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41. 发明专利

TWI643046B 壓力式流量控制裝置及流量自診斷方法有权
简体标题：压力式流量控制设备及流量自诊断方法
公开(公告)号：TWI643046B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106110577
申请日：2017-03-29
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D16/20 , G05D16/02 , G05D7/06 , G05B23/02

42. 发明专利

TW201837432A 流量測量方法及流量測量裝置审中-公开
简体标题：流量测量方法及流量测量设备
公开(公告)号：TW201837432A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107104661
申请日：2018-02-09
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F15/02 , G01F25/00 , G05D16/20 , G05D7/06
摘要：流量測量方法，是在氣體供給系統進行，該氣體供給系統具有：複數個氣體供給路，其具備第1閥；以及共通氣體供給路，其形成在複數個氣體供給路的下游側且具備流量測量裝置，該流量測量裝置具有：壓力感測器、溫度感測器、以及下游側的第2閥，該方法包含以下工序：第1工序，是使任一個第1閥與第2閥打開來流動氣體，在流動有氣體的狀態下使第2閥關閉，在經過既定時間後使任一個第1閥關閉，並測量將第1閥關閉之後的壓力及溫度；第2工序，是使任一個第1閥與第2閥打開來流動氣體，在流動有氣體的狀態下使任一個第1閥及第2閥同時關閉，並測量將第1閥及第2閥關閉之後的壓力及溫度；以及第3工序，是根據在第1工序所測量的壓力及溫度、在第2工序所測量的壓力及溫度，來演算流量。
简体摘要：流量测量方法，是在气体供给系统进行，该气体供给系统具有：复数个气体供给路，其具备第1阀；以及共通气体供给路，其形成在复数个气体供给路的下游侧且具备流量测量设备，该流量测量设备具有：压力传感器、温度传感器、以及下游侧的第2阀，该方法包含以下工序：第1工序，是使任一个第1阀与第2阀打开来流动气体，在流动有气体的状态下使第2阀关闭，在经过既定时间后使任一个第1阀关闭，并测量将第1阀关闭之后的压力及温度；第2工序，是使任一个第1阀与第2阀打开来流动气体，在流动有气体的状态下使任一个第1阀及第2阀同时关闭，并测量将第1阀及第2阀关闭之后的压力及温度；以及第3工序，是根据在第1工序所测量的压力及温度、在第2工序所测量的压力及温度，来演算流量。

43. 发明专利

TW201829985A 濃度檢測方法及壓力式流量控制裝置审中-公开
简体标题：浓度检测方法及压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW201829985A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106133342
申请日：2017-09-28
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 相川献治 , AIKAWA, KENJI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 今井嵩浩 , IMAI, TAKAHIRO , 成冨哲央 , NARITOMI, TETSUO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 松田□博 , MATSUDA, TAKAHIRO , 西野功二 , NISHINO, KOUJI
IPC分类号： G01F1/36 , G01F25/00 , G05D16/20
摘要：一種濃度檢測方法，係檢測混合氣體中所包含的既定氣體之濃度的方法，其包含：在具備節流部、設置於節流部之上游側的上游閥及測定節流部與上游閥之間的壓力之壓力感測器的壓力式流量控制裝置中，在節流部之下游側的壓力比節流部之上游側的壓力更低的狀態下使混合氣體從上游閥之上游側流動的步驟；及藉由壓力感測器來檢測使上游閥從開啟變化至閉合之後所發生的壓力下降特性的步驟；以及基於壓力下降特性來檢測混合氣體中的既定氣體之濃度的步驟。
简体摘要：一种浓度检测方法，系检测混合气体中所包含的既定气体之浓度的方法，其包含：在具备节流部、设置于节流部之上游侧的上游阀及测定节流部与上游阀之间的压力之压力传感器的压力式流量控制设备中，在节流部之下游侧的压力比节流部之上游侧的压力更低的状态下使混合气体从上游阀之上游侧流动的步骤；及借由压力传感器来检测使上游阀从打开变化至闭合之后所发生的压力下降特性的步骤；以及基于压力下降特性来检测混合气体中的既定气体之浓度的步骤。

44. 发明专利

TW201816389A 濃度測量裝置审中-公开
简体标题：浓度测量设备
公开(公告)号：TW201816389A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106125228
申请日：2017-07-27
申请人：國立大學法人德島大學 , TOKUSHIMA UNIVERSITY , 日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：出口祥 , DEGUCHI, YOSHIHIRO , 府川 , FUKAWA, TAKASHI , 服部大輝 , HATTORI, TAIKI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 田中一輝 , TANAKA, KAZUTERU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01N21/53 , G02B6/04
摘要：濃度測量裝置(100)具備：測量單元(4)，具有被測量流體的流路(4c)、及接觸於流路之透光性的窗部(3)；和光源(1)，發出透過窗部而入射於測量單元的光；和反射構件(5)，將｢傳播於測量單元內的光｣予以反射，並使經反射的光透過窗部從測量單元射出；和光偵測器(7)，用來偵測從測量單元的窗部射出的光；和演算部(8)，依據光偵測器的偵測訊號，演算被測量流體的濃度；及光學機器(10)，將從光源發出的光導向測量單元的窗部，並將從測量單元的窗部射出的光導向光偵測器。
简体摘要：浓度测量设备(100)具备：测量单元(4)，具有被测量流体的流路(4c)、及接触于流路之透光性的窗部(3)；和光源(1)，发出透过窗部而入射于测量单元的光；和反射构件(5)，将｢传播于测量单元内的光｣予以反射，并使经反射的光透过窗部从测量单元射出；和光侦测器(7)，用来侦测从测量单元的窗部射出的光；和演算部(8)，依据光侦测器的侦测信号，演算被测量流体的浓度；及光学机器(10)，将从光源发出的光导向测量单元的窗部，并将从测量单元的窗部射出的光导向光侦测器。

45. 发明专利

TW201816313A 節流孔內置閥及壓力式流量控制裝置审中-公开
简体标题：节流孔内置阀及压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW201816313A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106125227
申请日：2017-07-27
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F16K47/08 , F16K7/16
摘要：節流孔內置閥(10)，係具備：基部(2)，係具有收容凹部(2A)、第1氣體流路(21)及第2氣體流路(22)；閥座體(12)，係具有環狀的閥座(12b)及貫穿孔(12a)；內盤(13)，係保持閥座體；閥體(11a)，係能夠抵接於閥座；以及節流孔體(14)，係包含節流孔(18)；收容凹部，係具有擴徑部(2W)及窄徑部(2N)之階梯狀的凹部，閥座體(12)係藉由受到內盤(13)按壓而保持固定於節流孔體上，第1氣體流路(21)，係通過窄徑部的壁面與節流孔體之間連通至閥室(10a)，第2氣體流路(22)，係經由節流孔體的貫穿孔及閥座體的貫穿孔連通至閥室(10a)。
简体摘要：节流孔内置阀(10)，系具备：基部(2)，系具有收容凹部(2A)、第1气体流路(21)及第2气体流路(22)；阀座体(12)，系具有环状的阀座(12b)及贯穿孔(12a)；内盘(13)，系保持阀座体；阀体(11a)，系能够抵接于阀座；以及节流孔体(14)，系包含节流孔(18)；收容凹部，系具有扩径部(2W)及窄径部(2N)之阶梯状的凹部，阀座体(12)系借由受到内盘(13)按压而保持固定于节流孔体上，第1气体流路(21)，系通过窄径部的壁面与节流孔体之间连通至阀室(10a)，第2气体流路(22)，系经由节流孔体的贯穿孔及阀座体的贯穿孔连通至阀室(10a)。

46. 发明专利

TWI592639B 液面計及液體原料氣化供給裝置有权
简体标题：液面计及液体原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI592639B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW104137016
申请日：2015-11-10
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F23/22 , C23C16/455 , B01J4/00 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/45561 , B01J4/00 , C23C16/448 , C23C16/4481 , G01F23/22 , G01F23/247 , G01F23/26 , H01L21/31 , H01L21/67248

47. 发明专利

TWI537696B 壓力式流量控制裝置及其流量控制開始時的超量防止方法有权
简体标题：压力式流量控制设备及其流量控制开始时的超量防止方法
公开(公告)号：TWI537696B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW104101810
申请日：2015-01-20
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/42
CPC分类号： G05D7/0635 , F16K7/14 , F16K7/16 , F16K31/004 , F16K31/02 , F16K31/06 , F16K31/12 , G05D7/0641 , H01L21/67253

48. 发明专利

TWI507836B 具流量監測器之流量控制裝置有权
简体标题：具流量监测器之流量控制设备
公开(公告)号：TWI507836B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW103110886
申请日：2014-03-24
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/42 , G01F1/50 , G01F15/005 , Y10T137/7761

49. 发明专利

TWI503443B 原料氣化供應裝置有权
简体标题：原料气化供应设备
公开(公告)号：TWI503443B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW102143011
申请日：2013-11-26
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , C23C16/52 , F17C9/02 , F22B1/284 , F22B1/285

50. 发明专利

TW201321547A 原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201321547A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101123716
申请日：2012-07-02
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485
摘要： [課題]可一面使用壓力式流量控制裝置，來對將固體原料或液體原料加熱所生成的原料蒸氣進行流量控制，一面安定供給至製程腔室，藉此達成原料的氣化供給裝置的小型化、及半導體製品的品質提升，並且可輕易進行原料的殘量管理。[課題解決手段]由：貯留原料的來源槽；將原料蒸氣由來源槽的內部空間部供給至製程腔室的原料蒸氣供給路；被介設在該原料蒸氣供給路，且控制供給至製程腔室的原料蒸氣流量的壓力式流量控制裝置；及將前述來源槽、供給路、及壓力式流量控制裝置加熱至設定溫度的恆溫加熱部所構成，將在來源槽的內部空間部所生成的原料蒸氣，一面藉由壓力式流量控制裝置進行流量控制，一面供給至製程腔室。
简体摘要： [课题]可一面使用压力式流量控制设备，来对将固体原料或液体原料加热所生成的原料蒸气进行流量控制，一面安定供给至制程腔室，借此达成原料的气化供给设备的小型化、及半导体制品的品质提升，并且可轻易进行原料的残量管理。[课题解决手段]由：贮留原料的来源槽；将原料蒸气由来源槽的内部空间部供给至制程腔室的原料蒸气供给路；被介设在该原料蒸气供给路，且控制供给至制程腔室的原料蒸气流量的压力式流量控制设备；及将前述来源槽、供给路、及压力式流量控制设备加热至设置温度的恒温加热部所构成，将在来源槽的内部空间部所生成的原料蒸气，一面借由压力式流量控制设备进行流量控制，一面供给至制程腔室。

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