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61. 发明申请

WO2006069725A1 HOCHAPERTURIGES OBJEKTIV MIT OBSKURIERTER PUPILLE 审中-公开
标题翻译：随着瞳孔OBSKURIERTER高口径的目标
公开(公告)号：WO2006069725A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/EP2005/013841
申请日：2005-12-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm
发明人： MANN, Hans-Jürgen , SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B13/143 , G02B17/0657 , G03F7/70225
摘要： Die Erfindung betrifft ein Objektiv, insbesondere Mikrolithographie-Projektionsobjektiv, insbesondere für Wellenlängen ≤ 193 nm umfassend ein erstes Teilobjektiv (100), das wenigstens einen Spiegel aufweist, wobei der Spiegel (S1) keine Öffnung für einen Durchtritt eines Strahlenbüschels aufweist und ein zweites Teilobjektiv (200), das wenigstens einen primären Konkavspiegel (SK1) und einen sekundären Konkavspiegel (SK2) aufweist, wobei der primäre Konkavspiegel,(SK1) und der sekundäre Konkavspiegel (SK2) eine Öffnung für den Durchtritt des Strahlbüschels aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种透镜，特别是微光刻投射物镜，尤其是用于波长= 193纳米，其包括具有至少一个反射镜的第一部分的目标（100），其中，所述镜子（S1）具有用于射线束和第二部分的目标的通道没有开口（ 200），所述至少一个初级凹面镜（SK1）和辅凹面镜（SK2），其中所述主凹面镜（SK1），并具有用于将光束的通过的开口二次凹面镜（SK2）。

62. 发明申请

WO2003096356A3 REFLEKTIVES RÖNTGENMIKROSKOP UND INSPEKTIONSSYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLÄNGEN ≤ 100NM 审中-公开
公开(公告)号：WO2003096356A3
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/EP2003/004803
申请日：2003-05-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
发明人： MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
IPC分类号： G21K7/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein reflektives Röntgenmikroskop zur Untersuchung eines Objektes in einer Objektebene, wobei das Objekt mit Strahlung einer Wellenlänge

63. 发明申请

WO2003016977A3 OBJECTIVE WITH PUPIL OBSCURATION 审中-公开
公开(公告)号：WO2003016977A3
公开(公告)日：2003-02-27
申请号：PCT/EP2002/009153
申请日：2002-08-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G02B17/08
摘要： Objective (1) having a first partial objective (3) which projects a first field plane (7) onto an intermediate image (11) and comprises a first convex mirror (13) with a first central mirror aperture (15) and a second concave mirror (17) with a second central mirror aperture (19), the first mirror (13) having a first axial spacing from the second mirror (17 )', and the second mirror (17) having a second axial spacing from the intermediate image (11), and the ratio of the first axial spacing to the second axial spacing having a value of between 0.95 and 1.05, in particular between 0.98 and 1.02, and a second partial objective (5), which projects the intermediate image (11) onto a second field plane (9) and comprises a third concave mirror (21) with a third central mirror aperture (23) and a fourth concave mirror (25) with a fourth central mirror aperture (27) 1 the third mirror (21) having from the second field plane (9) a third axial spacing ZM3-IM which has the following relationship with a numerical aperture NA in the second field plane (9) and with a diameter DUM3 of the third mirror (21) : (I), the objective (1) having a Petzval radius whose absolute value is greater than the axial spacing of the first field plane (7) from the second field plane (9) .

64. 发明申请

WO2010091840A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：成像光学系统和投影曝光安装与这种类型的成像光学系统的微型计算
公开(公告)号：WO2010091840A1
公开(公告)日：2010-08-19
申请号：PCT/EP2010/000795
申请日：2010-02-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , SHAFER, David
发明人： MANN, Hans-Jürgen , SHAFER, David
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0647 , G02B17/0652 , G02B17/0663 , G03F7/7015 , G03F7/7025
摘要： An imaging optical system (7) has a plurality of mirrors (Ml to M6), which via a beam path for imaging light (3) image an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). The imaging optical system (7) has an exit pupil obscuration. At least one of the mirrors (Ml to M4) has no opening for passage of the imaging light (3). The fourth last mirror (M3) in the beam path is concave. Result is an imaging optical system having improved imaging properties without compromise in throughput.
摘要翻译：成像光学系统（7）具有多个反射镜（M1至M6），其经由用于成像光的光束路径（3）将物平面（5）中的物场（4）成像为图像场（8）在图像平面（9）中。成像光学系统（7）具有出射光瞳遮蔽。至少一个反射镜（M1至M4）没有用于成像光（3）通过的开口。光束路径中的第四个后视镜（M3）是凹的。结果是成像光学系统具有改进的成像特性，而不会影响生产量。

65. 发明申请

WO2009121541A1 VORRICHTUNG ZUR MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNG SOWIE VORRICHTUNG ZUR INSPEKTION EINER OBERFLÄCHE EINES SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：装置：用于检查基板的表面的微光刻投影曝光和设备
公开(公告)号：WO2009121541A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/EP2009/002302
申请日：2009-03-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
发明人： MANN, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7026 , G03F7/70233 , G03F7/70666
摘要： Eine Vorrichtung (10) zur mikrolithographischen Projektionsbelichtung wird bereitgestellt. Die Vorrichtung umfasst: ein optisches System (18) zum Abbilden von Maskenstrukturen (16) auf eine Oberfläche (21) eines Substrats (20) durch Projektion der Maskenstrukturen (16) mittels einer Abbildungsstrahlung (13), wobei das optische System (18) zum Betrieb im EUV- und/oder höherfrequenten Wellenlängenbereich konfiguriert ist, sowie einen Messstrahlengang (36) zum Führen einer Messstrahlung (34), wobei der Messstrahlengang (36) derart innerhalb des optischen Systems (18) verläuft, dass das optische System (18) von der Messstrahlung (34) im Betrieb der Vorrichtung (10) nur partiell durchstrahlt wird.
摘要翻译：用于微光刻投射曝光设备（10）被提供。该装置包括：用于在衬底（20）的表面（21）上成像掩模结构（16）的光学系统（18）由成像辐射（13），其中，所述光学系统（18），用于来突出所述掩模结构（16）在EUV和/或更高频率波长范围内工作的配置，以及用于所述光学系统（18）内以这样的方式引导测量光束（34），其中所述测量光束路径（36）的测量光束路径（36），所述光学系统（18）的所述测量辐射（34）的装置（10）的操作期间仅部分地照射。

66. 发明申请

WO2009118130A1 MIKROSKOP UND MIKROSKOPIERVERFAHREN ZUR UNTERSUCHUNG EINES REFLEKTIERENDEN OBJEKTES 审中-公开
标题翻译：显微镜和微复制到一个反射对象的研究
公开(公告)号：WO2009118130A1
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：PCT/EP2009/002060
申请日：2009-03-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G21K4/00 , G21K7/00 , G02B21/00
CPC分类号： G02B21/0076 , G02B21/0016 , G03F1/84 , G03F7/70666 , G21K7/00
摘要： Es wird bereitgestellt ein Mikroskop zur Untersuchung eine reflektierenden Objektes (3) in einer Objektebene (OE), wobei das Objekt mit elektromagnetischer Strahlung einer Wellenlange von kleiner als 100 nm beleuchtet wird, das Mikroskop eine Abbildungsoptik (4), die einen beleuchteten Abschnitt des Objektes (3) vergrößert in eine Bildebene (BE) abbildet, aufweist und wobei die Abbildungsoptik (4) eine Spiegeloptik (8), die den Abschnitt in eine Zwischenbildebene (ZE) abbildet, eine in der Zwischenbildebene (ZE) angeordnete Szintillatorschicht (9) und eine der Szintillatorschicht (9) nachgeordnete Vergroßerungsoptik (10), die ein mittels der Szintillatorschicht erzeugtes Zwischenbild vergrößert in die Bildebene (BE) abbildet, umfaßt, wobei die Spiegeloptik (8) genau zwei Spiegel (11, 12) aufweist, die so ausgebildet sind, daß die Zwischenabbildung bildseitig telezentrisch ist.
摘要翻译：提供了一种用于在物平面（OE），其中，与一个波长的电磁辐射，该目的通过小于100nm照射检查反射物体（3）的显微镜，显微镜成像光学器件（4），其具有所述对象的照明部分（3）增加在图像平面（BE）的映射，并且其中，所述成像光学器件（4）包括一个反射透镜（8），该部分映射在一个中间像平面（ZE），一个在中间像平面（ZE）布置闪烁体层（9）和闪烁体层中的一个（9）下游Vergroßerungsoptik（10），其放大由在图像平面中的闪烁体层中间图像产生的图像（BE）的地图,,所述反射镜的光学元件（8）正好两个反射镜（11,12），它们形成该中间图像是图像侧远心的。

67. 发明申请

WO2009053023A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于包含这种类型的成像光学系统的微型计算机的成像光学系统和投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009053023A2
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/EP2008/008886
申请日：2008-10-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system (7) with a plurality of mirrors (M1 to M10) images an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). In the light path between non-obscured mirrors (M1 to M8), imaging rays (15) pass through at least one multiple pass-through region between spaced-apart planes which are arranged parallel to the object plane (5) and/or parallel to the image plane (9). The imaging optical system has at least one pupil plane (76, 77, 78, 17). Said pupil plane (76, 77, 78, 17) is arranged outside the multiple pass-through region between the non- obscured mirrors (M1 to M6). This results in an imaging optical system which provides for an easier correction of image errors. Other types of imaging optical systems with a correspondingly easier correction of image errors are presented as well.
摘要翻译：具有多个反射镜（M1至M10）的成像光学系统（7）将物平面（5）中的物体场（4）成像到图像平面（9）中的图像场（8）。在非遮蔽镜（M1至M8）之间的光路中，成像光线（15）穿过平行于物平面（5）和/或平行的平行布置的间隔平面之间的至少一个多通道区域到图像平面（9）。成像光学系统具有至少一个光瞳平面（76,77,78,17）。所述瞳孔平面（76,77,78,17）布置在非遮蔽镜（M1至M6）之间的多个通过区域的外侧。这导致成像光学系统，其提供更容易校正图像误差。还提出了具有相应更容易校正图像误差的其他类型的成像光学系统。

68. 发明申请

WO2009052925A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICRO-LITHOGRAPHY COMPRISING AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE, AND METHOD FOR PRODUCING A MICROSTRUCTURED COMPONENT WITH A PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：成像光学系统，包含该类型的成像光学系统的微观曝光安装的投影曝光安装以及用于生产具有该类型的投影曝光装置的微结构元件的方法
公开(公告)号：WO2009052925A1
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/EP2008/008336
申请日：2008-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/084
摘要： One embodiment of an imaging optical system (8) has exclusively mirrors as beam-guiding optical components. The imaging optical system (8) images at least one object field (4, 5) in at least one object plane (6) into at least one image field (9, 10) in at least one image plane (11). In the imaging optical system (8), there are two object fields (4, 5) which are spatially separated from one another and with which two image fields (9, 10), which are likewise spatially separated from one another, are associated. This resuits in an imaging optical system with increased flexibility of use.
摘要翻译：成像光学系统（8）的一个实施例专门用作光束引导光学部件。成像光学系统（8）将至少一个物平面（6）中的至少一个物场（4,5）成像为至少一个图像平面（11）中的至少一个图像场（9,10）。在成像光学系统（8）中，存在彼此空间分离的两个对象字段（4,5），并且两个彼此空间上分离的图像字段（9,10）相关联。这种成像光学系统在使用灵活性方面有所改进。

69. 发明申请

WO2008113858A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINES ELEMENTS MIT MINDESTENS EINER FREIFORMFLÄCHE MIT HOHER FORMGENAUIGKEIT UND GERINGER OBERFLÄCHENRAUHIGKEIT 审中-公开
标题翻译：方法和设备制作元件与至少一个自由形式表面的高形状精度和表面粗糙度低
公开(公告)号：WO2008113858A2
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/EP2008/053398
申请日：2008-03-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BÖHM, Thure , BURKART, Stefan , MANN, Hans-Jürgen , CHAN, Danny , MALTOR, Holger
发明人： BÖHM, Thure , BURKART, Stefan , MANN, Hans-Jürgen , CHAN, Danny , MALTOR, Holger
IPC分类号： B24B13/00
CPC分类号： B24B13/0043 , Y10T428/24355
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Elements mit mindestens einer beliebig frei geformten Fläche (Freiformfläche) mit hoher Formgenauigkeit und geringer Oberflächenrauhigkeit sowie ein optisches Element mit einer optischen Freiformfläche und eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem entsprechenden optischen Element, wobei die Freiformfläche durch mindestens einen ersten Bearbeitungsschritt mit einem formgebenden Materialbearbeitungsverfahren, bei dem zumindest eine Annäherung an die gewünschte Freiformfläche (Zielform) erfolgt, und mindestens einem zweiten Schritt mit einem die Oberfläche glättenden Materialbearbeitungsverfahren erhalten wird, wobei mindestens während eines zweiten Bearbeitungsschrittes der glättenden Materialbearbeitung das zu bearbeitende Element (1) durch Krafteinleitung derart elastisch verspannt ist, dass die zu glättende Freiformfläche durch Glättprozesse für sphärische, plane oder asphärische Oberflächen bearbeitbar ist. Die Erfindung betrifft ferner eine entsprechende Vorrichtung zum Glätten einer beliebig frei geformten Fläche (Freiformfläche) eines Elements mit hoher Formgenauigkeit und geringer Oberflächenrauhigkeit mit einer Halterung zur Aufnahme des zu bearbeitenden Elements und einem Glättwerkzeug zur glättenden Bearbeitung der Freiformfläche, wobei die Aufnahme mindestens einen Aktor (6) zur Ausübung einer Kraft auf das zu bearbeitende Element aufweist, so dass das zu bearbeitende Element in eine intermediäre Form (2") elastisch verspannt ist, so dass die zu glättende Freiformfläche mit dem Glättwerkzeug durch Glättprozesse für sphärische, plane oder asphärische Oberflächen bearbeitbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于具有至少一个任意地自由形成的表面（自由曲面）与形式和低的表面粗糙度的精度高以及具有用于微光刻光学自由形式表面和投射曝光系统与相应的光学元件，其中，所述自由形态的表面由光学元件产生的元件至少用模制材料处理方法，其中至少一个近似为所需的自由形式表面（目标形状）的第一加工步骤中进行，和至少一个第二步骤中，用表面平滑化，其中在平滑材料处理元件的第二处理步骤，用于至少编辑材料的加工方法获得的（1）通过的力，该自由曲面以通过平滑球形，平面，或一个进程被平滑应用弹性支撑球形表面是可编辑的。本发明还涉及一种相应的装置，用于保持待加工的构件和用于自由形式表面的平滑化处理的平滑化工具，其中所述接收至少一个致动器平滑用的保持件的形式和低的表面粗糙度的精度高的元件的任意自由曲面（自由曲面）（ 6），用于在元件上施加力，以进行处理，从而使待处理的部件（在中间形式2“）被弹性地通过平滑球形，平面，或非球面表面处理强调与平滑工具处理，使得被平滑的自由曲面是。

70. 发明申请

WO2006094729A2 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION SYSTEM WITH AN ACCESSIBLE DIAPHRAGM OR APERTURE STOP 审中-公开
标题翻译：具有可接触的膜片或光刻胶的微型投影系统
公开(公告)号：WO2006094729A2
公开(公告)日：2006-09-14
申请号：PCT/EP2006/002005
申请日：2006-03-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/0647 , G03F7/70233 , G03F7/7025 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/708
摘要： The invention relates to a microlithography projection lens for wavelengths ≤ 248 nm ≤, preferably ≤ 193 mm, in particular EUV lithography for wavelengths ranging from 1 - 30 nm for imaging an object field in an object plane onto an image field in an image plane, the microlithography projection lens developed in such a manner that provision is made for an accessible diaphragm plane, into which for instance an iris diaphragm can be introduced.
摘要翻译：本发明涉及用于波长= 248nm =，优选= 193mm的微光刻投影透镜，特别是用于波长范围为1至30nm的EUV光刻，用于将物平面中的物场成像到图像平面中的图像场上，该微光刻投影透镜以对可访问的光阑平面进行设置的方式展开，其中可以引入例如虹膜光阑。

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