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61. 发明专利

TW455751B 流體可變型流量控制裝置有权
简体标题：流体可变型流量控制设备
公开(公告)号：TW455751B
公开(公告)日：2001-09-21
申请号：TW088113823
申请日：1999-08-12
申请人：大見忠弘 , 東京威力科創股份有限公司 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 西野功二
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0658 , G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之流量控制裝置係由:設成變換自如之孔口;控制閥;配設於控制閥和孔口間之壓力偵測器;運算所偵測壓力用之流量運算電路;輸出流量設定信號的流量設定電路;變換運算流量信號為切換(轉換)運算流量信號之沆量變換電路;及切換運算流量信號和流量設定信號之差做為控制信號來輸出至控制閥之驅動部的運算控制電路所構成，而以開閉控制閥來使之控制信號成為零，以控制孔口下流側之流量者。
简体摘要：本发明之流量控制设备系由:设成变换自如之孔口;控制阀;配设于控制阀和孔口间之压力侦测器;运算所侦测压力用之流量运算电路;输出流量设置信号的流量设置电路;变换运算流量信号为切换(转换)运算流量信号之沆量变换电路;及切换运算流量信号和流量设置信号之差做为控制信号来输出至控制阀之驱动部的运算控制电路所构成，而以开闭控制阀来使之控制信号成为零，以控制孔口下流侧之流量者。

62. 发明专利

TW466336B 壓力偵知器的安裝構造有权
简体标题：压力侦知器的安装构造
公开(公告)号：TW466336B
公开(公告)日：2001-12-01
申请号：TW089120571
申请日：2000-10-03
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 廣瀨隆 , 出田英二 , 池田信一 , 上肥亮介 , 西野功二 , 吉川和博 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 深澤和夫 , 小泉浩 , 長岡秀樹
IPC分类号： G01L
CPC分类号： G01L19/0023 , G01L19/0645 , G01L19/145 , G01L19/147
摘要：為提供一種將隔膜型壓力偵知器組裝於設在管路或機器等安裝用具時，可防止加於壓力偵知器之應力所起隔膜之變形，及組裝前之特性較大變化之壓力偵知器的安裝構造。
因此，本發明係在將具隔膜之隔膜座，與內藏有藉上述隔膜變位而移動之感測元件的感測元件座組合所成壓力偵知器，介由墊片插設於配管路或機械裝置所設安裝用具本體之插設孔內，且藉自上方插入於插設孔之抑壓構件壓任促使壓力偵知器以氣密固定之壓力偵知器的安裝構造，使抑壓構件抵觸於上述隔膜座本體部上面及使墊片抵觸於隔膜座本體部底面同時，在上述本體部底面與墊片抵觸部內側位置形成環狀淺槽，而藉該淺槽吸收因抑壓構件之抑押所產生之變形。
简体摘要：为提供一种将隔膜型压力侦知器组装于设在管路或机器等安装用具时，可防止加于压力侦知器之应力所起隔膜之变形，及组装前之特性较大变化之压力侦知器的安装构造。因此，本发明系在将具隔膜之隔膜座，与内藏有藉上述隔膜变位而移动之传感组件的传感组件座组合所成压力侦知器，介由垫片插设于配管路或机械设备所设安装用具本体之插设孔内，且藉自上方插入于插设孔之抑压构件压任促使压力侦知器以气密固定之压力侦知器的安装构造，使抑压构件抵触于上述隔膜座本体部上面及使垫片抵触于隔膜座本体部底面同时，在上述本体部底面与垫片抵触部内侧位置形成环状浅槽，而藉该浅槽吸收因抑压构件之抑押所产生之变形。

63. 发明专利

TW554164B 壓力感測器、壓力控制裝置及壓力式流量控制裝置之溫度偏移修正裝置有权
简体标题：压力传感器、压力控制设备及压力式流量控制设备之温度偏移修正设备
公开(公告)号：TW554164B
公开(公告)日：2003-09-21
申请号：TW091135190
申请日：2002-12-04
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 杉山一彥 , 西野功二 , 宇野富雄 , 中村修 , 松本篤諮 , 土肥亮介 , 池田信一
IPC分类号： G01L
CPC分类号： G05D7/0635 , G01D3/022 , G01F1/50 , G01F15/046 , G01L9/025
摘要：本發明之技術課題在於開發自動修正壓力感測器的溫度偏移，不管溫度變動如何，均可正確檢測壓力的壓力感測器、壓力控制裝置及流量控制裝置。
本發明之解決手段在於，本發明壓力式流量控制裝置之溫度偏移修正裝置在孔板4與控制閥22之間設置檢測上游側壓力P1的上游側壓力感測器10，一面以上游側壓力P1運算孔板通過流量，一面藉由控制閥22的啟開控制孔板通過流量的壓力式流量控制裝置中，包括溫度感測器14，其測定流體溫度；記憶手段64，其儲存流體溫度T與上游側壓力感測器10的輸出偏移的關係；以及溫度偏移修正手段，其在流體溫度T變化情形下，根據記憶手段64的資料，運算上游側壓力感測器10的輸出偏移量，以此運算輸出偏移量消去並修正上游側壓力感測器10的輸出偏移。藉此構造，自動修正壓力感測器的溫度偏移，可作正確的流量控制。
简体摘要：本发明之技术课题在于开发自动修正压力传感器的温度偏移，不管温度变动如何，均可正确检测压力的压力传感器、压力控制设备及流量控制设备。本发明之解决手段在于，本发明压力式流量控制设备之温度偏移修正设备在孔板4与控制阀22之间设置检测上游侧压力P1的上游侧压力传感器10，一面以上游侧压力P1运算孔板通过流量，一面借由控制阀22的启开控制孔板通过流量的压力式流量控制设备中，包括温度传感器14，其测定流体温度；记忆手段64，其存储流体温度T与上游侧压力传感器10的输出偏移的关系；以及温度偏移修正手段，其在流体温度T变化情形下，根据记忆手段64的数据，运算上游侧压力传感器10的输出偏移量，以此运算输出偏移量消去并修正上游侧压力传感器10的输出偏移。借此构造，自动修正压力传感器的温度偏移，可作正确的流量控制。

64. 发明专利

TW463076B 壓力式流量控制裝置之流量異常檢知方法有权
简体标题：压力式流量控制设备之流量异常检知方法
公开(公告)号：TW463076B
公开(公告)日：2001-11-11
申请号：TW089116036
申请日：2000-08-09
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘 , 飯田精一
发明人：大見忠弘 , 飯田精一 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 深澤和夫 , 小泉浩 , 長岡秀樹 , 宇野富雄 , 西野功二 , 池田信一 , 土肥亮介 , 出田英二
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05B23/0235 , G05B23/0256 , G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8326
摘要：於利用孔口(orifice)之壓力式流量控制裝置，有關邊控制流量也可用簡單構成進行檢知孔口堵塞之技術。
本發明之解決手段，係將上游側壓力Pl保持為下游側壓力P2之大約2倍以上將下游側之流量Qc以Qc= KPl(K:常數)演算，藉此演算流量Qc與設定流量 Qs之差值訊號QY以開閉控制控制閥CV之流量控制裝置FCS，提案一種從另設之檢定電路或流量設定電路輸出具有檢定振幅VO之檢定用訊號△QS，而應答於此來測定上游側壓力Pl之變動壓力△Pl之壓力振幅V，當此壓力振幅V變成較界限振幅Vt為小時告知孔口堵塞之流量異常檢知方法。
若從檢定電路或流量設定流量重疊於恒常設定流量 QSO輸出檢定用訊號△QS時，由恒常設定流量QSO邊控制流量就可檢知流量異常。
简体摘要：于利用孔口(orifice)之压力式流量控制设备，有关边控制流量也可用简单构成进行检知孔口堵塞之技术。本发明之解决手段，系将上游侧压力Pl保持为下游侧压力P2之大约2倍以上将下游侧之流量Qc以Qc= KPl(K:常数)演算，借此演算流量Qc与设置流量 Qs之差值信号QY以开闭控制控制阀CV之流量控制设备FCS，提案一种从另设之检定电路或流量设置电路输出具有检定振幅VO之检定用信号△QS，而应答于此来测定上游侧压力Pl之变动压力△Pl之压力振幅V，当此压力振幅V变成较界限振幅Vt为小时告知孔口堵塞之流量异常检知方法。若从检定电路或流量设置流量重叠于恒常设置流量 QSO输出检定用信号△QS时，由恒常设置流量QSO边控制流量就可检知流量异常。

65. 发明专利

TW445401B 平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置有权
简体标题：平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW445401B
公开(公告)日：2001-07-11
申请号：TW089107095
申请日：2000-04-15
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 杉山一彥 , 深澤和夫 , 小泉浩 , 長岡秀樹 , 皆見幸男 , 西野功二 , 土肥亮介 , 米華克典 , 池田信一 , 山路道雄 , 森本明弘 , 宇野富雄 , 出田英二 , 松本篤志 , 上野山豊已
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0658 , G05D7/0664 , Y10S438/935 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/86389 , Y10T137/87877 , Y10T137/87917
摘要：一種平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體的可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置，從壓力調整用的l個調整器平行配設複數條流路之流體供應裝置中，使各流路之流體供應的開關操作不致對其他流路之穩態供應造成過大的變動。因此，在各流路上配設流量控制用質量流控制器MFC或壓力式流量控制裝置FCS，某流路之流體供給自關閉而開啟時，構成從其流路之質量流控制器MFC動作開始僅延遲預定的延遲時間△t到達設定流量Qs。
又，利用l台壓力式流量控制裝置可高精度流量控制複數氣體種類及實現其裝置。因此，以臨界壓力比以下的條件理論性導出通過孔口的氣體流量，根據該式定義流動係數，利用該流動係數形成可對應多數之氣體種類者。
亦即，將孔口8的上游側壓力P1保持在下游壓力P2約2倍以上的狀態下，通過孔口的氣體運算流量Qc以 Qc=KP1(K為常數)運算之流量控制方法中，各種類氣體係以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2計算流動係數FF，氣體種類A的運算流量為QA時，在同一孔口、同一上游側壓力及同一上游側溫度的條件下使氣體種類B流通時，以其運算流量QvB作為QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中，γS為氣體的標準狀態密度，κ為氣體的比熱比，R為氣體常數，k為未依據氣體種類之比例常數，FFvA.FFvB為氣體種類A.B的流動係數。
简体摘要：一种平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体的可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备，从压力调整用的l个调整器平行配设复数条流路之流体供应设备中，使各流路之流体供应的开关操作不致对其他流路之稳态供应造成过大的变动。因此，在各流路上配设流量控制用质量流控制器MFC或压力式流量控制设备FCS，某流路之流体供给自关闭而打开时，构成从其流路之质量流控制器MFC动作开始仅延迟预定的延迟时间△t到达设置流量Qs。又，利用l台压力式流量控制设备可高精度流量控制复数气体种类及实现其设备。因此，以临界压力比以下的条件理论性导出通过孔口的气体流量，根据该式定义流动系数，利用该流动系数形成可对应多数之气体种类者。亦即，将孔口8的上游侧压力P1保持在下游压力P2约2倍以上的状态下，通过孔口的气体运算流量Qc以 Qc=KP1(K为常数)运算之流量控制方法中，各种类气体系以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2计算流动系数FF，气体种类A的运算流量为QA时，在同一孔口、同一上游侧压力及同一上游侧温度的条件下使气体种类B流通时，以其运算流量QvB作为QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中，γS为气体的标准状态密度，κ为气体的比热比，R为气体常数，k为未依据气体种类之比例常数，FFvA.FFvB为气体种类A.B的流动系数。

66. 发明专利

TWI539045B 矽晶圓及半導體裝置有权
简体标题：硅晶圆及半导体设备
公开(公告)号：TWI539045B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW100104141
申请日：2011-02-08
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 , TERAMOTO, AKINOBU , 諏訪智之 , SUWA, TOMOYUKI
IPC分类号： C30B33/02 , C30B29/06 , H01L29/78
CPC分类号： H01L21/0201 , C30B29/06 , C30B33/02 , H01L21/324 , H01L21/67126 , H01L21/67757 , H01L29/34 , H01L29/66568 , H01L29/78

67. 发明专利

TWI487565B 廢氣處理方法及廢氣處理裝置失效
简体标题：废气处理方法及废气处理设备
公开(公告)号：TWI487565B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW099133966
申请日：2010-10-06
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：鈴木克昌 , SUZUKI, KATSUMASA , 迫田薰 , SAKODA, KAORU , 石原良夫 , ISHIHARA, YOSHIO , 大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI
IPC分类号： B01D53/82 , B01D53/70
CPC分类号： B01D53/685 , B01D53/0438 , B01D53/70 , B01D2251/404 , B01D2251/602 , B01D2251/604 , B01D2253/1124 , B01D2253/304 , B01D2253/311 , B01D2257/2047 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216

68. 发明专利

TWI486108B 配線基板及其製造方法有权
简体标题：配线基板及其制造方法
公开(公告)号：TWI486108B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW098117955
申请日：2009-06-01
申请人：國立大學法人東北大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY , 大昌電子股份有限公司 , DAISHO DENSHI CO., LTD.
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 後藤哲也 , GOTO, TETSUYA
IPC分类号： H05K3/38 , H05K3/18
CPC分类号： H05K3/381 , H05K3/388 , H05K3/421 , H05K3/4644 , H05K2201/0179 , H05K2203/095 , Y10T29/49124

69. 发明专利

TWI465155B 半導體製造裝置用構件及其洗淨方法有权
简体标题：半导体制造设备用构件及其洗净方法
公开(公告)号：TWI465155B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW095125606
申请日：2006-07-13
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 日本陶瓷科技股份有限公司 , NIHON CERATEC CO., LTD.
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 , TERAMOTO, AKINOBU , 森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 岸幸男 , KISHI, YUKIO , 大瀧浩通 , OHTAKI, HIROMICHI , 傳井美史 , TSUTAI, YOSHIHUMI
IPC分类号： H05H1/46 , B08B3/00
CPC分类号： C23C4/00 , B08B3/02 , B08B3/12 , B08B2203/0288 , C23C4/02 , C23C4/11 , C23C16/405 , C23C16/545 , C23C26/00 , C23C28/04 , Y10T428/25 , Y10T428/252

70. 发明专利

TWI425637B 半導體裝置有权
简体标题：半导体设备
公开(公告)号：TWI425637B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW095148125
申请日：2006-12-21
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 財團法人國際科學振興財團 , FOUNDATION FOR ADVANCEMENT OF INTERNATIONAL SCIENCE
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 寺本章伸 , TERAMOTO, AKINOBU , 渡邊一史 , WATANABE, KAZUFUMI
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/8238
CPC分类号： H01L27/1211 , H01L21/823807 , H01L21/823821 , H01L21/823878 , H01L29/045 , H01L29/785 , H01L2029/7857

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