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41. 发明专利

TWI481740B 原料氣化供給裝置有权
简体标题：原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI481740B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW101123716
申请日：2012-07-02
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485

42. 发明专利

TWI480531B 壓力檢測器之安裝構造有权
简体标题：压力检测器之安装构造
公开(公告)号：TWI480531B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW103109920
申请日：2014-03-17
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 日本電產科寶電子股份有限公司 , NIDEC COPAL ELECTRONICS CORPORATION
发明人：土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 深澤政紀 , FUKAZAWA, MASANORI , 石黒勝巳 , ISHIGURO, KATSUMI
IPC分类号： G01L19/00
CPC分类号： F16L21/03 , F16L21/04 , F16L41/008 , G01L9/0051 , G01L19/003 , G01L19/145 , G01L19/147

43. 发明专利

TWI474865B 氣化器有权
简体标题：气化器
公开(公告)号：TWI474865B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481

44. 发明专利

TWI470187B 氣體供應裝置用流量控制器之流量測量裝置及流量測量方法有权
简体标题：气体供应设备用流量控制器之流量测量设备及流量测量方法
公开(公告)号：TWI470187B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW100145975
申请日：2011-12-13
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE
IPC分类号： G01F1/00 , G01F15/02 , G01F25/00 , G05D16/20
CPC分类号： G01F5/00 , G01F1/34 , G01F1/86 , G01F15/046

45. 发明专利

TW201441412A 原料氣化供應裝置审中-公开
简体标题：原料气化供应设备
公开(公告)号：TW201441412A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW102143011
申请日：2013-11-26
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , C23C16/52 , F17C9/02 , F22B1/284 , F22B1/285
摘要：本發明係無論是固體原料或液體原料，都能讓大多數的原料氣體不引起熱分解地成為期望之高溫、高蒸氣壓的原料氣體，藉此可將高純度且期望濃度的原料氣體以高精度進行流量控制的同時，穩定供應給處理室。本發明之原料氣體供應裝置，係具備：原料接收槽、將從液體接收槽壓送來的液體加以氣化的氣化器、來自氣化器之原料氣體流量加以調整的流量控制裝置、以及用來加熱氣化器和高溫型壓力式流量控制裝置和與此等連接之流路的期望部分的加熱裝置，而且至少對將前述原料接收槽和氣化器和流量控制裝置和前述各機器裝置間加以連結的流路及將介設在流路的開關閥中任一者之金屬表面的各液體接觸部或氣體接觸部，進行Al2O3鈍化處理或Cr2O3鈍化處理或FeF2鈍化處理。
简体摘要：本发明系无论是固体原料或液体原料，都能让大多数的原料气体不引起热分解地成为期望之高温、高蒸气压的原料气体，借此可将高纯度且期望浓度的原料气体以高精度进行流量控制的同时，稳定供应给处理室。本发明之原料气体供应设备，系具备：原料接收槽、将从液体接收槽压送来的液体加以气化的气化器、来自气化器之原料气体流量加以调整的流量控制设备、以及用来加热气化器和高温型压力式流量控制设备和与此等连接之流路的期望部分的加热设备，而且至少对将前述原料接收槽和气化器和流量控制设备和前述各机器设备间加以链接的流路及将介设在流路的开关阀中任一者之金属表面的各液体接触部或气体接触部，进行Al2O3钝化处理或Cr2O3钝化处理或FeF2钝化处理。

46. 发明专利

TWI452610B 半導體製造設備用之氣體供給裝置有权
简体标题：半导体制造设备用之气体供给设备
公开(公告)号：TWI452610B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW097130660
申请日：2008-08-12
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/52

47. 发明专利

TWI445058B 原料的氣化供給裝置有权
简体标题：原料的气化供给设备
公开(公告)号：TWI445058B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW101108841
申请日：2012-03-15
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45512 , C23C16/4481 , C23C16/45557 , C23C16/52 , Y10T137/7837

48. 发明专利

TWI434161B 流量比可變式流體供給裝置有权
简体标题：流量比可变式流体供给设备
公开(公告)号：TWI434161B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW096121378
申请日：2007-06-13
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/00
CPC分类号： G05D7/0664 , Y10T137/85938 , Y10T137/87314 , Y10T137/87539

49. 发明专利

TWI405059B 熱式質量流量調整器用之自動壓力調整器有权
简体标题：热式质量流量调整器用之自动压力调整器
公开(公告)号：TWI405059B
公开(公告)日：2013-08-11
申请号：TW098114862
申请日：2009-05-05
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06 , G05D16/20
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7761

50. 发明专利

TW201301637A 電化學元件审中-公开
简体标题：电化学组件
公开(公告)号：TW201301637A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101121531
申请日：2012-06-15
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：西野敦 , NISHINO, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 絹田精鎮 , KINUTA, SEICHIN , 齋田克明 , SAITA, YOSHIAKI , 小林將士 , KOBAYASHI, MASASHI
IPC分类号： H01M2/36 , B05B17/06
CPC分类号： H01G11/04 , H01G11/14 , H01G11/58 , H01G11/84 , H01M2/361 , Y02E60/13
摘要：本發明之目的係提供一種能供給高濃度、高黏度之電解液的電化學元件。電解液係在瞬間以微量、分散定量供給至電化學元件。
简体摘要：本发明之目的系提供一种能供给高浓度、高黏度之电解液的电化学组件。电解液系在瞬间以微量、分散定量供给至电化学组件。

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