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41. 发明专利

TWI499015B 降溫裝置及其操作方法有权
简体标题：降温设备及其操作方法
公开(公告)号：TWI499015B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW101131383
申请日：2012-08-29
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：曹承育 , TSAU, CHENG YU , 黃正忠 , HUANG, ZHENG ZHONG
IPC分类号： H01L23/24

42. 实用新型

TWM504350U 基板載具有权
简体标题：基板载具
公开(公告)号：TWM504350U
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW104203091
申请日：2015-03-02
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：江信寬 , CHIANG, HSIN KUAN , 曹承育 , TSAU, CHENG YU , 劉書謙 , LIU, JOHN , 詹逸民 , CHAN, I MIN
IPC分类号： H01L21/673 , C23C14/56

43. 发明专利

TWI483283B 電力導入裝置及其相關電漿系統有权
简体标题：电力导入设备及其相关等离子系统
公开(公告)号：TWI483283B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102108357
申请日：2013-03-08
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：劉品均 , LIU, PING CHUN , 曹承育 , TSAU, CHENG YU
IPC分类号： H01J37/32

44. 发明专利

TW201501229A 群集式真空接合系統审中-公开
简体标题：群集式真空接合系统
公开(公告)号：TW201501229A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW102122556
申请日：2013-06-25
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：曹承育 , TSAU, CHENG YU , 安翔 , AN, HSIANG
IPC分类号： H01L21/67 , B65G49/06
摘要：本發明揭露一種應用分離式接合頸的群集式真空接合系統，用來於真空環境下傳送一基板並進行相應的製程。該群集式真空接合系統包含有一腔體、至少一接合頸、一調整機構、一封合薄片以及一密封墊圈。該腔體具有至少一凸緣接頭。該接合頸設置於該凸緣接頭。該接合頸具有一封板，且該封板之表面形成有至少一開口。該調整機構設置於該腔體與該接合頸之間，用來調整該接合頸相對該腔體之一角度。該封合薄片設置於該封板之表面。該封合薄片具有至少一開口，且該封合薄片之該開口對齊該封板之該開口。該密封墊圈環繞設置於該封合薄片之該開口。
简体摘要：本发明揭露一种应用分离式接合颈的群集式真空接合系统，用来于真空环境下发送一基板并进行相应的制程。该群集式真空接合系统包含有一腔体、至少一接合颈、一调整机构、一封合薄片以及一密封垫圈。该腔体具有至少一凸缘接头。该接合颈设置于该凸缘接头。该接合颈具有一封板，且该封板之表面形成有至少一开口。该调整机构设置于该腔体与该接合颈之间，用来调整该接合颈相对该腔体之一角度。该封合薄片设置于该封板之表面。该封合薄片具有至少一开口，且该封合薄片之该开口对齐该封板之该开口。该密封垫圈环绕设置于该封合薄片之该开口。

45. 发明专利

TW201435960A 電力導入裝置及其相關電漿系統审中-公开
简体标题：电力导入设备及其相关等离子系统
公开(公告)号：TW201435960A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102108357
申请日：2013-03-08
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：劉品均 , LIU, PING CHUN , 曹承育 , TSAU, CHENG YU
IPC分类号： H01J37/32
摘要：本發明揭露一種電力導入裝置，其包含有一腔體、一套管結構以及一電力導入件。該腔體之內部設置有一電極，且該腔體之內部具有一第一壓力。該套管結構自該腔體之外部延伸設置入該腔體之內部，該套管結構之內部具有一第二壓力。該電力導入件懸空設置於該套管結構之內部，並連接於該腔體內之該電極。該電力導入裝置係利用該第一壓力與該第二壓力之壓力差提供絕緣功能。
简体摘要：本发明揭露一种电力导入设备，其包含有一腔体、一套管结构以及一电力导入件。该腔体之内部设置有一电极，且该腔体之内部具有一第一压力。该套管结构自该腔体之外部延伸设置入该腔体之内部，该套管结构之内部具有一第二压力。该电力导入件悬空设置于该套管结构之内部，并连接于该腔体内之该电极。该电力导入设备系利用该第一压力与该第二压力之压力差提供绝缘功能。

46. 发明专利

TWI411701B 電漿輔助式化學氣相沉積裝置有权
简体标题：等离子辅助式化学气相沉积设备
公开(公告)号：TWI411701B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW100114032
申请日：2011-04-22
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：楊國璽 , YANG, GWO SHII , 游正義 , YU, CHENG YI , 李曉菁 , LEE, HSIAO CHING , 陳宣任 , CHEN, HSUAN JEN
IPC分类号： C23C16/54

47. 发明专利

TWI403612B 電漿輔助式化學氣相沉積裝置有权
简体标题：等离子辅助式化学气相沉积设备
公开(公告)号：TWI403612B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW100114029
申请日：2011-04-22
申请人：精曜有限公司 , ARCHERS INC.
发明人：游正義 , YU, CHENG YI , 楊國璽 , YANG, GWO SHII , 李曉菁 , LEE, HSIAO CHING , 陳宣任 , CHEN, HSUAN JEN
IPC分类号： C23C16/513

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