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51. 发明申请

WO2011023765A1 METROLOGY MODULE FOR LASER SYSTEM 审中-公开
标题翻译：激光系统计量模块
公开(公告)号：WO2011023765A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/EP2010/062482
申请日：2010-08-26
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , MÜNZ, Holger , ANDERL, Willi , KRAUS, Johannes , HEINRICH, Andreas
发明人： MÜNZ, Holger , ANDERL, Willi , KRAUS, Johannes , HEINRICH, Andreas
IPC分类号： G02B27/12 , G02B27/14 , H01S3/097 , G01J4/04 , G03F7/20 , G02B27/28 , G01J1/42
CPC分类号： G01J4/04 , G01J1/4257 , G02B27/10 , G02B27/1073 , G02B27/108 , G03F7/70025 , G03F7/70566 , G03F7/7085 , H01S3/02
摘要： A laser system (100) includes a laser (110), a housing (101) including the laser and a first chamber (120) arranged to receive laser radiation from the laser during operation of the laser system. The system also includes a first optical element (220) separating the first chamber from an adjacent chamber, the first optical element (220) being arranged in a path of the laser radiation (201) and forming a window between the first chamber (225) and the adjacent chamber; a beamsplitter (210) arranged in the path of the radiation (201) either upstream or downstream from the first optical element (220); and a radiation detection device (240). During operation of the system, the beamsplitter (210) receives the laser radiation (201), transmits a first portion of the laser radiation as a main beam (201) and directs a second portion (202, 203) of the laser radiation as a first sub-beam towards the radiation detection device.
摘要翻译：激光系统（100）包括激光器（110），包括激光器的壳体（101）和布置成在激光系统的操作期间接收来自激光器的激光辐射的第一腔室（120）。该系统还包括将第一腔室与相邻腔室分开的第一光学元件（220），第一光学元件（220）被布置在激光辐射（201）的路径中，并且在第一腔室（225）和相邻的室; 在所述第一光学元件（220）的上游或下游布置在所述辐射路径（201）中的分束器（210）; 和放射线检测装置（240）。在系统操作期间，分束器（210）接收激光辐射（201），将激光辐射的第一部分作为主光束（201）传输，并将激光辐射的第二部分（202,203）引导为朝向辐射检测装置的第一子光束。

52. 发明申请

WO2011012503A1 OPTISCHES SYSTEM ZUM ERZEUGEN EINES LICHTSTRAHLS ZUR BEHANDLUNG EINES SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：光学系统，用于产生射束处理衬底
公开(公告)号：WO2011012503A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/060504
申请日：2010-07-20
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael , ZENZINGER, Markus , MUENZ, Holger
发明人： WANGLER, Johannes , LAYH, Michael , ZENZINGER, Markus , MUENZ, Holger
IPC分类号： G02B27/09 , B23K26/06 , B23K26/073
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/0608 , B23K26/0676 , B23K26/0732 , B23K26/0738
摘要： Ein optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines in einer Substrat ebene (14) angeordneten Substrats, wobei der Lichtstrahl in einer ersten Dimension (X) senkrecht zur Ausbreitungsrichtung (Z) des Lichtstrahls eine Strahllänge (L) und in einer zweiten Dimension (Y) senkrecht zur ersten Dimension (X) und zur Lichtausbreitungsrichtung (Z) eine Strahlbreite (B) aufweist, wobei die Strahllänge (L) groß gegenüber der Strahlbreite (B) ist, weist eine erste optische Anordnung (18) auf, die eine Mehrzahl von in der ersten Dimension (X) nebeneinander angeordneten Lichtkanälen (26; 28) definiert, die den Lichtstrahl in der ersten Dimension (X) in eine Mehrzahl von Teilfeldern (30, 32, 34) aufteilen, wobei die Teilfelder (30, 32, 34) in der ersten Dimension (X) einander überlagert in die Substratebene (14) einfallen. Eine zweite optische Anordnung (20) ist in Lichtausbreitungsrichtung vor der ersten optischen Anordnung (18) angeordnet, die in der ersten Dimension (X) eine solche Ausdehnung aufweist und ein Winkelspektrum des auf die zweite optische Anordnung (18) einfallenden Lichtstrahls (42) in der ersten Dimension (X) so verbreitert, dass der Lichtleitwert der zweiten optischen Anordnung (20) in der ersten Dimension (X) 50% bis 100% des Gesamtlichtleitwerts des optischen Systems (10) in der ersten Dimension (X) beträgt, so dass näherungsweise alle Lichtkanäle (26; 28) der ersten optischen Anordnung (18) gleichmäßig mit Licht ausgeleuchtet sind.
摘要翻译：用于在衬底中产生用于治疗的平面的光束的光学系统（14）布置在所述衬底上，其中在第一维度（X）垂直于所述光束，光束长度（L）的传播方向（Z）的光束和在第二维度（Y ）垂直（于第一维度X）和（与光传输方向Z）的波束宽度（B），其中，所述射流长度（L）大相比，波束宽度（B），具有包括多个第一光学组件（18）在第一维（X）相邻地布置光通道（26; 28）中所定义，该光束在第一维分裂（X）成多个子场的（30，32，34），由此所述部分的面板（30，32，34 ）在彼此叠加的第一维度（X）发生在基片平面（14）。第二光学组件（20）在第一维度中的第一光学装置（18）（X）的前被布置在光传播方向具有这样的延伸和入射在第二光学装置（18）的光束（42）的角光谱所以加宽在第一维（X），即在第一维的第二光学组件（20）（X）的50％至在第一维（X）的光学系统（10）的Gesamtlichtleitwerts的100％的光电导值，从而使大致所有的光道（26; 28）的第一光学组件（18）的均匀光照射。

53. 发明申请

WO2011012263A1 HOLDING ARRANGEMENT FOR AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学元件的安装
公开(公告)号：WO2011012263A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/004514
申请日：2010-07-23
申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH , Carl Zeiss SMT GmbH , WEBER, Ulrich , HOLDERER, Hubert
发明人： WEBER, Ulrich , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G02B7/00 , G02B7/02 , G03F7/20 , H01L21/20
CPC分类号： G03F7/70825 , B23K26/02 , B23K26/035 , G02B7/003 , G02B7/028
摘要： The invention relates to a holding arrangement for an optical element with a basic structure (3) surrounding an optical element (10) to be received, and a mounting device (4) by means of which the optical element (10) can be supported on the basic structure (3) with two degrees of freedom for a rotational movement about an optical axis (z) and a translational movement along a first axis (x) which extends perpendicularly to the optical axis (z) and intersects the optical axis (z) in a centre (0), the mounting device (4) comprising four joint locations (4a, 4b, 4c, 4d) arranged point-symmetrically with respect to the centre (0) and at least one parallel rockers (51, 52) which is displaceable parallel to the first axis. The invention further relates to a manipulator unit with a holding arrangement.
摘要翻译：本发明涉及一种具有围绕要被接收的光学元件（10）的基本结构（3）的光学元件的保持装置，以及安装装置（4），光学元件（10）可通过该装置支撑在具有用于围绕光轴（z）的旋转运动的两个自由度的基本结构（3）和沿着垂直于光轴（z）延伸并与光轴（z）相交的第一轴线（x）的平移运动）在中心（0）中，所述安装装置（4）包括相对于所述中心（0）点对称布置的四个关节位置（4a，4b，4c，4d）和至少一个平行的摇臂（51,52）其可平行于第一轴线移动。本发明还涉及具有保持装置的操纵器单元。

54. 发明申请

WO2007141185A2 HOMOGENIZER WITH REDUCED INTERFERENCE 审中-公开
标题翻译：均质机减少干扰
公开(公告)号：WO2007141185A2
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/EP2007/055323
申请日：2007-05-31
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , EGGER, Rafael , MÜNZ, Holger
发明人： EGGER, Rafael , MÜNZ, Holger
IPC分类号： G02B27/48 , G02B27/09 , H01S3/00 , B23K26/06
CPC分类号： B23K26/0604 , B23K26/0613 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , G03F7/70583 , H01S3/005
摘要： The invention relates to a method for creating a target intensity distribution (20) in a target field (3) from a first input light beam (4) propagating in a first propagation direction and a second input light beam (5), whereby said first input light beam (4) and said second input light beam (5) entering a light entrance surface (6a, 6b) of a cylindrical lens array (1a) of a homogenizer. According to the invention said second input light beam (5) propagates in a second propagation direction differing from said first propagation direction. The invention further relates to an optical system for creating a target intensity distribution (20) in a target field (3) comprising: a first light source for generating a first input light beam (4) and a second light source for generating a second input light beam (5), or a single light source for generating a light beam and a beam splitter for splitting said light beam into said first input light beam and said second input light beam, a first directing device for directing said first input light beam (4) to propagate in a first propagation direction and a ho mogenizer having a cylindrical lens array (1a) with a light entrance surface (6a, 6b) for being entered by said first input light beam (4) and said second input light beam (5). According to the invention there exists a second directing device for directing said second input light beam (5) propagating in a second propagation direction differing from said first propagation direction when entering said light entrance surface (6a, 6b).
摘要翻译：本发明涉及一种用于在从第一传播方向传播的第一输入光束（4）和第二输入光束（5）中产生目标场（3）中的目标强度分布（20）的方法，其中所述第一输入光束（4）和所述第二输入光束（5）进入均质器的柱面透镜阵列（1a）的光入射表面（6a，6b）。根据本发明，所述第二输入光束（5）沿与第一传播方向不同的第二传播方向传播。本发明还涉及一种用于在目标场（3）中产生目标强度分布（20）的光学系统，包括：第一光源，用于产生第一输入光束（4）和第二光源，用于产生第二输入光束（5）或用于产生光束的单个光源和用于将所述光束分成所述第一输入光束和所述第二输入光束的分束器，用于引导所述第一输入光束（ 4）在第一传播方向上传播，具有柱面透镜阵列（1a）的具有光入射表面（6a，6b）的霍尔发生器由所述第一输入光束（4）和所述第二输入光束（ 5）。根据本发明，当进入所述光入射表面（6a，6b）时，存在用于引导在与所述第一传播方向不同的第二传播方向上传播的所述第二输入光束（5）的第二引导装置。

55. 发明申请

WO2007122060A1 ANORDNUNG ZUM HERSTELLEN EINER RANDSCHARFEN BELEUCHTUNGSLINIE SOWIE ANORDNUNG ZUM ERHÖHEN DER ASYMMETRIE DES STRAHLPARAMETERPRODUKTS 审中-公开
标题翻译：安排生产RAND照明清晰的线和制度安排增爆破参数产品的不对称
公开(公告)号：WO2007122060A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/EP2007/053029
申请日：2007-03-29
申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH , MUENZ, Holger
发明人： MUENZ, Holger
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/48 , H01S3/00
CPC分类号： G02B27/0905 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0977 , H01S3/005
摘要： Die Erfindung betrifft eine Anordnung (100) zum Erhöhen der Asymmetrie der Strahldivergenz eines sich in einer Ausbreitungsrichtung (z) ausbreitenden Einfallsstrahlbündels (2), wobei das Einfallsstrahlbündel (2) senkrecht zu der Ausbreitungsrichtung (z) eine räumliche Ausdehnung in einer ersten Richtung (y) und eine räumliche Ausdehnung in einer zu der Ausbreitungsrichtung (z) senkrechten und einer zu der ersten Richtung (y) senkrechten zweiten Richtung (x) aufweist, wobei das Einfallsstrahlbündel (2) eine Strahldivergenz in der zweiten Richtung (x) und eine gleich große oder kleinere Strahldivergenz in der ersten Richtung (y) aufweist. Erfindungsgemäß ist eine Anordnung zur Transformation des Einfallsstrahlbündels (2) vorgesehen, welche eine Strahlunterteileinrichtung (3) und eine Umsortiereinrichtung (6, 8) umfasst. Die Strahlunterteileinrichtung vorgesehen, um das Einfallsstrahlbündel (2) in der ersten Richtung (y) in wenigstens zwei Teilstrahlbündel (4a, 4b, 4c, 4d) derart zu unterteilen, dass jedes Teilstrahlbündel (4a, 4b, 4c, 4d) eine entsprechend der Teilung reduzierte räumliche Ausdehnung in der ersten Richtung (y) und eine räumliche Ausdehnung in der zweiten Richtung (x) aufweist. Die Umsortiereinrichtung (6, 8) dient dem Zweck, wenigstens zwei der Teilstrahlbündel (4a, 4b, 4c, 4d) derart umzusortieren, dass die umsortierten Teilstrahlbündel (9a, 9b, 9c, 9d) mit ihren jeweiligen räumlichen Ausdehnungen in der ersten Richtung (y) nebeneinander oder wenigstens teilweise überlappend angeordnet sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于提高传播的光束发散的非对称性中的传播方向（z）入射光束束（2）的装置（100），其中，所述入射光束（2）在垂直于传播方向（z）是在第一方向上的空间维度（y 有），并在一个空间范围（于传播方向z）垂直并垂直于所述第二方向（x），则入射光束束（第一方向Y）（2）具有一个光束发散（在第二方向x）和同样大在第一方向（y）或更小的光束发散。根据本发明，提供了一种用于将入射光束束（2）的转变的装置，其包括一光束分割装置（3）和一个Umsortiereinrichtung（6，8）。光束分割提供给在至少两个部分光束（4A，4B，4C，4D）以这样的方式进行划分的第一方向（y）的入射光束（2）意味着，每个部分光束束（4A，4B，4C，4D）一个对应于音调在第一方向（y）和在第二方向（x）的一个空间范围减小空间范围。所述Umsortiereinrichtung（6,8）供应的至少两个分光束（4A，4B，4C，4D）重新排列这样的目的，所述重新排序的部分光束束（9A，9B，9C，9D）在第一方向上其各自的空间范围（ y）的并排设置或彼此至少部分重叠。

56. 发明授权

US09042032B2 Optical arrangement for converting an incident light beam, method for converting a light beam to a line focus, and optical device therefor 有权
标题翻译：用于转换入射光束的光学装置，用于将光束转换成线焦点的方法及其光学装置
公开(公告)号：US09042032B2
公开(公告)日：2015-05-26
申请号：US14074207
申请日：2013-11-07
申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH
发明人： Holger Muenz
IPC分类号： G02B27/09 , G02B5/00
CPC分类号： G02B27/095 , G02B5/001 , G02B27/0911 , G02B27/0927 , G02B27/0972 , G02B27/0977
摘要： In a method for converting a light beam to a line focus, wherein the line focus extends according to its length along a first direction (y) and is narrow in a second direction (x) perpendicular to the first direction (y), the light beam is directed onto at least one conical optically operative surface, by which it is converted to the line focus. The light beam is directed onto the at least one optically operative surface with a ring-segment-shaped cross section transversely with respect to the light propagation direction. A device, in particular for carrying out the method, and an optical arrangement for generating a light beam with a ring-segment-shaped cross section are likewise described. In accordance with a further method and a further device, a line focus is generated only with spherical and/or cylindrical elements.
摘要翻译：在用于将光束转换成线对焦的方法中，其中线焦点沿着其沿第一方向（y）的长度延伸并且在垂直于第一方向（y）的第二方向（x）上窄，光束被引导到至少一个锥形光学操作表面上，由此将其转换成线对焦。光束被引导到至少一个光学操作表面上，其横截面相对于光传播方向具有环形截面形状的横截面。同样描述了特别是用于实施该方法的装置和用于产生具有环形截面形状的横截面的光束的光学装置。根据另外的方法和另外的装置，只产生球形和/或圆柱形元件的线焦点。

57. 发明授权

US08342701B2 Reflective optical element for use in an EUV system 有权
标题翻译：用于EUV系统的反光光学元件
公开(公告)号：US08342701B2
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：US12851187
申请日：2010-08-05
申请人： Holger Kierey , Michel Le Maire , Willi Anderl , Hubert Holderer , Anton Lengel
发明人： Holger Kierey , Michel Le Maire , Willi Anderl , Hubert Holderer , Anton Lengel
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B7/181 , G02B7/1815
摘要： A reflective optical element for use in an EUV system is disclosed. The reflective optical element includes a base body, which is produced at least partly from a substrate material. At least one cooling channel through which a cooling medium can flow is arranged in the base body. A material having a thermal conductivity of greater than 50 W/mK is provided as substrate material. The reflective optical element also includes a polishing layer, which is applied on the substrate material. The polishing layer includes an amorphous material which can be processed via polishing.
摘要翻译：公开了一种用于EUV系统的反射光学元件。反射型光学元件包括至少部分地由基底材料制成的基体。冷却介质可以流过的至少一个冷却通道布置在基体中。提供具有大于50W / mK的热导率的材料作为基材。反射光学元件还包括施加在基板材料上的抛光层。抛光层包括可通过研磨加工的非晶材料。

58. 发明授权

US07944615B2 Optical system and method for shaping a profile of a laser beam 有权
标题翻译：用于成形激光束轮廓的光学系统和方法
公开(公告)号：US07944615B2
公开(公告)日：2011-05-17
申请号：US12097937
申请日：2006-12-20
申请人： Vitaliy Shklover , Holger Muenz , Michel Le Maire , Christian Hoess
发明人： Vitaliy Shklover , Holger Muenz , Michel Le Maire , Christian Hoess
IPC分类号： G02B27/14
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0652 , G02B27/0972 , G02B27/0977
摘要： An optical system for shaping an incoming beam having a divergence with an angular distribution at least in a first direction comprises at least one angle selective optical element for clipping the angular distribution in the at least first direction. The approach according to the present invention bases on using an angle-selective device operated by the principle of total internal reflection to reduce divergence of the incoming beam, in contrast to a spatially-selective device as for example a field-stop or slit. The method according to the present invention has the advantage that no physical sharp edges have to be exposed at high energy densities. Thus, thermal impact and demands on the optical elements to withstand a high power laser beam are significantly reduced.
摘要翻译：用于使具有至少在第一方向上具有角度分布的发散的入射光束成形的光学系统包括用于限制至少第一方向上的角分布的至少一个角度选择光学元件。根据本发明的方法基于使用通过全内反射原理操作的角度选择装置，以减少入射光束的发散，与空间选择装置（例如场停止或狭缝）相反。根据本发明的方法的优点在于，不能以高的能量密度暴露出物理的锋利边缘。因此，热冲击和对承受高功率激光束的光学元件的要求显着降低。

59. 发明申请

US20110051267A1 REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR USE IN AN EUV SYSTEM 有权
标题翻译：在EUV系统中使用的反射光学元件
公开(公告)号：US20110051267A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：US12851187
申请日：2010-08-05
申请人： Holger Kierey , Michel Le Maire , Willi Anderl , Hubert Holderer , Anton Lengel
发明人： Holger Kierey , Michel Le Maire , Willi Anderl , Hubert Holderer , Anton Lengel
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B7/181 , G02B7/1815
摘要： A reflective optical element (10) for use in an EUV system is disclosed. The reflective optical element includes a base body, which is produced at least partly from a substrate material. At least one cooling channel through which a cooling medium can flow is arranged in the base body. A material having a thermal conductivity of greater than 50 W/mK is provided as substrate material. The reflective optical element also includes a polishing layer, which is applied on the substrate material. The polishing layer includes an amorphous material which can be processed via polishing.
摘要翻译：公开了一种用于EUV系统的反射光学元件（10）。反射型光学元件包括至少部分地由基底材料制成的基体。冷却介质可以流过的至少一个冷却通道布置在基体中。提供具有大于50W / mK的热导率的材料作为基材。反射光学元件还包括施加在基板材料上的抛光层。抛光层包括可通过研磨加工的非晶材料。

60. 发明申请

US20100079765A1 METHOD FOR MEASURING A SPECTRUM OF A NARROWBAND LIGHT SOURCE, AND SPECTROMETER ARRANGEMENT 有权
标题翻译：用于测量窄带光源的光谱的方法和光谱仪布置
公开(公告)号：US20100079765A1
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：US12558874
申请日：2009-09-14
申请人： Johannes Kraus , Alois Herkommer , Bernhard Weigl , Michel Le Maire , Holger Muenz
发明人： Johannes Kraus , Alois Herkommer , Bernhard Weigl , Michel Le Maire , Holger Muenz
IPC分类号： G01J3/45
CPC分类号： G01J3/26 , G01J3/36
摘要： A spectrometer arrangement for measuring a spectrum of a light beam emitted by a narrowband light source, such as a bandwidth-narrowed laser, includes at least one etalon, a beam splitter for splitting the light beam into a first partial beam and a second partial beam, one or more optical directing elements for directing the first partial beam n times and the second partial beam (n+k) times through the at least one etalon, wherein n and k are integers ≧1. The spectrometer arrangement further has at least one light-sensitive detector and an evaluation device for evaluating the spectra—recorded by the at least one detector—of the first partial beam that has passed through the at least one etalon n times and of the second partial beam that has passed through the at least one etalon (n+k) times in order to determine the light spectrum corrected for the apparatus function of the at least one etalon.
摘要翻译：用于测量由窄带光源（例如带宽变窄的激光器）发射的光束的光谱的光谱仪装置包括至少一个标准具，用于将光束分成第一部分光束的分束器和第二部分光束一个或多个用于通过至少一个标准具指导第一部分光束n次和第二部分光束（n + k）的光学引导元件，其中n和k是整数≥1。光谱仪布置还具有至少一个光敏检测器和评估装置，用于评估已经通过至少一个标准具的第一部分光束的至少一个检测器记录的光谱n次和第二部分光束已经通过至少一个标准具（n + k）次的光束，以便确定校正了至少一个标准具的装置功能的光谱。

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