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    • 43. 发明授权
    • 나노임프린트를 이용한 패턴 형성방법
    • 使用纳米压印的图案形成方法
    • KR101088359B1
    • 2011-12-01
    • KR1020100026302
    • 2010-03-24
    • 한국기계연구원
    • 박형호정준호최대근김기돈최준혁이지혜이응숙전소희박성제이순원김사라
    • H01L21/027
    • 본 발명은 나노임프린트를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로서, 본 발명의 제1실시형태에 의한 나노임프린트를 이용한 패턴 형성방법은, 기판상에, 금속원소에 에너지선 또는 열 중 적어도 하나에 의하여 분해가능한 유기물 리간드가 결합하여 이루어진 금속-유기물 전구체 조성물을 코팅하는 단계; 몰드를 상기 코팅된 금속-유기물 전구체 조성물상에 가압하는 단계; 가열 또는 에너지선 조사 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 상기 조성물에 패턴을 임프린팅하여, 상기 기판상에 금속 산화박막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속 산화박막 패턴의 전면을 건식 식각에 의하여 에칭하는 단계를 포함하며, 상기 에칭단계에 의하여 상기 금속 산화박막 패턴 중 오목부(凹部)에 해당하는 부분의 기판이 함께 식각됨으로써, 상기 금속 산화박막 패턴의 두께 방향으로의 단면 형상에 상응하는 요철로 이루어진 패턴이 상기 기판 자체에 형성되는 것을 특징으로 한다.
      본 발명에 따르면, 광 추출 효율이 극대화된 나노 패턴을 형성할 수 있고, 금속 산화물 이외에 정밀하고 미세한 패턴 형성이 요구되는 재질로 패턴을 형성할 수 있으며, 아울러, 나노막대의 정밀한 정렬 및 밀도 조절이 용이하게 수행될 수 있다.
    • 本发明涉及一种图案形成方法,使用纳米压印,使用根据本发明的第一实施方式的纳米压印的图案形成方法被分解在基板上,由能量射线或热的金属元素中的至少一个可以 涂覆包含与其结合的有机配体的金属有机前体组合物; 将模具压在涂覆的金属有机前体组合物上; 使用加热和能量束照射中的至少一种在组合物上压印图案以在基板上形成金属氧化物薄膜图案; 并且通过干法蚀刻来蚀刻金属氧化物薄膜图案的整个表面,其中与金属氧化物薄膜图案一起蚀刻对应于凹部的金属氧化物薄膜图案的一部分, 由凹凸对应于横截面形状的薄膜图案的厚度方向的图案的特征在于,形成在基板本身。
    • 44. 发明公开
    • 나노임프린트를 이용한 패턴 형성방법
    • 使用NANOIMPRINT形成图案的方法
    • KR1020110107120A
    • 2011-09-30
    • KR1020100026302
    • 2010-03-24
    • 한국기계연구원
    • 박형호정준호최대근김기돈최준혁이지혜이응숙전소희박성제이순원김사라
    • H01L21/027
    • H01L21/0274G03F7/0027
    • 본 발명은 나노임프린트를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로서, 본 발명의 제1실시형태에 의한 나노임프린트를 이용한 패턴 형성방법은, 기판상에, 금속원소에 에너지선 또는 열 중 적어도 하나에 의하여 분해가능한 유기물 리간드가 결합하여 이루어진 금속-유기물 전구체 조성물을 코팅하는 단계; 몰드를 상기 코팅된 금속-유기물 전구체 조성물상에 가압하는 단계; 가열 또는 에너지선 조사 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 상기 조성물에 패턴을 임프린팅하여, 상기 기판상에 금속 산화박막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속 산화박막 패턴의 전면을 건식 식각에 의하여 에칭하는 단계를 포함하며, 상기 에칭단계에 의하여 상기 금속 산화박막 패턴 중 오목부(凹部)에 해당하는 부분의 기판이 함께 식각됨으로써, 상기 금속 산화박막 패턴의 두께 방향으로의 단면 형상에 상응하는 요철로 이루어진 패턴이 상기 기판 자체에 형성되는 것을 특징으로 한다.
      본 발명에 따르면, 광 추출 효율이 극대화된 나노 패턴을 형성할 수 있고, 금속 산화물 이외에 정밀하고 미세한 패턴 형성이 요구되는 재질로 패턴을 형성할 수 있으며, 아울러, 나노막대의 정밀한 정렬 및 밀도 조절이 용이하게 수행될 수 있다.