JP2003509492A
公开(公告)日：2003-03-11
申请号：JP2001524968
申请日：2000-08-24
申请人：イーグルビュー・テクノロジーズ・インコーポレーテッド
发明人：ウォーレン，ジャック
IPC分类号： C07C211/36 , C07D209/76 , C08F32/08 , C08G63/199 , C08G63/40 , C08G73/10 , C08G73/12 , C08G73/16
CPC分类号： C07D209/76 , C08G63/40 , C08G73/12 , C08G73/16
摘要： (57)【要約】本発明は、化学式（Ｉ）の化合物を提供する。【化１】 (式中、R
1 及びR
2 は独立して水素、(C
1 -C
7 )アルキル、(C
2 -C
7 )アルケニル、又は(C
2 -C
7 )アルキニルであり;X
1 及びX
2 は独立して存在しても存在しなくてもよく、存在する場合には、独立して(C
1 -C
7 )アルキレン又は(C
2 -C
7 )アルケニレンであり;Y
1 及びY
2 は独立して(C
4 -C
8 )シクロアルキレン又は(C
4 -C
8 )シクロアルケニレンであって、これらは(C
1 -C
7 )アルキル、(C
2 -C
7 )アルケニル、又はカルボキシルから選ばれた4個までの同一又は異なる基で置換されないか又は置換され;Zは(C
1 -C

12 )アルキレン、(C
2 -C
12 )アルケニレン、DEF、但し、DとFは独立して(C
1 -C
12 )アルキレン又は(C
2 -C
12 )アルケニレンであり、Eは(C
4 -C
8 )シクロアルキレン又は(C
4 -C
8 )シクロアルケニレンであって、これらは(C
1 -C
7 )アルキル又は(C
2 -C
7 )アルケニルから選ばれた４個までの同一又は異なる基で置換されないか又は置換され;又はGHI、但し、GとIは独立して(C
1 -C
12 )アルキレン又は(C
2 -C
12 )アルケニレンであり、HはN-(C
1 -C
7 )アルキル、N-(C
2 -C
7 )アルケニル、N-(C
4 -C
8 )シクロアルキル又はN-(C
4 -C
8 )シクロアルケニルであり、これらは(C
1 -C
7 )アルキル又は(C

2 -C
7 )アルケニルから選ばれた4個までの同一又は異なる基で置換されないか又は置換され;又はN-(C
1 -C
7 )アルキル(C
4 -C
8 )シクロアルキルであり、これは(C
1 -C
7 )アルキル又は(C
2 -C
7 )アルケニルから選ばれた4個までの同一又は異なる基で置換されないか又は置換される。 )

67. 发明专利

JP2003502401A C-2 hydroxyl protecting -n- acyl (2r, 3s) -3- phenylisoserine activated esters and methods for their preparation 审中-公开
公开(公告)号：JP2003502401A
公开(公告)日：2003-01-21
申请号：JP2001504877
申请日：2000-06-16
申请人：ナプロバイオセラピューティクス,インコーポレイテッド
发明人：ジグムント、ヤン , チャンダー、マダヴィ、シー , マッケスニー、ジェイムズ、ディー
IPC分类号： C07D207/46 , C07C233/47 , C07C233/49 , C07C233/51 , C07C233/87 , C07C271/22 , C07C271/54 , C07D207/40 , C07D207/404 , C07D207/44 , C07D207/448 , C07D209/48 , C07D209/52 , C07D209/76 , C07D305/14
CPC分类号： C07D207/404 , C07C233/47 , C07C233/51 , C07C233/87 , C07C271/22 , C07D207/448 , C07D209/48 , C07D209/52 , C07D209/76 , C07D305/14
摘要： (57)【要約】本発明はパクリタキセル、パクリタキセル類縁体およびそれらの中間体の製造に有用な、以下の式（式中Ｐ
１はヒドロキシル保護基であり、Ｒ
１はアルキル基、オレフィン基、芳香族基、Ｏ−アルキル基、Ｏ−オレフィン基、またはＯ−芳香族基であり、Ｚは置換フェニル残基またはＮ−イミド残基である）を有する化合物を提供する。本発明の化合物を形成する方法も提供される。

68. 发明专利

JPS6118761A Bicyclic imide, manufacture and hardenable mixture 失效
标题翻译：双相胶囊，制造和可再生混合
公开(公告)号：JPS6118761A
公开(公告)日：1986-01-27
申请号：JP14146985
申请日：1985-06-27
申请人： Ciba Geigy Ag
发明人： ARUFURETSUDO RENNAA
IPC分类号： C07D209/76 , C08F12/32 , C08G59/40 , C08G59/50 , C08G59/68 , C08L63/00
CPC分类号： C07D209/76 , C08F12/32

69. 发明公开

KR1020160062208A 다형체 형태 ＳＴ―２４６ 및 제조방법 无效
标题翻译：多形态ST-246及其制备方法
公开(公告)号：KR1020160062208A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：KR1020167013275
申请日：2011-03-23
申请人： 시가 테크놀로지스, 인크.
发明人： 트야바나기마트,샨싸쿠마르,알. , 스톤,멜리아라니,에이.씨.엘. , 웨이머스,윌리엄,씨. , 넬슨,다일란 , 볼켄,토브,씨. , 흐루비,데니스,이. , 오닐,미쉘,에이치. , 스위트애플,개리 , 맥클로한,켈리,에이.
IPC分类号： C07D209/76 , C07D209/44 , C07D209/48 , A61K31/4035 , A61K9/00
CPC分类号： A61K31/404 , A61K9/1652 , A61K9/4866 , C07D209/70 , C07D209/76 , A61K9/0053 , A61K31/4035 , C07B2200/13 , C07D209/44 , C07D209/48
摘要： 4-트라이플루오로메틸-N-(3,3a,4,4a,5,5a,6,6a-옥타하이드로-1,3-다이옥소-4,6-에테노사이클로프로프[f]아이소인돌-2(1H)-일)-벤즈아마이드의다형체뿐만아니라그의합성방법및 약제학적조성물이개시된다.

70. 发明授权

KR100673500B1 Ｎ-술포닐옥시이미드 화합물 및 이를 이용하는 감방사선성수지 조성물 有权
标题翻译： N-磺酰氧基酰亚胺化合物和使用其的辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：KR100673500B1
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：KR1020000066069
申请日：2000-11-08
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 왕,용 , 고바야시,에이찌 , 미야지,마사아끼 , 누마따,준 , 시모까와,쯔또무
IPC分类号： G03F7/028
CPC分类号： C07D207/46 , C07D209/76 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , Y10S430/121
摘要： 본 발명은 고감도이고 효율적으로 산을 발생할 수 있으며, 휘발 또는 부반응의 문제가 없어 레지스트 보존시에 암반응(暗反應)을 억제할 수 있고, 감방사선성 화학증폭형 레지스트의 감방사선성 산발생제 성분으로서 유용한 N-술포닐옥시이미드 화합물, 및 그것을 이용한 포지형 및 네가형 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 N-술포닐옥시이미드 화합물, 및 상기 화합물을 감방사선성 산발생제로서 함유하는 화학증폭형의 포지형 및 네가형 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.

식 중, X는 단일 결합 또는 이중 결합을 나타내고,
Y와 Z는 독립적으로 수소 원자 등을 나타내거나, 공동으로 환상 구조를 형성하고,
R은 하기 화학식 2로 표시되는 기이다.

식 중, X
1 은 에스테르 결합을 갖는 유기기이고,
R
1 은 알킬기 또는 알콕실기를 나타내고,
m은 1 내지 11의 정수이고,
n은 O 내지 10의 정수이고,
m+n≤11를 만족한다.
화학증폭형 레지스트, 포지형 감방사선성 수지 조성물, 네가형 감방사선성 수지 조성물, 감방사선성 산발생제, N-술포닐옥시이미드 화합물, 알칼리 가용성 수지.

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