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1. 发明专利

TWI536098B 阻劑組成物與製造阻劑圖案的方法有权
简体标题：阻剂组成物与制造阻剂图案的方法
公开(公告)号：TWI536098B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW101125772
申请日：2012-07-18
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI , 落合光良 , OCHIAI, MITSUYOSHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/18 , C07C381/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041

2. 发明专利

TWI490203B 醯亞胺化合物及含有其之化學增幅型抗蝕劑組合物有权
简体标题：酰亚胺化合物及含有其之化学增幅型抗蚀剂组合物
公开(公告)号：TWI490203B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW098124595
申请日：2009-07-21
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：武元一樹 , TAKEMOTO, ICHIKI , 增山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI
IPC分类号： C07D209/76 , C07D221/14 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： C07D221/04 , C07D207/46 , C07D209/48 , C07D209/76 , C07D217/22

3. 发明专利

TWI453542B 化學增幅正型光阻劑組合物有权
简体标题：化学增幅正型光阻剂组合物
公开(公告)号：TWI453542B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW098126404
申请日：2009-08-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：島田雅彥 , SHIMADA, MASAHIKO , 橋本和彥 , HASHIMOTO, KAZUHIKO , 山口訓史 , YAMAGUCHI, SATOSHI , 金淳信 , KIM, SOON SHIN , 高田佳幸 , TAKATA, YOSHIYUKI , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F20/10 , C07C309/12 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111

4. 发明专利

TW201312263A 阻劑組成物與製造阻劑圖案的方法审中-公开
简体标题：阻剂组成物与制造阻剂图案的方法
公开(公告)号：TW201312263A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101125752
申请日：2012-07-18
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI , 落合光良 , OCHIAI, MITSUYOSHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/24 , C07C381/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：一種阻劑組成物，其具有：具有式(I)所示結構單元之樹脂，不溶或難溶於鹼性水溶液中但藉由酸的作用變成可溶於鹼性水溶液且不包含式(I)所示結構單元之樹脂，以及酸產生劑，其中，R1、A1、A13、A14、X12、Q1、Q2、L1、環W、Rf1與Rf2、n及Z+係如說明書定義。
简体摘要：一种阻剂组成物，其具有：具有式(I)所示结构单元之树脂，不溶或难溶于碱性水溶液中但借由酸的作用变成可溶于碱性水溶液且不包含式(I)所示结构单元之树脂，以及酸产生剂，其中，R1、A1、A13、A14、X12、Q1、Q2、L1、环W、Rf1与Rf2、n及Z+系如说明书定义。

5. 发明专利

TWI545397B 阻劑組成物與製造阻劑圖案的方法有权
简体标题：阻剂组成物与制造阻剂图案的方法
公开(公告)号：TWI545397B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW101125774
申请日：2012-07-18
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI , 土反本宏 , SAKAMOTO, HIROMU
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/18 , C08F20/24 , C08F20/28 , C07C381/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041

6. 发明专利

TWI513678B 鹽、酸產生劑及光阻組成物有权
简体标题：盐、酸产生剂及光阻组成物
公开(公告)号：TWI513678B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW100122401
申请日：2011-06-27
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI , 坂本宏 , SAKAMOTO, HIROMU , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/02 , G03F7/004 , C08K5/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D207/12 , C07D211/46 , C07D233/60 , C07D307/77 , C07D327/08 , G03F7/0046 , G03F7/0397

7. 发明专利

TW201116935A 光阻組成物 PHOTORESIST COMPOSITION 审中-公开
简体标题：光阻组成物 PHOTORESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TW201116935A
公开(公告)日：2011-05-16
申请号：TW099131005
申请日：2010-09-14
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 坂本宏 , 杉原昌子 , 平岡崇志
IPC分类号： G03F , C08F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046
摘要：本發明提供一種光阻組成物，包括酸產生劑及含有衍生自式(I)所示之單體的結構單元的樹脂：
式中，R 1 表示氫原子等，R 2 表示氫原子或C1-C4烷基，A 1 表示單鍵等，以及B 1 表示式(1a)所示的基團：
式中，R 3 、R 4 及R 5 各自獨立地表示C1-C16脂肪族烴基，且R 4 及R 5 可彼此鍵結以與R 4 及R 5 所鍵結之碳原子一起形成C3-C18環，具有內酯結構之C4-C20飽和環狀基團，或具有至少一個羥基之C5-C20飽和環狀烴基。
简体摘要：本发明提供一种光阻组成物，包括酸产生剂及含有衍生自式(I)所示之单体的结构单元的树脂：式中，R 1 表示氢原子等，R 2 表示氢原子或C1-C4烷基，A 1 表示单键等，以及B 1 表达式(1a)所示的基团：式中，R 3 、R 4 及R 5 各自独立地表示C1-C16脂肪族烃基，且R 4 及R 5 可彼此键结以与R 4 及R 5 所键结之碳原子一起形成C3-C18环，具有内酯结构之C4-C20饱和环状基团，或具有至少一个羟基之C5-C20饱和环状烃基。

8. 发明专利

TW201009516A 阻劑處理方法 METHOD FOR TREATING A RESIST 审中-公开
简体标题：阻剂处理方法 METHOD FOR TREATING A RESIST
公开(公告)号：TW201009516A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098119874
申请日：2009-06-15
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：畑光宏 , 平岡崇志 , 重松淳二
IPC分类号： G03F , C07C
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40
摘要：本發明之目的在於提供一種於雙重圖型構成法等多重圖型構成法中，以極微細且精度良好之方式形成由第1次的阻劑圖型形成用阻劑組成物製得之圖型之阻劑處理方法。詳言之，本發明為一種包含：將含有具有對酸不安定的基、對鹼水溶液為不溶或難溶、與酸作用後能溶解於鹼水溶液之樹脂(A)、光酸產生劑(B)、以及交聯劑(C)之第1阻劑組成物塗佈於基體上、乾燥製得第1阻劑膜、第1阻劑膜之預烘烤處理、曝光處理、曝光後烘烤處理、顯像、將所得之第1阻劑圖型在較第1阻劑組成物的玻璃化溫度為低的溫度下保持既定時間然後在較前述玻璃化溫度為高的溫度下保持既定時間之硬烘烤處理、於其上進行第2阻劑組成物之塗佈並乾燥以製得第2阻劑膜、預烘烤處理、曝光處理、曝光後烘烤處理、以及顯影等步驟之阻劑處理方法。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种于双重图型构成法等多重图型构成法中，以极微细且精度良好之方式形成由第1次的阻剂图型形成用阻剂组成物制得之图型之阻剂处理方法。详言之，本发明为一种包含：将含有具有对酸不安定的基、对碱水溶液为不溶或难溶、与酸作用后能溶解于碱水溶液之树脂(A)、光酸产生剂(B)、以及交联剂(C)之第1阻剂组成物涂布于基体上、干燥制得第1阻剂膜、第1阻剂膜之预烘烤处理、曝光处理、曝光后烘烤处理、显像、将所得之第1阻剂图型在较第1阻剂组成物的玻璃化温度为低的温度下保持既定时间然后在较前述玻璃化温度为高的温度下保持既定时间之硬烘烤处理、于其上进行第2阻剂组成物之涂布并干燥以制得第2阻剂膜、预烘烤处理、曝光处理、曝光后烘烤处理、以及显影等步骤之阻剂处理方法。

9. 发明专利

TWI492923B 鹽，及含有該鹽之光阻組成物有权
简体标题：盐，及含有该盐之光阻组成物
公开(公告)号：TWI492923B
公开(公告)日：2015-07-21
申请号：TW100135854
申请日：2011-10-04
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 落合光良 , OCHIAI, MITSUYOSHI , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI
IPC分类号： C07C381/12 , C07D319/02 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C07D321/10 , C07D321/12 , C07D327/06 , C07D327/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041

10. 发明专利

TWI490648B 化學增幅型光阻組成物及形成光阻圖案的方法有权
简体标题：化学增幅型光阻组成物及形成光阻图案的方法
公开(公告)号：TWI490648B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW099120664
申请日：2010-06-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 平岡崇志 , HIRAOKA, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C07C309/04 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F2220/303 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/2041

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